CN102906635A - 取向处理方法及取向处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种取向处理方法及取向处理装置，其使涂敷了取向膜的基板与具有第一掩模图案组（6A）和第二掩模图案组（6B）的光掩模（7）靠近对置，将该基板（4）在与所述第一及第二掩模图案组（6A）、（6B）交叉的方向上移动，第一掩模图案组（6A）以一定的排列间距形成细长状的多个开口，第二掩模图案组（6B）与该第一掩模图案组（6A）平行地设置且以与所述多个开口的排列间距相同的间距形成细长状的多个开口，对所述光掩模（7）的第一及第二掩模图案组（6A）、（6B）分别照射入射角度（θ）为不同的P偏振光，在所述取向膜上交替地形成取向状态不同的条纹状的第一及第二取向区域。由此，通过一次取向处理来形成取向状态不同的二种条纹状的取向区域并缩短取向处理工序的节拍。

Description

取向处理方法及取向处理装置
技术领域
本发明涉及一种一面将基板进行移动，一面交替地形成取向状态互不相同的二种条纹状的取向区域的取向处理方法，详细地为涉及想要缩短上述取向处理工序的节拍的取向处理方法及取向处理装置。
背景技术
现有的这种取向处理方法是使用以一定的排列间距形成条纹状开口的光掩模，对涂敷了取向膜的基板自斜向进行了第一次紫外线照射之后，使基板或者基板和光掩模两者旋转180度，挪动光掩模的相对于基板的相对位置以对第一次紫外线未照射到的区域进行第二次紫外线照射（例如，参见专利文献1）。
另外，其他的取向处理方法是透过以一定的排列间距形成条纹状开口的光掩模的上述开口，自相对于基板垂直线45°方向对基板上的取向膜进行紫外线照射之后，挪动光掩模并自相对于基板垂直线逆45°方向进行偏振紫外线照射（例如，参见专利文献2）。
还有别的取向处理方法是一边使滤色基板沿其面方向移动，一边通过在与该滤色基板的移动方向正交的方向上以一定的排列间距形成有多个开口的光掩模，对涂敷了取向膜的滤色基板自斜向进行紫外线照射，对滤色基板的各像素的一半区域进行曝光之后，将曝光位置挪动一半间距，改变紫外线的照射角度并对上述各像素的剩余一半区域进行曝光（例如，参见专利文献3）。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利第4201862号公报
专利文献2:日本特开2002－31804号公报
专利文献3:日本特开2007-41175号公报
发明内容
发明要解决的课题
然而，在这种现有的取向处理方法中，由于无论哪种都是经过二次取向处理工序来形成取向状态不同的二种取向区域，因而无法缩短取向处理工序的节拍。
另外，在上述专利文献1中所述的取向处理方法中，由于是在进行了第一次的紫外线照射之后，将基板旋转180度以对第一次未被照射紫外线的区域进行第二次的紫外线照射，因而必须准备第一次紫外线照射用的光掩模及第二次紫外线照射用的光掩模这两个不同的光掩模，存在光掩模费用高这一问题。
而且，在上述专利文献1及2中所述的取向处理方法中，由于取向处理为批处理，因而难以使得单位时间的基板取向处理个数增加。
并且，在上述专利文献3中所述的取向处理方法中，虽然可以一边连续地供给基板，一边进行取向处理，但是需要在基板的移动方向上并排设置二台取向处理装置，存在装置成本变高这一问题。
因此，本发明针对这样的问题点，以提供一种通过一次取向处理来形成取向状态不同的二种条纹状的取向区域以使得取向处理工序的节拍缩短的取向处理方法及取向处理装置为目的。
解决课题的手段
为了实现上述目的，本发明的取向处理方法是使涂敷了取向膜的基板与具有第一掩模图案组和第二掩模图案组的光掩模靠近对置，并使所述基板在与所述第一及第二掩模图案组交叉的方向上移动，所述第一掩模图案组以一定的排列间距形成了细长状的多个开口，第二掩模图案组与该第一掩模图案组平行地设置，且以与所述多个开口的排列间距相同的间距形成了细长状的多个开口，对所述光掩模的第一及第二掩模图案组分别照射偏振方向和入射角度当中的至少一个为不同的偏振光，在所述取向膜上交替地形成取向状态不同的条纹状的第一及第二取向区域。
另外，所述光掩模的所述第一掩模图案组是以一定的排列间距在与所述基板的移动方向交叉的方向上形成在所述基板的移动方向上呈细长状的多个开口，所述第二掩模图案组在所述基板的移动方向上与所述第一掩模图案组间隔一定的距离并与该第一掩模图案组平行地设置，所述第二掩模图案组以与所述多个开口的排列间距相同的间距且在排列方向上错开一半间距地形成在所述基板的移动方向上呈细长状的多个开口，在与所述基板的移动方向交叉的方向上交替地形成与所述基板的移动方向平行的条纹状的所述第一及第二取向区域。由此，与基板的移动方向平行的条纹状的第一及第二取向区域在与基板的移动方向交叉的方向上交替地形成。
而且，所述光掩模的所述第一及第二掩模图案组以一定的排列间距在所述基板的移动方向上分别形成在与所述基板的移动方向交叉的方向上呈细长状的多个开口，且所述第一及第二掩模图案组在所述基板的移动方向上相互间隔所述排列间距的一半间距的整数倍的距离并相互平行地设置，每当所述基板移动与所述排列间距相等的距离，就间歇性地照射所述偏振光以在所述基板的移动方向上交替地形成与所述基板的移动方向交叉的条纹状的所述第一及第二取向区域。由此，与基板的移动方向交叉的条纹状的第一及第二取向区域在基板的移动方向上交替地形成。
再者，对所述光掩模的第一及第二掩模图案组照射的所述各偏振光均为P偏振光，入射角度分别是不同的。由此，P偏振光分别以不同的入射角度照射到光掩模的第一及第二掩模图案组上。
并且，对所述光掩模的第一及第二掩模图案组照射的所述各偏振光，一束为P偏振光，另一束为S偏振光。由此，对光掩模的第一和第二掩模图案组的一个进行P偏振光照射；对另一个进行S偏振光照射。
另外，本发明的取向处理装置包括：输送单元，其将涂敷了取向膜的基板载置于上表面并使该基板朝一定的方向移动；掩模台，其对具有第一掩模图案组和第二掩模图案组的光掩模进行保持，所述第一掩模图案组与所述输送单元的上表面对置、并以一定的排列间距形成了细长状的多个开口，第二掩模图案组与该第一掩模图案组平行地设置、并以与所述多个开口的排列间距相同的间距形成了细长状的多个开口；以及偏振光学系统，其对所述光掩模的所述第一及第二掩模图案组分别照射偏振方向及入射角度当中的至少一个为不同的偏振光，能够在所述取向膜上交替形成取向状态不同的条纹状的第一及第二取向区域。
根据这样的结构，将具有以一定的排列间距形成的细长状的多个开口的第一掩模图案组、和与该第一掩模图案组平行地设置且以与上述多个开口的排列间距相同的间距形成的细长状的多个开口的第二掩模图案组的光掩模保持在掩模台上，由输送单元使涂敷了取向膜的基板在与光掩模的第一及第二掩模图案组交叉的方向上移动，利用偏振光学系统对光掩模的第一及第二掩模图案组分别进行偏振方向和入射角度当中的至少一个是不同的偏振光照射，在基板上的取向膜上交替地形成取向状态为不同的条纹状的第一及第二取向区域。
而且，所述光掩模的所述第一掩模图案组以一定的排列间距在与所述基板的移动方向交叉的方向形成在所述基板的移动方向上呈细长状的多个开口，所述第二掩模图案组在与所述基板的移动方向上与所述第一掩模图案组间隔一定的距离，且与所述第一掩模图案组相平行，所述第二掩模图案组以与所述多个开口的排列间距相同的间距且在排列方向上错开一半间距地形成在所述基板的移动方向上呈细长状的多个开口，能够在与所述基板的移动方向交叉的方向上交替地形成与所述基板的移动方向平行的条纹状的所述第一及第二取向区域。由此，在与基板的移动方向交叉的方向上交替地形成与基板的移动方向平行的条纹状的第一及第二取向区域。
再者，所述光掩模的所述第一及第二掩模图案组分别以一定的排列间距在所述基板的移动方向上形成在与所述基板的移动方向交叉的方向上呈细长状的多个开口，且所述第一及第二掩模图案组在所述基板的移动方向上相互间隔所述排列间距的一半间距的整数倍的距离并相互平行地设置，每当所述基板移动与所述排列间距相等的距离，就间歇性地照射所述偏振光以能够在所述基板的移动方向上交替地形成与所述基板的移动方向交叉的条纹状的所述第一及第二取向区域。由此，在基板的移动方向上交替地形成与基板的移动方向交叉的条纹状的第一及第二取向区域。
另外，所述偏振光学系统用光束分离器将P偏振光分离成二束，使其中的一束P偏振光以预先规定的角度入射到所述光掩模的第一掩模图案组，使另一束P偏振光以与所述角度不同的角度入射到所述光掩模的第二掩模图案组。由此，使由光束分离器分离成二束P偏振光中的一束以预定的角度入射到光掩模的第一掩模图案组上，使另一束以与上述角度不同的角度入射到光掩模的第二掩模图案组上。
而且，所述光束分离器设置成将其反射面配置在所述光掩模的所述第一及第二掩模图案组的中间位置并配置在与所述光掩模大致垂直交叉的面内。由此，通过配置在光掩模的第一及第二掩模图案组的中间位置，与光掩模大致垂直交叉的面内的光束分离器的反射面将P偏振光分离成二个方向。
并且，所述偏振光学系统使偏振方向的不同的二束偏振光中的一束偏振光入射到所述光掩模的第一掩模图案组，使另一束偏振光入射到所述光掩模的第二掩模图案组。由此，使偏振光方向不同的二束偏振光当中的一束入射到光掩模的第一掩模图案组上，且使另一束入射到光掩模的第二掩模图案组上。
发明效果
根据技术方案1或技术方案6的发明，可以通过一次取向处理来形成取向状态不同的二种条纹状的取向区域，能够缩短取向处理工序的节拍。另外，因为在同一光掩模上形成了形成第一取向区域的第一掩模图案组和形成第二取向区域的第二掩模图案组，所以将提高取向状态为不同的第一及第二取向区域的位置精度。而且，由于可以用一台取向处理装置同时形成取向状态为不同的二种取向区域，因而能够降低装置的成本。
另外，根据技术方案2或技术方案7的发明，能够容易地形成在与基板的移动方向交叉的方向上交替并排且与基板的移动方向平行的条纹状的第一及第二取向区域。
而且，根据技术方案3或技术方案8的发明，能够在基板的移动方向上容易地形成交替并排且与基板的移动方向交叉的条纹状的第一及第二取向区域。
另外，根据技术方案4或技术方案9的发明，可以容易地进行液晶显示装置的TFT基板及滤色基板的取向处理。
而且，根据技术方案5或技术方案11的发明，可以容易地进行3D电视用的偏光滤光片的制造。
并且，根据技术方案10的发明，可以使由光束分离器所分离的二束P偏振光分别直接照射到光掩模的第一及第二掩模图案组上。因而，能够减少构成偏振光学系统的零部件个数并可以降低装置的成本。
附图说明
图1是表示本发明的取向处理装置的第一实施方式的概略结构的主视图。
图2是表示所使用的光掩模的一个结构例的俯视图。
图3是表示本发明的取向处理方法的说明图。
图4是表示使用图2中示出的光掩模进行了取向处理的基板的取向状态的俯视图。
图5是表示进行了上述取向处理的基板的各取向区域中的液晶分子的取向的说明图；
（a）是图4的A－A线截面图，（b）是图4的B－B线截面图。
图6是表示光掩模结构的变形例的俯视图。
图7是表示使用图6中示出的光掩模进行了取向处理的基板的取向状态的俯视图。
图8是表示本发明的取向处理装置的第二实施方式的主要部分的放大主视图。
图9是表示通过上述第二实施方式进行了取向处理的基板的取向状态的俯视图，（a）表示使用图2的光掩模的取向处理，（b）表示使用图6的光掩模的取向处理。
图10是表示偏振光学系统的其他结构例的主视图。
具体实施方式
以下，根据附图对本发明的实施方式进行详细地说明。图1是表示本发明的取向处理装置的第一实施方式的概略结构的主视图。该取向处理装置是一边使基板移动，一边交替地形成取向状态为不同的二种条纹状的取向区域的装置，其包括输送单元1、掩模台2以及偏振光学系统3。
上述输送单元1将涂敷了取向膜的基板4载置在上表面1a上，并以一定的速度使该基板4在图1中的X方向上移动，其包括省略图示的速度传感器及位置传感器。
与上述输送单元1的上表面1a对置地配置有掩模台2。该掩模台2对具有第一掩模图案组6A和第二掩模图案组6B的光掩模7进行定位并保持，所述第一掩模图案组6A以一定的排列间距形成在图2所示那样的基板4的移动方向上呈细长状的多个开口5A，第二掩模图案组6B与该第一掩模图案组6A平行地设置且以与多个开口5A的排列间距相同的间距形成在基板4的移动方向上呈细长状的多个开口5B，使得光掩模7可以在与输送单元1的上表面1a平行的面内、在与基板4的移动方向正交的方向上微动。
上述光掩模7的具体结构例如下：第一掩模图案组6A是将多个开口5A以排列间距P形成在与基板4的移动方向（以下称为“X方向”）交叉的方向（以下称为“Y方向”）上的掩模图案组；第二掩模图案组6B相对于第一掩模图案组6A中心线之间的距离在X方向上仅间隔距离Ｌ并平行地设置，第二掩模图案组6B是将多个开口5B以与上述多个开口5A的排列间距P相同的间距且在排列方向（Y方向）上仅错开一半间距而形成的。在这种情况下，上述距离Ｌ被设定成对第一掩模图案组6B进行照射的偏振光的一部分和对第二掩模图案组6B进行照射的偏振光的一部分不会相互漏出并混入到各自相反的掩模图案组侧的距离。另外，各开口5A，5B的排列方向的宽度W设定为W≦P／2。当设定为W＝P／2时，在第一及第二取向区域11，12之间不会产生未取向的区域（参见图4）。尚且，在以下的说明中，就W＝P／2的情形进行陈述。
在上述掩模台2的上方，设有偏振光学系统3。该偏振光学系统3对上述光掩模7的第一及第二掩模图案组6A，6B分别进行偏振方向和入射角度当中的至少一个为不同的偏振光照射，在本第一实施方式中，偏振方向为使与X方向平行的P偏振光相对于光掩模7的掩模面（或基板4面）以角度θ（例如45°）进行入射。
上述偏振光学系统3的具体结构例如下：其包括光源8、偏振板9以及50％光束分离器（以下称为“半透半反镜10”）。其中，所述光源8为从光的行进方向的上游侧朝下游进行紫外线发射的例如超高压水银灯；所述偏振板9选择性地使自该光源8所发射的随机的光之中与入射面平行的P偏振光透过；所述50％光束分离器相对于光轴倾斜地配置反射面10a，使P偏振光的一半透过，使剩余的一半反射。在这种情况下，如图3所示，如果将上述半透半反镜10的反射面10a配置在光掩模7的第一及第二掩模图案组6A，6B的中间位置且配置在与光掩模7大致垂直交叉的平面内的话，就可以使被分离成二个方向的P偏振光分别以不同的角度θ直接入射到光掩模7的第一及第二掩模图案组6A，6B上，且能够减少构成偏振光学系统3的零部件个数。
当然，也可以再利用反射镜使由半透半反镜10的反射面10a分离成了二个方向的各P偏振光进行反射从而分别以不同的角度θ入射到光掩模7的第一及第二掩模图案组6A，6B上。
其次，对这样构成的取向处理装置的动作及本发明的取向处理方法进行说明。
首先，将通过旋涂及喷涂等在玻璃基板上形成了一定厚度的取向膜的例如滤色基板（基板4）定位并载置于输送单元1的上表面1a上，且以一定的速度使其在X方向上移动。
接着，透过设在光掩模7上的省略图示的窥视窗，通过省略图示的摄像单元对在X方向上以一定的间隔形成的基准图案的基准位置（例如滤色基板的各像素的与X方向平行的缘部）进行检测，且对相对于摄像单元中预先设定的基准位置的上述基准图案的基准位置在Y方向上的位置偏离进行检测，为了对该位置偏离进行补正，一边使掩模台2在Y方向上微动，一边如图3所示通过偏振光学系统3使紫外线的P偏振光分别以不同的入射角θ（例如为互逆的45°）向光掩模7的第一及第二掩模图案组6A，6B入射，透过第一及第二掩模图案组6A，6B的各开口5A，5B对基板4上的取向膜进行曝光。
由此，如图4所示，在取向膜上，在Y方向上交替地形成了由第一掩模图案组6A所形成的在X方向上为长的条纹状的多个第一取向区域11、和由第二掩模图案组6B所形成、且取向状态与第一取向区域11的取向状态不同的在X方向上为长的条纹状的多个第二取向区域12。
在这种情况下，如图5的（a）所示，第一取向区域11成为使相邻的液晶分子13从垂直状态朝该图中左侧仅倾斜角度φ（预倾角（プリチルト角）（90－φ））而进行取向的第一取向状态。
另外，如图5的（b）所示，第二取向区域12成为使相邻的液晶分子13从垂直状态朝该图中右侧仅倾斜角度φ（预倾角（90－φ））而进行取向的第二取向状态。
另外，假设上述摄像单元为在Y方向上将多个受光元件排列成一直线状地进行配置的线阵CCD的话，就可以实时地进行位置检测，能够高速地进行基板4和光掩模7的对位。
图6是光掩模7的变形例，在基板4的移动方向上相互仅间隔一定的距离地设置第一及第二掩模图案组6A，6B，分别在X方向上以排列间距Q形成在Y方向上呈细长状的多个开口5A，5B。在这种情况下，设第一掩模图案组6A在X方向最前方侧的开口5A的较长中心轴和第二掩模图案组6B在X方向最前方侧的开口5B的较长中心轴之间的距离为nQ／2（n为整数），每当基板4移动与上述排列间距Q相等的距离，如果使用闪光灯间歇性地进行P偏振光照射的话，如图7所示，就能够在由第一掩模图案组6A所形成的多个第一取向区域11的相邻区域之间的部分利用第二掩模图案组6B形成第二取向区域12。在这种情况下，由于各取向区域是由多次多重曝光形成的，因而可以减少对基板4进行照射的光能，且能够降低光源8的功率。在此，各开口5A，5B的排列方向的宽度W设定为W≦Q／2。另外，在图6中，示出设定为W＝Q／2的情形。在这种情况下，如图7所示，第一及第二取向区域11，12之间不产生未取向的区域。
图8是表示本发明的取向处理装置的第二实施方式的主要部分的放大图。
该第二实施方式在以下方面与上述第一实施方式是不同的：偏振光学系统3使由偏振光束分离器14分离的偏振方向不同的二束偏振光（P偏振光及S偏振光）当中的一束偏振光（P偏振光）入射到光掩模7的第一掩模图案组6A，使另一束偏振光（S偏振光）入射到光掩模7的第二掩模图案组6B。在这种情况下，P偏振光及S偏振光的入射角度既可以是相同的，也可以是不同的。在图8中，示出了使各偏振光垂直地入射到光掩模7上的情形。另外，在该图中，符号15为全反射镜。
该第二实施方式中使用的光掩模7既可以是图2所示的光掩模，也可以是图6所示的光掩模。由此，如图9所示，将会交替地形成取向方向相互正交的条纹状的多个第一取向区域11和多个第二取向区域12。另外，图9的（a）表示在适用图2所示的光掩模7情况下的取向膜的取向状态；该图的（b）表示在适用图6所示的光掩模7情况下的取向状态。
另外，在以上的说明中，虽然对偏振光学系统3将从一个光源8所发射的光分离成二束P偏振光或者P偏振光及S偏振光的情形进行了陈述，但本发明并不限于此，如图10所示，也可以分别与第一及第二掩模图案组6A，6B对应地设置独立的光源8。在这种情况下，可以在各光源8的前方，分别设置选择性地使由光源8所发射的光中的预先设定的直线偏振光透过的偏振板9。在此，在将图10所示的偏振光学系统适用于上述第一实施方式中的时候，上述各偏振板9均为选择性地使P偏振光透过的偏振板；在适用于上述第二实施方式的时候，一个偏振板9为选择性地使P偏振光透过的偏振板；另一个偏振板9为选择性地使S偏振光透过的偏振板。另外，在适用第二实施方式的时候，也可以使各偏振光相对于光掩模7垂直地入射。
符号说明
1…输送单元
2…掩模台
3…偏振光学系统
4…基板
5A，5B…开口
6A…第一掩模图案组
6B…第二掩模图案组
7…光掩模
10…半透半反镜（光束分离器）
11…第一取向区域
12…第二取向区域。

Claims (11)

1.一种取向处理方法，其特征在于，
使涂敷了取向膜的基板与具有第一掩模图案组和第二掩模图案组的光掩模靠近对置，并使所述基板在与所述第一及第二掩模图案组交叉的方向上移动，所述第一掩模图案组以一定的排列间距形成了细长状的多个开口，第二掩模图案组与该第一掩模图案组平行地设置，且以与所述多个开口的排列间距相同的间距形成了细长状的多个开口，
对所述光掩模的第一及第二掩模图案组分别照射偏振方向和入射角度当中的至少一个为不同的偏振光，
在所述取向膜上交替地形成取向状态不同的条纹状的第一及第二取向区域。
2.根据权利要求1所述的取向处理方法，其特征在于，
所述光掩模的所述第一掩模图案组是以一定的排列间距在与所述基板的移动方向交叉的方向上形成在所述基板的移动方向上呈细长状的多个开口，
所述第二掩模图案组在所述基板的移动方向上与所述第一掩模图案组间隔一定的距离并与该第一掩模图案组平行地设置，所述第二掩模图案组以与所述多个开口的排列间距相同的间距且在排列方向上错开一半间距地形成在所述基板的移动方向上呈细长状的多个开口，
在与所述基板的移动方向交叉的方向上交替地形成与所述基板的移动方向平行的条纹状的所述第一及第二取向区域。
3.根据权利要求1所述的取向处理方法，其特征在于，所述光掩模的所述第一及第二掩模图案组以一定的排列间距在所述基板的移动方向上分别形成在与所述基板的移动方向交叉的方向上呈细长状的多个开口，且所述第一及第二掩模图案组在所述基板的移动方向上相互间隔所述排列间距的一半间距的整数倍的距离并相互平行地设置，
每当所述基板移动与所述排列间距相等的距离，就间歇性地照射所述偏振光以在所述基板的移动方向上交替地形成与所述基板的移动方向交叉的条纹状的所述第一及第二取向区域。
4.根据权利要求1所述的取向处理方法，其特征在于，对所述光掩模的第一及第二掩模图案组照射的所述各偏振光均为P偏振光，入射角度分别是不同的。
5.根据权利要求1所述的取向处理方法，其特征在于，对所述光掩模的第一及第二掩模图案组照射的所述各偏振光，一束为P偏振光，另一束为S偏振光。
6.一种取向处理装置，其特征在于，包括：
输送单元，其将涂敷了取向膜的基板载置于上表面并使该基板朝一定的方向移动；
掩模台，其对具有第一掩模图案组和第二掩模图案组的光掩模进行保持，所述第一掩模图案组与所述输送单元的上表面对置、并以一定的排列间距形成了细长状的多个开口，第二掩模图案组与该第一掩模图案组平行地设置、并以与所述多个开口的排列间距相同的间距形成了细长状的多个开口；以及
偏振光学系统，其对所述光掩模的所述第一及第二掩模图案组分别照射偏振方向及入射角度当中的至少一个为不同的偏振光，
能够在所述取向膜上交替形成取向状态不同的条纹状的第一及第二取向区域。
7.根据权利要求6所述的取向处理装置，其特征在于，所述光掩模的所述第一掩模图案组以一定的排列间距在与所述基板的移动方向交叉的方向形成在所述基板的移动方向上呈细长状的多个开口，
所述第二掩模图案组在与所述基板的移动方向上与所述第一掩模图案组间隔一定的距离，且与所述第一掩模图案组相平行，所述第二掩模图案组以与所述多个开口的排列间距相同的间距且在排列方向上错开一半间距地形成在所述基板的移动方向上呈细长状的多个开口，
能够在与所述基板的移动方向交叉的方向上交替地形成与所述基板的移动方向平行的条纹状的所述第一及第二取向区域。
8.根据权利要求6所述的取向处理装置，其特征在于，所述光掩模的所述第一及第二掩模图案组分别以一定的排列间距在所述基板的移动方向上形成在与所述基板的移动方向交叉的方向上呈细长状的多个开口，且所述第一及第二掩模图案组在所述基板的移动方向上相互间隔所述排列间距的一半间距的整数倍的距离并相互平行地设置，
每当所述基板移动与所述排列间距相等的距离，就间歇性地照射所述偏振光以能够在所述基板的移动方向上交替地形成与所述基板的移动方向交叉的条纹状的所述第一及第二取向区域。
9.根据权利要求6所述的取向处理装置，其特征在于，所述偏振光学系统用光束分离器将P偏振光分离成二束，使其中的一束P偏振光以预先规定的角度入射到所述光掩模的第一掩模图案组，使另一束P偏振光以与所述角度不同的角度入射到所述光掩模的第二掩模图案组。
10.根据权利要求9所述的取向处理装置，其特征在于，所述光束分离器设置成将其反射面配置在所述光掩模的所述第一及第二掩模图案组的中间位置并配置在与所述光掩模大致垂直交叉的面内。
11.根据权利要求6所述的取向处理装置，其特征在于，所述偏振光学系统使偏振方向不同的二束偏振光中的一束偏振光入射到所述光掩模的第一掩模图案组，使另一束偏振光入射到所述光掩模的第二掩模图案组。
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