TWI519867B - 配向處理方法以及配向處理裝置 - Google Patents

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Description

配向處理方法以及配向處理裝置
本發明係關於一種一邊移動基板、一邊交互地形成配向狀態不同之二種類條紋狀配向區域之配向處理方法，更詳而言之，係關於用以縮短上述配向處理製程之生產時間的配向處理方法以及配向處理裝置。
習知之此種配向處理方法，係使用以一定排列間距形成有條紋狀開口之光罩，對塗佈有配向膜之基板從斜向照射第1次的紫外線之後，將基板或是基板與光罩兩者旋轉180度，錯開光罩對基板之相對位置而對未照射第1次紫外線之區域照射第2次的紫外線(例如參照日本專利第4201862號公報)。
此外，其他配向處理方法，係通過以一定排列間距形成有條紋狀開口之光罩的該開口來相對於基板垂直線從45°方向照射紫外線於基板上之配向膜後，錯開光罩來相對於基板垂直線從45°反方向照射偏光紫外線(例如參照日本特開2002-31804號公報)。
再者其他配向處理方法，係一邊使得濾色片基板沿著其面方向移動、一邊朝該濾色片基板之移動方向的正交方向經由以一定排列間距形成有複數開口之光罩來對塗佈有配向膜之濾色片基板從斜向照射紫外線，將濾色片基板之各像素的一半區域曝光後，使得曝光位置錯開半間距，並改變紫外線之照射角度來對上述各像素剩餘一半的區域進行曝光(例如參照日本特開2007-41175號公報)。
但是，此種習知之配向處理方法，由於皆為經過2次之配向處理製程來形成配向狀態不同之二種類配向區域，故無法縮短配向處理製程之生產時間。
此外，上述日本專利第4201862號公報所揭示之配向處理方法，於進行第1次的紫外線照射後，將基板旋轉180度來對未照射第1次紫外線之區域進行第2次的紫外線照射，故必須準備第1次紫外線照射用光罩以及第2次紫外線照射用光罩這樣不同的2片光罩，而有光罩費用昂貴的問題。
再者，於上述日本專利第4201862號公報以及日本特開2002-31804號公報所揭示之配向處理方法，由於配向處理為批次處理，故難以增加基板每單位時間之配向處理片數。
此外，上述日本特開2007-41175號公報所揭示之配向處理方法，雖可一邊連續供給基板一邊進行配向處理，但必須於基板之移動方向並排具備2台配向處理裝置，而有裝置成本變高之問題。
是以，本發明為了因應於此種問題點，其目的在於提供一種配向處理方法以及配向處理裝置，能以1次的配向處理來形成配向狀態不同之二種類條紋狀配向區域而縮短配向處置製程之生產時間。
為了達成上述目的，本發明所提供之配向處理方法，係使得近接對向於具有第1罩體圖群(係使得細長狀之複數開口以一定排列間距來形成)與第2罩體圖案群(係平行於該第1罩體圖案群而設置，係使得細長狀之複數開口以與第1罩體圖群之複數開口之排列間距為相同間距來形成)之光罩而塗佈有配向膜之基板朝向和該第1與第2罩體圖案群交叉之方向移動；對該光罩之第1與第2罩體圖案群分別照射偏光方向與入射角度當中至少一者不同之偏光；於該配向膜交互地形成配向狀態不同之條紋狀第1與第2配向區域。藉此，配向狀態不同之二種類條紋狀配向區域能藉由1次性配向處理來形成，可縮短配向處置製程之生產時間。此外，由於在同一光罩形成有第1罩體圖案群(形成第1配向區域)與第2罩體圖案群(形成第2配向區域)，故可提升配向狀態不同之第1與第2配向區域之位置精度。再者，由於能以1台之配向處理裝置來同時形成配向狀態不同之二種類配向區域，故可降低裝置成本。
此外，前述光罩之前述第1罩體圖案群係使得在前述基板之移動方向上呈細長狀之複數開口在和前述基板之移動方向為交叉之方向以一定排列間距來形成，前述第2罩體圖案群係相對於前述第1罩體圖案群沿前述基板之移動方向離開一定距離而平行設置者，係使得在前述基板之移動方向上呈細長狀之複數開口以和前述複數開口之排列間距為相同間距且在排列方向上錯開半間距所形成者，而使得平行於前述基板之移動方向的條紋狀前述第1與第2配向區域在和前述基板之移動方向交叉之方向上交互地形成。藉此，平行於基板之移動方向的條紋狀第1與第2配向區域在和基板之移動方向交叉之方向上交互地形成。藉此，在和基板之移動方向交叉之方向上交互排列而平行於基板之移動方向的條紋狀第1與第2配向區域可輕易地形成。
再者，該光罩之該第1與第2罩體圖案群係分別使得在和該基板之移動方向交叉之方向上呈細長狀之複數開口於該基板之移動方向上以一定排列間距形成，且於該基板之移動方向上相互離開該排列間距之半間距整數倍的距離來平行設置；每當該基板移動了與該排列間距為相等距離時，便間歇地照射該偏光而於該基板之移動方向上交互地形成和該基板之移動方向交叉之條紋狀第1與第2配向區域。
藉此，可於基板之移動方向上交互地形成和基板之移動方向交叉之條紋狀第1與第2配向區域。藉此，於基板之移動方向上交互地排列且和基板之移動方向交叉之條紋狀第1與第2配向區域可輕易地形成。
此外，照射於該光罩之第1與第2罩體圖案群的該各偏光皆為P偏光，且入射角度各不相同。藉此，P偏光能分別以不同入射角度照射於光罩之第1與第2罩體圖案群。藉此，可輕易進行液晶顯示裝置之TFT基板以及濾色片基板之配向處理。
此外，照射於該光罩之第1與第2罩體圖案群之該各偏光之一者為P偏光而另一者為S偏光。藉此，對光罩之第1與第2罩體圖案群中之一者照射P偏光，對另一者照射S偏光。藉此，可輕易地進行3D電視用偏光濾色器之製造。
此外，本發明所提供之配向處理裝置，係具備有：搬運機構，係將塗佈有配向膜之基板載置於上面朝一定方向移動；罩體平台，係對向配置於該搬運機構之上面，用以保持具有第1罩體圖案群(係使得細長狀之複數開口以一定排列間距來形成)與第2罩體圖案群(係平行於該第1罩體圖案群而設置，而使得細長狀之複數開口以與第1罩體圖群之複數開口之排列間距為相同間距來形成)之光罩；以及偏光光學系統，係對該光罩之該第1與第2罩體圖案群分別照射偏光方向與入射角度中至少一者不同之偏光；其中，可於該配向膜交互地形成配向狀態不同之條紋狀第1與第2配向區域。
藉由此種構成，可於罩體平台保持具有第1罩體圖案群(係使得細長狀之複數開口以一定排列間距來形成)與第2罩體圖案群(係平行於該第1罩體圖案群而設置，而使得細長狀之複數開口以與第1罩體圖群之複數開口之排列間距為相同間距來形成)之光罩，以搬運機構將塗佈有配向膜之基板朝和光罩之第1與第2罩體圖案群交叉之方向上移動，利用偏光光學系統對光罩之第1與第2罩體圖案群分別照射偏光方向與入射角度當中之至少一者不同之偏光，而於基板上之配向膜交互地形成配向狀態不同之條紋狀第1與第2配向區域。藉此，配向狀態不同之二種類條紋狀配向區域可藉由1次性的配向處理來形成，可縮短配向處置製程之生產時間。此外，由於在同一光罩形成有第1罩體圖案群(形成第1配向區域)與第2罩體圖案群(形成第2配向區域)，故可提升配向狀態不同之第1與第2配向區域之位置精度。再者，由於能以1台配向處理裝置來同時形成配向狀態不同之二種類配向區域，故可降低裝置之成本。
再者，該光罩之該第1罩體圖案群係使得於該基板之移動方向上呈細長狀之複數開口在和該基板之移動方向交叉之方向上以一定排列間距來形成；該第2罩體圖案群係相對於該第1罩體圖案群在該基板之移動方向上離開一定距離而平行設置，而使得於該基板之移動方向上呈細長狀之複數開口以和該第1罩體圖案群之複數開口之排列間距為相同間距且於排列方向上錯開半間距來形成；平行於該基板之移動方向的條紋狀第1與第2配向區域可在和該基板之移動方向交叉之方向上交互地形成。藉此，可使得平行於基板之移動方向上之條紋狀第1與第2配向區域在和基板之移動方向交叉之方向上交互地形成。藉此，可輕易地形成：在和基板之移動方向交叉之方向上交互排列而平行於基板之移動方向的條紋狀第1與第2配向區域。
此外，該光罩之該第1與第2罩體圖案群係分別使得在和該基板之移動方向交叉之方向上呈細長狀之複數開口於該基板之移動方向上以一定排列間距來形成，且於該基板之移動方向上相互離開該排列間距之半間距整數倍的距離來平行設置；每當該基板移動與該排列間距相等之距離時，乃間歇地照射該偏光而可於該基板之移動方向上交互地形成和該基板之移動方向交叉之條紋狀第1與第2配向區域。藉此，可於基板之移動方向上交互地形成：和基板之移動方向交叉之條紋狀第1與第2配向區域。藉此，可輕易形成：於基板之移動方向上交互地排列、和基板之移動方向交叉之條紋狀第1與第2配向區域。
此外，該偏光光學系統係以分束器將P偏光分離為二，使得其中之一P偏光以預先決定之角度入射於該光罩之第1罩體圖案群，而使得另一P偏光以有別於該角度之角度來入射於該光罩之第2罩體圖案群。藉此，使得由分束器所分離為二之P偏光當中之一者以預先決定之角度來入射於光罩之第1罩體圖案群，而使得另一者以有別於上述角度之角度來入射於光罩之第2罩體圖案群。藉此，可輕易地進行液晶顯示裝置之TFT基板以及濾色片基板之配向處理。
再者，該分束器之反射面係位於該光罩之該第1與第2罩體圖案群之中間位置而配置在大致垂直地交叉於該光罩之面內。藉此，以位於光罩之第1與第2罩體圖案群之中間位置而配置在大致垂直地交叉於光罩之面內的分束器之反射面來將P偏光分離為二方向。藉此，可輕易地製造3D電視用偏光濾色器。
再者，該偏光光學系統係使得偏光方向不同之兩偏光當中之一偏光入射於該光罩之第1罩體圖案群，使得另一偏光入射於該光罩之第2罩體圖案群。藉此，使得偏光方向不同之兩偏光當中之一者入射於光罩之第1罩體圖案群，使得另一者入射於光罩之第2罩體圖案群。藉此，由分束器所分離為二之P偏光可分別直接照射於光罩之第1與第2罩體圖案群。從而，可減少構成偏光光學系統之零件數量而可降低裝置之成本。
以下，基於所附圖式來詳細說明本發明之實施形態。圖1係顯示本發明之配向處理裝置之第1實施形態概略構成之前視圖。此配向處理裝置係一邊移動基板、一邊交互地形成配向狀態不同之二種類條紋狀配向區域，具備有：搬運機構1、罩體平台2、以及偏光光學系統3。
上述搬運機構1係於上面1a載置塗佈有配向膜之基板4而於圖1中朝X方向以一定速度移動者，具備有圖示省略之速度感應器以及位置感應器。
對向於上述搬運機構1之上面1a係配置著罩體平台2。此罩體平台2係將光罩7(具有：第1圖案群6A，係於圖2所示之基板4之移動方向以一定排列間距形成有細長狀之複數開口5A；以及第2罩體圖案群6B，係平行於該第1罩體圖案群6A而設置，係於基板4之移動方向使得細長狀之複數開口5B以和複數開口5A之排列間距為相同間距來形成)加以定位保持者，可使得和搬運機構1之上面1a平行之面內在基板4移動方向之正交方向上進行微動。
上述光罩7之具體的構成例，第1罩體圖案群6A係使得複數開口5A在基板4移動方向(以下稱為「X方向」)之交叉方向(以下稱為「Y方向」)以排列間距P形成者，第2罩體圖案群6B係相對於第1罩體圖案群6A在X方向以中心線間距離計為距離L相離而平行設置者，其複數開口5B係以和上述複數開口5A之排列間距P為相同間距且在排列方向(Y方向)上錯開半間距而形成者。此種情況下，上述距離L係設定為照射於第1罩體圖案群6B之偏光之一部份與照射於第2罩體圖案群6B之偏光之一部份分別不致於相互漏到、混入於相反之罩體圖案群側的距離。此外，各開口5A、5B之排列方向之寬度W係設定為W≦P/2。當設定為W=P/2之時，於第1與第2配向區域11、12間不會產生未配向區域(參照圖4)。此外，於以下說明中，針對W=P/2之情況描述。
於上述罩體平台2之上方係設有偏光光學系統3。此偏光光學系統3係對於上述光罩7之第1與第2罩體圖案群6A、6B分別照射偏光方向與入射角度當中至少一者不同之偏光，於本第1實施形態中，係使得偏光方向平行於X方向之P偏光相對於光罩7之罩體面(或是基板4面)以角度θ(例如45°)來入射。
上述偏光光學系統3之具體的構成例係具備有：例如超高壓水銀燈之光源8，係從光之行進方向之上游側往下游來照射紫外線；偏光板9，係使得該光源8所放射之不規則光當中之平行於入射面的P偏光選擇性穿透者；以及，50%分束器(以下稱為「半鏡10」)，其反射面10a相對於光軸呈傾斜配置，使得P偏光之一半穿透而將剩餘的另一半加以反射。於此種情況下，如圖3所示般，若上述半鏡10之反射面10a係在光罩7之第1與第2罩體圖案群6A、6B之中間位置配置在和光罩7大致垂直交叉之面內，則可使得分離為二方向之P偏光分別以不同角度θ來直接入射於光罩7之第1與第2罩體圖案群6A、6B，可減少構成偏光光學系統3之零件數量。
當然，亦可使得以半鏡10之反射面10a分離為二方向後之各P偏光進一步以反射鏡進行反射來分別以不同角度θ入射於光罩7之第1與第2罩體圖案群6A、6B。
其次，針對如此般構成之配向處理裝置之動作以及本發明之配向處理方法做說明。
首先，將藉由旋塗、噴塗等而於玻璃基板上形成了一定厚度配向膜之例如濾色片基板(基板4)定位、載置於搬運機構1之上面1a，朝X方向以一定速度來移動。
接著，通過設置於光罩7之圖示省略的觀察窗而藉由圖示省略之攝像機構來檢測於X方向以一定間隔所形成之基準圖案之基準位置(例如濾色片基板之各像素平行於X方向之邊緣部)，檢測出上述基準圖案之基準位置相對於攝像機構所事先設定之基準位置在Y方向之位偏，一邊將罩體平台2在Y方向進行微動以補正該位偏、一邊如圖3所示般藉由偏光光學系統3來對光罩7之第1與第2罩體圖案群6A、6B以分別不同的入射角θ(例如相互相反45°)來入射紫外線之P偏光，而通過第1與第2罩體圖案群6A、6B之各開口5A、5B來曝光基板4上之配向膜。
藉此，如圖4所示般，於配向膜沿Y方向交互地形成：在X方向上之長條紋狀複數第1配向區域11(藉由第1罩體圖案群6A所形成者)、以及在X方向上之長條紋狀複數第2配向區域12(藉由第2罩體圖案群6B所形成者，配向狀態不同於第1配向區域11之配向狀態)。
此種情況下，第1配向區域11如圖5(a)所示般，成為鄰接液晶之分子13從垂直狀態朝向同圖中左側傾斜角度φ(預傾角(90-φ))而配向之第1配向狀態。
此外，第2配向區域12，如圖5(b)所示般，成為鄰接液晶之分子13從垂直狀態朝向同圖中右側傾斜角度φ(預傾角(90-φ))而配向之第2配向狀態。
此外，上述攝像機構若設定成複數受光元件沿Y方向呈一直線狀相連配置之線狀CCD，則位置檢測能即時進行，基板4與光罩7之對位能以高速進行。
圖6係光罩7之變形例，第1與第2罩體圖案群6A、6B係於基板4之移動方向相互離開一定距離而設置，分別於Y方向呈細長狀之複數開口5A、5B係在X方向以排列間距Q來形成。於此種情況下，將第1罩體圖案群6A之X方向前端側之開口5A的長邊中心軸與第2罩體圖案群6B之X方向前端側之開口5B的長邊中心軸之間之距離設為nQ/2(n為整數)，只要每當基板4移動了和上述排列間距Q相等距離時使用閃光燈來間歇性照射P偏光，則如圖7所示般，可於以第1罩體圖案群6A所形成之複數第1配向區域11的鄰接區域間之部分利用第2罩體圖案群6B來形成第2配向區域12。於此種情況下，由於各配向區域係藉由複數次之多重曝光所形成，乃可降低照射於基板4之光能量，可降低光源8之功率。此處，各開口5A、5B之排列方向之寬度W係設定為W≦Q/2。此外，於圖6中係顯示了設定為W=Q/2之情況。於此種情況下，如圖7所示般，不會於第1與第2配向區域11、12間產生未配向之區域。
圖8係顯示本發明之配向處理裝置之第2實施形態的要部放大圖。
此第2實施形態有別於上述第1實施形態之處在於，偏光光學系統3係使得由偏光分束器14所分離之偏光方向不同的兩偏光(P偏光以及S偏光)當中之一偏光(P偏光)入射於光罩7之第1罩體圖案群6A，而使得另一偏光(S偏光)入射於光罩7之第2罩體圖案群6B。於此種情況下，P偏光以及S偏光之入射角度可為相同亦可為不同。於圖8中，顯示了各偏光垂直入射於光罩7之情況。此外，於同圖中，符號15係全反射鏡。
於此第2實施形態所使用之光罩7可為圖2所示者亦可為圖6所示者。藉此，如圖9所示般，配向方向相互正交之條紋狀複數第1配向區域11與複數第2配向區域12係交互地形成。此外，圖9(a)係顯示了使用圖2所示光罩7之情況下的配向膜之配向狀態，同圖(b)係顯示使用圖6所示光罩7之情況下的配向狀態。
此外，於以上說明中，係針對偏光光學系統3將一個光源8所放射之光分離為兩個P偏光或是P偏光以及S偏光之情況做了描述，惟本發明不限定於此，亦可如圖10所示般對應於第1與第2罩體圖案群6A、6B而設置分別獨立之光源8。於此種情況下，於各光源8之前方係分別設置偏光板9，而使得從光源8所放射之光當中事先決定之直線偏光能選擇性穿透。此處，將圖10所示偏光光學系統適用於上述第1實施形態之時，上述各偏光板9皆為使得P偏光選擇性穿透之偏光板，當適用於上述第2實施形態之時，其中一偏光板9係使得P偏光選擇性穿透之偏光板，另一偏光板9係使得S偏光選擇性穿透之偏光板。此外，當適用於第2實施形態之時，各偏光亦可相對於光罩7做垂直入射。
1．．．搬運機構
1a．．．上面
2．．．罩體平台
3．．．偏光光學系統
4．．．基板
5A．．．開口
5B．．．開口
6A．．．第1圖案群
6B．．．第2圖案群
7．．．光罩
8．．．光源
9．．．偏光板
10．．．分束器
10a．．．反射面
11．．．第1配向區域
12．．．第2配向區域
13．．．液晶分子
14．．．偏光分束器
15．．．全反射鏡
圖1係顯示本發明之配向處理裝置之第1實施形態概略構成之前視圖。
圖2係顯示所使用之光罩之一構成例之俯視圖。
圖3係顯示本發明之配向處理方法之說明圖。
圖4係顯示使用圖2所示光罩而經過配向處理後之基板之配向狀態的俯視圖。
圖5係顯示經過上述配向處理後之基板之各配向區域的液晶分子配向之說明圖，(a)係圖4之A-A線截面圖，(b)係圖4之B-B線截面圖。
圖6係顯示光罩構成變形例之俯視圖。
圖7係顯示使用圖6所示光罩而經過配向處理後之基板之配向狀態的俯視圖。
圖8係顯示本發明之配向處理裝置之第2實施形態之要部放大前視圖。
圖9係顯示藉由上述第2實施形態經配向處理後之基板之配向狀態的俯視圖，(a)係顯示使用圖2之光罩之配向處理，(b)係顯示使用圖6之光罩之配向處理。
圖10係顯示偏光光學系統之其他構成例之前視圖。
1．．．搬運機構
1a．．．上面
2．．．罩體平台
3．．．偏光光學系統
4．．．基板
6A．．．第1圖案群
6B．．．第2圖案群
7．．．光罩
8．．．光源
9．．．偏光板
10．．．分束器
10a．．．反射面

Claims (10)

  1. 一種配向處理方法，係使得近接對向於具有第1罩體圖群與第2罩體圖案群之光罩而塗佈有配向膜之基板朝向和該第1與第2罩體圖案群交叉之方向移動；該第1罩體圖群係使得細長狀之複數開口以一定排列間距來形成，該第2罩體圖案群係平行於該第1罩體圖案群而設置，係使得細長狀之複數開口以與第1罩體圖群之該複數開口之排列間距為相同間距來形成；使得以於該光罩之第1與第2罩體圖案群的中間位置來垂直地交叉於該光罩之面內具有反射面的方式所配置之分束器之該反射面受到分離而在偏光方向與入射角度當中至少一者不同之兩個偏光當中之一偏光直接照射於該第1罩體圖案群，而另一偏光直接照射於該第2罩體圖案群；於該配向膜交互地形成配向狀態不同之條紋狀第1與第2配向區域。
  2. 如申請專利範圍第1項之配向處理方法，其中該光罩之該第1罩體圖案群係使得於該基板之移動方向上呈細長狀之複數開口在和該基板之移動方向交叉之方向上以一定排列間距來形成；該第2罩體圖案群係相對於該第1罩體圖案群在該基板之移動方向上離開一定距離而平行設置，使得在該基板之移動方向上呈細長狀之複數開 口以和第1罩體圖案群之該複數開口的排列間距為相同間距且在排列方向上錯開半間距來形成；使得平行於該基板之移動方向的條紋狀之該第1與第2配向區域在和該基板之移動方向交叉之方向上交互地形成。
  3. 如申請專利範圍第1項之配向處理方法，其中該光罩之該第1與第2罩體圖案群係分別使得在和該基板之移動方向交叉之方向上呈細長狀之複數開口於該基板之移動方向上以一定排列間距來形成，且於該基板之移動方向上相互離開該排列間距之半間距整數倍的距離來平行設置；每當該基板移動了與該排列間距為相等距離時，便間歇地照射該偏光而於該基板之移動方向上交互地形成和該基板之移動方向交叉之條紋狀之該第1與第2配向區域。
  4. 如申請專利範圍第1項之配向處理方法，其中照射於該光罩之第1與第2罩體圖案群的該各偏光皆為P偏光，且入射角度各不相同。
  5. 如申請專利範圍第1項之配向處理方法，其中照射於該光罩之第1與第2罩體圖案群之該各偏光之一者為P偏光，而另一者為S偏光。
  6. 一種配向處理裝置，係具備有：搬運機構，係將塗佈有配向膜之基板載置於上面而朝一定方向移動； 罩體平台，係對向配置於該搬運機構之上面，用以保持具有第1罩體圖案群與第2罩體圖案群之光罩，該第1罩體圖群係使得細長狀之複數開口以一定排列間距來形成，該第2罩體圖案群係平行於該第1罩體圖案群而設置，係使得細長狀之複數開口以與第1罩體圖群之該複數開口之排列間距為相同間距來形成；以及偏光光學系統，係使得以於該光罩之該第1與第2罩體圖案群的中間位置來垂直地交叉於該光罩之面內具有反射面的方式所配置之分束器之該反射面受到分離而在偏光方向與入射角度中至少一者不同之兩個偏光當中之一偏光直接照射於該第1罩體圖案群，而另一偏光直接照射於該第2罩體圖案群；其中，可於該配向膜交互地形成配向狀態不同之條紋狀第1與第2配向區域。
  7. 如申請專利範圍第6項之配向處理裝置，其中該光罩之該第1罩體圖案群係使得於該基板之移動方向上呈細長狀之複數開口在和該基板之移動方向交叉之方向上以一定排列間距來形成；該第2罩體圖案群係相對於該第1罩體圖案群在該基板之移動方向上離開一定距離而平行設置，而使得於該基板之移動方向上呈細長狀之複數開口以和該第1罩體圖案群之該複數開口之排列 間距為相同間距且於排列方向上錯開半間距來形成；平行於該基板之移動方向的條紋狀之該第1與第2配向區域可在和該基板之移動方向交叉之方向上交互地形成。
  8. 如申請專利範圍第6項之配向處理裝置，其中該光罩之該第1與第2罩體圖案群係分別使得在和該基板之移動方向交叉之方向上呈細長狀之複數開口於該基板之移動方向上以一定排列間距來形成，且於該基板之移動方向上相互離開該排列間距之半間距整數倍的距離來平行設置；每當該基板移動僅與該排列間距相等之距離時，乃間歇地照射該偏光而可於該基板之移動方向上交互地形成和該基板之移動方向交叉之條紋狀之該第1與第2配向區域。
  9. 如申請專利範圍第6項之配向處理裝置，其中該偏光光學系統係以分束器將P偏光分離為二，使得其中之一P偏光以預先決定之角度入射於該光罩之第1罩體圖案群，而使得另一P偏光以有別於該角度之角度來入射於該光罩之第2罩體圖案群。
  10. 如申請專利範圍第6項之配向處理裝置，其中該偏光光學系統係使得偏光方向不同之兩偏光當中之一偏光入射於該光罩之第1罩體圖案群，使得另一偏光入射於該光罩之第2罩體圖案群。
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