JP5341941B2 - 配向処理方法および配向処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、配向処理方法および配向処理装置に関し、詳しくは、基板とフォトマスクとを相対的に移動させながら配向処理を行う配向処理方法および配向処理装置に関する。

液晶表示パネルは、一対の基板が所定の間隔をおいて対向配置され、その間に液晶が充填されるという構成を有する。一方の基板には、液晶に電圧を印加する絵素電極、この絵素電極を駆動する薄膜トランジスタなどのスイッチング素子、ゲートバスラインやソースバスラインなどの各種配線、液晶にプレティルト角を与える配向膜などが積層状に形成される。また。他方の基板には、ブラックマトリックス、所定の色のカラーフィルタ層、対向電極や配向膜などが同様に積層状に形成される。

各基板に形成される配向膜には、液晶を所定の向きに配向させるための配向処理が施される。従来はこの配向処理として繊維材料などによるラビングが用いられていたが、近年ではこれに代わる配向処理として光配向処理が用いられるようになってきている。光配向処理は、配向膜の表面に所定の照射角で光エネルギを照射する露光工程を経ることによって、配向膜の表面に所定の配向特性を与える処理である。

スイッチング素子、各種配線、ブラックマトリックスやカラーフィルタ層などは、フォトリソグラフィ法を用いて形成される。例えば、カラーフィルタ層は、基板の表面に所定の色を有するフォトレジスト材料を塗布する工程と、フォトマスクを通じてこのフォトレジスト材料の所定のパターン領域に光エネルギを照射する露光工程と、フォトレジスト材料の不要な部分（たとえば、光エネルギが照射されなかった部分）を除去する工程とを経て形成される。

尚、本発明に関連する先行技術文献としては下記特許文献１と特許文献２が挙げられる。

特開２００５−０２４６４９号公報 特開平１１−１３３４２９号公報

このように液晶表示パネルの製造においては、基板の表面の所定の領域に対して光エネルギを照射する露光工程が必ず含まれており、露光する位置や範囲にズレが生じると、液晶の配向や基板に形成される配線等が設計と相違し、本来の配向や特性を有さなくなるおそれがある。たとえば配向膜に光配向処理を施す露光工程において、光エネルギを照射する位置や範囲にズレが生じると、液晶に対して設計どおりにプレティルト角を与えられなくなる。

また、フォトマスクを用いて基板の被照射面に光エネルギを照射する場合、光エネルギを照射する位置や範囲の精度は、フォトマスクに形成される遮光部と透光部のパターンの寸法精度に大きく影響を受けるため、フォトマスクは高価なものとなっている。特に、近年の基板サイズの大型化に伴ってフォトマスクサイズも大きくなってきており、マスクの更なる高価格化を招いている。

更に、フォトマスクを大型化すると、撓みや熱膨張などによって、遮光部と透光部の大きさが変化したり、基板との位置合わせにズレが生じやすくなっていた。この対策として、基板やフォトマスクの温度管理を行ってサイズ変化を抑えたり、アライメント調整のための機構やその制御の精度を上げることなどが行われているが、プロセスの繁雑化やランニングコストの増加を招くことになっていた。そこで、本発明が解決しようとする課題は、大型のフォトマスクを用いることなく精度よく配向処理を行うことができる配向処理方法および配向処理装置を提供することである。

上記課題を解決するために本発明は、スリット状の開口部が形成された小形のフォトマスクを複数用いて基板表面の一部の領域に紫外線などを照射しつつ、基板を移動させるという方法で配向処理を行う。この方法によれば、基板表面の特定の領域がストライプ状に露光される（すなわち紫外線などの照射を受ける）。そして、紫外線などを照射しつつ基板を移動させている間は、基板の表面に予め形成されている既存のパターン、例えばゲートバスライン、ソースバスラインやブラックマトリックスなどの線状パターンと、フォトマスクに設けられた基準マークを同時に撮影し、撮影された画像を用いて実際に照射している位置、つまり基板上の既存のパターンに対するフォトマスクの位置を監視する。このような露光方法により、基板サイズの大きさに関わらず高い位置決め精度で配向処理を行うことができる。

そこで、本発明に係る配向処理方法は、基板上に形成した配向膜に対して相対的にフォトマスクを移動させながら当該フォトマスクを介して光エネルギを照射して前記配向膜表面に配向特性を与える配向処理方法において、前記フォトマスクを前記基板に形成された線状パターンに沿って相対的に移動させる際、フォトマスクの移動方向の移動開始側において、前記基板に予め形成された線状パターンと前記フォトマスクに設けられた基準マークとを画像認識する画像認識工程と、この画像認識工程によって認識した線状パターンの画像と予め記憶されている基準画像とを比較することにより、前記線状パターンに対する前記フォトマスクのズレ量を算出し、前記フォトマスクの移動によりそのズレを補正するマスク位置補正工程と、このマスク位置補正工程の後、再度前記フォトマスクに設けられた基準マークを画像認識して、この画像を前記画像認識工程で得た基準マークの画像と比較することにより、前記マスク位置補正工程での前記フォトマスクの実際の移動量を算出し、この移動量から前記マスク位置補正工程によるフォトマスクの位置補正が的確になされたか否かを判定するマスク位置補正検査工程と、を含むことを要旨とする。

この場合、前記線状パターンは、ゲートバスライン、ソースバスラインまたはブラックマトリックスのいずれかであれば良い。

また、前記光エネルギは、前記光配向膜に対して所定の角度で照射されると良い。また、前記光エネルギは紫外光であれば良い。

そして、本発明に係る配向処理装置は、基板上に形成された配向膜に対して相対的にフォトマスクを移動させながら当該フォトマスクを介して光エネルギを照射して配向処理を行う配向処理装置であって、前記光エネルギを発する光源と、前記基板を載置して所定の方向に移動させるテーブルと、前記光源と前記テーブルとの間に位置するフォトマスクと、前記基板に予め形成された線状パターンと、前記フォトマスクに形成される基準マークとを撮影するカメラと、前記フォトマスクを前記所定の方向とは直交する方向に移動させるフォトマスク移動手段と、前記テーブルを駆動し前記フォトマスクを前記基板に形成された線状パターンに沿って相対的に移動させる際、フォトマスクの移動方向の移動開始側において、前記カメラによって前記基板に予め形成された線状パターンと前記フォトマスクに設けられた基準マークとを画像認識し、これよって認識した線状パターンの画像と予め記憶されている基準画像とを比較することにより、前記線状パターンに対する前記フォトマスクのズレ量を算出し、前記フォトマスク移動手段によって前記フォトマスクを移動させることによりそのズレを補正した後、再度前記フォトマスクに設けられた基準マークを画像認識して、この画像をズレの補正前に得た基準マークの画像と比較することにより、前記フォトマスク移動手段による前記フォトマスクの実際の移動量を算出し、この移動量から前記フォトマスク移動手段による前記フォトマスクの位置補正が的確になされたか否かを判定する照合手段と、を備えることを要旨とする。

この場合、前記光源および前記フォトマスクはそれぞれ複数備えられ、前記基板の移動方向に対して直交する方向に千鳥状に交互に配置されていると良い。

また、前記フォトマスクは、スリット状の透光部が互いに略平行に形成され、前記透光部のピッチは前記線状パターンのピッチと等しく、かつ前記透光部の横幅寸法は前記ピッチの約半分であると良い。

本発明によれば、高い位置決め精度で配向処理を行うことができる。

本発明に適用される露光装置の要部の構成を示した模式図であり、（ａ）は、露光装置を基板の被照射面の上方から見た図、（ｂ）は、その側方から見た図である。 図１の露光装置に用いられるフォトマスクの構成を模式的に示した外観斜視図である。 図１の露光装置に用いられるカメラの二重焦点構造を模式的に示した図である。 本発明に係る光配向処理を模式的に示した図であり、（ａ）は、アレイ基板に対する光配向処理を、（ｂ）は、カラーフィルタ基板に対する光配向処理を、（ｃ）は、両基板を貼り合わせて構成される液晶パネルの各絵素内における液晶分子の配向方向を模式的に示した図である。 図４の光配向処理において用いるアレイ基板用フォトマスクと、アレイ基板に形成されるパターンとの寸法関係を示した図である。 図４の光配向処理において用いるカラーフィルタ基板用フォトマスクと、カラーフィルタ基板に形成されるパターンとの寸法関係を示した図である。

以下に、本発明に係る一実施形態について図面を参照して詳細に説明する。図１は、本発明に適用される露光装置の要部の構成を示した模式図であり、図１（ａ）は露光装置を基板の被照射面の上方から見た図、図１（ｂ）はその側方から見た図である。

図示される露光装置１は、基板３の被照射面に光エネルギを照射する複数の露光ユニット１１と、基板３を載置して移動させるテーブル１２とを備える。図中の矢印ａは、テーブル１２上の基板３の移動方向を示す。

各露光ユニット１１は、露光ヘッド１１１、光源１１２、フォトマスク２、カメラ１１３と、マスク移動手段１１４、記憶手段１１５、照合手段１１６を備える。このような露光ユニット１１を、図示されるように基板３の移動方向ａに対して直交する方向に千鳥状に交互に複数配置することで、基板３の全面に対して露光できるようになっている。

露光ユニット１１に用いられる光源１１２には、所定の波長帯域の光エネルギを発することができる公知の各種光源が適用でき、照射目的や被照射物の種類などに応じて適宜選択される。たとえば基板３の被照射面に紫外線を照射する場合には、紫外線光源が適用される。

露光に用いられるフォトマスク２は、常態においてはその表面が基板３の被照射面に略平行となるように配置される。また、フォトマスク２は、露光ヘッド１１１下位置において、基板３の被照射面に平行な面内を、この場合、図示されるように基板３の移動方向ａに対して直交するｂ方向に移動可能に支持される。

フォトマスク２は石英ガラスなどからなる透明基板の表面に、所定のパターンに形成された遮光部と透光部を有する。図２は、フォトマスク２の構成の例を模式的に示した外観斜視図である。図中の矢印ａは基板３の移動方向を示す。このフォトマスク２は、たとえば縦長スリット形状の透光部２２が、基板の移動方向ａの直角方向に沿って所定のピッチで並列して形成される構成を備える。図においては、ハッチングを施した領域が遮光部２１を示し、施していない領域が透光部２２を示す。

フォトマスク２の基板３に対する移動開始側には、横長スリット形状の透光窓２３が形成されている。そして、透光窓２３には、フォトマスク２のアライメントマークとして基準マーク２４が形成されている。

カメラ１１３は、テーブル１２上に載置された基板３の被照射面を撮影できる。このカメラ１１３には、たとえばＣＣＤカメラなどの各種公知の撮像装置が適用できる。図示されるようにカメラ１１３は、各露光ヘッド１１１の基板３に対する移動方向の移動開始側に配設されている。

カメラ１１３は、前述のフォトマスク２の透光窓２３を介して、基板３に予め形成された既存パターン４、例えば、ゲートバスライン、ソースバスラインやブラックマトリクスを撮影する。この際、カメラ１１３は、基板３の移動方向ａに平行に形成された図中縦に延びる既存パターン４の開始端から他方の終了端までを画像認識するための撮影を行う。従って、透光窓２３下を帯状に流れるように移動する既存パターン４が、カメラ１１３の撮影により画像認識される。

カメラ１１３が撮影している間、透光窓２３下を移動している既存パターン４が、基板３の移動方向ａに対して直角となる方向へずれていってしまう場合は、そのズレ量を算出し、そのズレ量に応じたフォトマスク２の位置合わせのための移動が行われる。このように、既存パターン４に追従したフォトマスク２の移動制御によってアライメント調整が行われるので、既存パターン４に沿った位置に正確に露光がなされる。

また、カメラ１１３は、透光窓２３下を移動する既存パターン４を撮影する同時に、同じく透光窓２３に形成された基準マーク２４も撮影する。カメラ１１３が撮影している間、上述したようなズレを補正するためのフォトマスク２の移動がなされれば、撮影している基準マーク２４も移動する。このときの基準マーク２４の移動量を算出し、フォトマスク２の位置合わせのための移動が的確になされた否かの判定を行う。判定結果により、例えば、フォトマスク２の移動がなされていなかったり、移動量が算出したズレ量と比べて大きすぎたりした場合は、露光処理を中止する等が行われる。

このようなカメラ１１３は各フォトマスク２と対になって設けられている。また、各カメラ１１３は、フォトマスク２の移動に用いられる移動手段とは異なる図示しない移動手段によってそれぞれ独立して移動可能になっている。このカメラ１１３に設けられた移動手段は、露光開始前のフォトマスク２との位置合わせのためなどに用いられる。

カメラ１１３は、図３に示すような焦点が二つある二重焦点カメラであり、基板３上の既存パターン４と基準マーク２４のそれぞれに焦点を合わせることが可能になっており、双方を鮮明に撮影することができるようになっている。図示されるようにカメラ１１３の視野半分に光調整板１１３ａを介在させ、焦点深度が異なる基板上の既存パターン４及びフォトマスクの基準マーク２４に対して同時に焦点が合うようになっている。

記憶手段１１５は、フォトマスク２の位置合わせに用いる基準画像が記憶されており、更にはカメラ１１３が撮影した既存パターン４の画像やフォトマスク２の基準マーク２４の画像も記憶することができる。

照合手段１１６は、カメラ１１３が撮影した基板３上の既存パターン４の画像と記憶手段１１５が記憶する基準画像とを比較し、基板３の被照射面に対して実際に光エネルギを照射している範囲と本来光エネルギを照射すべき範囲との位置、つまり既存パターン４に対するフォトマスク２の位置のズレ量を算出する。

マスク移動手段１１４は、照合手段１１６が算出したズレ量に基づいて、フォトマスク２の位置を移動させて補正し、基板３の被照射面の光エネルギを照射すべき範囲に対して実際に光エネルギを照射できるようにする。

更に、照合手段１１６は、マスク移動手段１１４によりフォトマスクの位置が補正される前にカメラ１１３が撮影したフォトマスク２の基準マーク２４の画像と、補正された後にカメラ１１３が撮影したフォトマスク２の基準マーク２４の画像とを比較して、移動補正の際のフォトマスク２の実際の移動量を算出し、フォトマスク２の位置補正が的確になされた否かを判定する。判定結果により、例えば、フォトマスク２の移動がなされていなかったり、フォトマスク２の移動量が算出したズレ量に対する大きすぎたりした場合は、露光処理を中止する等の処理が行われ、算出したズレ量に対するフォトマスク２の移動量が同じである場合は、露光処理が続行されるようになっている。

上述したように基板３を移動させて光エネルギを照射しつつ、既存パターン４に追従したフォトマスク２のアライメント調整を行い、既存パターン４の開始端から終了端までフォトマスク２が移動すると露光処理が終了する。

このようにカメラ１１３によって撮影された既存パターン４とフォトマスク２の基準マーク２４のそれぞれの画像を用いて、それぞれの位置関係が露光中監視されるので、既存パターン４に対するフォトマスク２の位置合わせの精度を格段に向上させることができる。

次に上記露光装置の適用例（本発明の一実施形態にかかる配向処理方法および配向処理装置）について説明する。ここで説明する実施例は、液晶表示パネルの各絵素内に、液晶の配向が互いに異なる複数の領域（以下、この領域を「ドメイン領域」と称する）を形成するために配向膜に施す光配向処理である。また、ここでは照射する光エネルギとして紫外線を用いるものとする。

図４（ａ），（ｂ）は、液晶表示パネルを構成する一対の基板、アレイ基板とカラーフィルタ基板のそれぞれに形成される絵素に対する光エネルギの照射形態を模式的に示した図である。それぞれ、図４（ａ）がアレイ基板に形成される絵素を、図４（ｂ）がカラーフィルタ基板に形成される絵素を示す。また、図４（ｃ）は、これら両基板を貼り合わせて構成される液晶表示パネルの各絵素内の液晶の配向を示した平面模式図である。

図４（ａ）に示されるようにアレイ基板には、ソースバスライン３１２とゲートバスライン３１１に囲まれる領域に絵素電極３１３が形成され、ソースバスライン３１２とゲートバスライン３１１の交差点近傍にこの絵素電極３１３を駆動する薄膜トランジスタ３１４が形成されている。また、図示しないが、絵素３１の表面にはポリイミドなどからなる配向膜が形成されている。

また、図４（ｂ）に示すようにカラーフィルタ基板は、ブラックマトリックス３２１により絵素３２が画成され、各絵素３２の内側にはカラーフィルタ層３２２が形成されている。また、図示しないが、各絵素３２の表面には対向電極と配向膜が形成されている。

これらアレイ基板やカラーフィルタ基板の構成および製造方法は、従来一般のものが適用できるから説明は省略する。

アレイ基板の光配向処理は、図４（ａ）に示すように、まず各絵素３１内にその両側のソースバスライン３１２の略中間で二分されて形成される二つの領域を想定する。図中の一点鎖線Ａはこの領域の境界を示す。そしてそれぞれの領域の配向膜に対して、絵素３１の面の法線に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から紫外線を照射する。各領域に照射される紫外線の向きは、それぞれ照射される紫外線の光軸を絵素３１の面に投影した場合に、投影した光軸がソースバスライン３１２に略平行でかつ互いに略１８０°異なる向きとする。

カラーフィルタ基板の光配向処理では、ブラックマトリックス３２１の四辺のうち前記アレイ基板と貼り合わせた際にアレイ基板のゲートバスライン３１１に平行する二辺の略中間で二分されて形成される二つの領域を想定する。図中の一点鎖線Ｂはこの領域の境界を示す。そしてそれぞれの領域の配向膜に、絵素３２の面の法線に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から紫外線を照射する。各領域に対する紫外線の照射の向きは、それぞれ照射される紫外線の光軸を絵素３２の面に投影した場合に、これらの投影した光軸がアレイ基板のゲート信号線３１１に略平行でかつ互いに略１８０°異なる向きとする。

このように光配向処理が施された配向膜を有するアレイ基板とカラーフィルタ基とを貼り合わせると、図４（ｃ）に示すように、これらの基板の間に充填される液晶は、各基板の各領域に施された光配向処理の向き、すなわち紫外線の照射の向きにしたがって配向する。図中の各矢印は液晶の配向を模式的に示す。この結果各絵素内には、液晶の配向の向きが互いに異なる四つのドメイン領域が形成される。

図５（ａ）は、本実施例においてアレイ基板の配向膜に光配向処理を施す際に使用されるフォトマスク（以下、「アレイ基板用フォトマスク」と称する）の構成を示す。また、図５（ｂ）はこのアレイ基板用フォトマスクとアレイ基板に形成される絵素のパターンとの寸法および位置関係を示した平面模式図である。

アレイ基板用フォトマスク２ｘは、図２に示したものと同様に石英ガラスなどからなる略長方形の板状の部材である。そして図５（ａ）に示すように紫外線が透過できる複数の透光部２２ｘが所定のピッチで互いに略平行に形成される。この透光部２２ｘのピッチＰｘは図５（ｂ）に示すようにアレイ基板に形成されるソースバスライン３１２のピッチに等しく設定される。また透光部２２ｘの横幅寸法は、前記ピッチＰｘの約１／２の寸法に設定される。そして、透光窓２３ｘが設けられており、この透光窓２３ｘには基準マーク２４ｘが形成されている。なお、図中の矢印ａはアレイ基板用フォトマスク２ｘに対するアレイ基板の移動方向を示す。

そして、このようなアレイ基板用フォトマスク２ｘを用いて、まず前記ソースバスライン３１２の略中間で二分されて形成される二つの領域の一方に対し、所定の照射角で紫外線を照射する。次いで、二つの領域の他方に対して所定の照射角で紫外線を照射する。各領域に対する紫外線の照射角の関係は上述した通りである。アレイ基板用フォトマスク２ｘとアレイ基板の相対的な位置関係をアレイ基板の移動方向ａの直角方向に前記透光部２２ｘのピッチＰｘの１／２の寸法だけずらして用いれば、一枚のアレイ基板用フォトマスク２ｘで前記二つの領域のそれぞれに対して紫外線を照射できる。

図６は、本実施例においてカラーフィルタ基板の表面に形成される配向膜に光配向処理を施す際に使用されるフォトマスク（以下、「カラーフィルタ基板用フォトマスク」と称する）と、カラーフィルタ基板に形成される絵素との寸法および位置関係を示した平面模式図である。

カラーフィルタ基板用のフォトマスク２ｙの構成は、透光部２２ｙの寸法形状を除いては前記アレイ基板用フォトマスク２ｘとほぼ同じである。図６に示すように、透光部２２ｙのピッチＰｙは、ブラックマトリックス３２１の四辺のうちアレイ基板のゲートバスラインに平行な辺のピッチに等しく設定される。また透光部２２ｙの横幅寸法は前記ピッチＰｙの約１／２に設定される。そして、図示しないが、このカラーフィルタ基板用フォトマスク２ｙにも、前記アレイ基板用フォトマスク２ｘの透光窓２３ｘと同様の透光窓が設けられており、その透光窓には基準マークが形成されている。なお、図中の矢印ａは、カラーフィルタ基板用フォトマスクに対するカラーフィルタ基板の移動方向を示す。

そしてこのようなカラーフィルタ基板用フォトマスク２ｙを用いて、まずアレイ基板のゲートバスラインに平行な辺の略中間で二分して形成される二つの領域の一方に対して、所定の照射角で紫外線を照射する。次いで前記二つの領域の他方に対して所定の照射角で紫外線を照射する。各領域に対する紫外線の照射角の関係は前記の通りである。カラーフィルタ基板用フォトマスク２ｙとカラーフィルタ基板との相対的な位置関係をカラーフィルタ基板の移動方向ａの直角方向に前記透光部２２ｙのピッチＰｙの１／２の寸法だけずらして用いれば、一枚のカラーフィルタ基板用フォトマスク２ｙで前記二つの領域のそれぞれに対して紫外線を照射できる。

上記構成では、スリット状の開口部が形成された小形のフォトマスクを複数用いて基板表面の一部の領域に紫外線などを照射しつつ、基板を移動させるという方法で露光を行う。この方法によれば、基板サイズの大きさに関わらず高い位置決め精度で露光を行うことができる。

また、紫外線などを照射しつつ基板を移動させている間は、基板の表面に予め形成されている既存のパターン、例えばゲートバスライン、ソースバスラインやブラックマトリックスなどの線状パターンと、フォトマスクに設けられた基準マークを同時に撮影し、撮影された画像を用いて実際に照射している位置、つまり基板上の既存のパターンに対するフォトマスクの位置を監視する。これにより、上記露光方法を高い精度で行うことができる。

以上、本発明の一実施形態ついて詳細に説明したが、本発明はこれらの実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。

例えば、液晶表示パネルの配向膜の光配向処理に適用する構成について示したが、適用対象は配向膜の光配向処理に限定されるものではない。カラーフィルタ層、ブラックマトリックス、その他の所定の要素をフォトリソグラフィ法を用いて形成する際の露光にも適用できる。

１ 露光装置
１１ 露光ユニット
１１１ 露光ヘッド
１１２ 光源
１１３ カメラ
１１３ａ 光路調整板
１１４ マスク移動手段
１１５ 記憶手段
１１６ 照合手段
２ フォトマスク
２１ 遮光部
２２ 透光部
２３ 透光窓
２４ 基準マーク
３ 基板
３１ アレイ基板
３１１ ゲートバスライン
３１２ ソースバスライン
３１３ 絵素電極
３１４ 薄膜トランジスタ
３２ カラーフィルタ基板
３２１ ブラックマトリクス
３２２ カラーフィルタ層
４ 既存パターン
ａ 基板の移動方向
ｂ マスクの移動方向

Claims (7)

1. 基板上に形成した配向膜に対して相対的にフォトマスクを移動させながら当該フォトマスクを介して光エネルギを照射して前記配向膜表面に配向特性を与える配向処理方法において、
   前記フォトマスクを前記基板に形成された線状パターンに沿って相対的に移動させる際、フォトマスクの移動方向の移動開始側において、前記基板に予め形成された線状パターンと前記フォトマスクに設けられた基準マークとを画像認識する画像認識工程と、
   この画像認識工程によって認識した線状パターンの画像と予め記憶されている基準画像とを比較することにより、前記線状パターンに対する前記フォトマスクのズレ量を算出し、前記フォトマスクの移動によりそのズレを補正するマスク位置補正工程と、
   このマスク位置補正工程の後、再度前記フォトマスクに設けられた基準マークを画像認識して、この画像を前記画像認識工程で得た基準マークの画像と比較することにより、前記マスク位置補正工程での前記フォトマスクの実際の移動量を算出し、この移動量から前記マスク位置補正工程によるフォトマスクの位置補正が的確になされたか否かを判定するマスク位置補正検査工程と、
   を含むことを特徴とする配向処理方法。
2. 前記線状パターンは、ゲートバスライン、ソースバスラインまたはブラックマトリックスのいずれかであることを特徴とする、請求項１に記載の配向処理方法。
3. 前記光エネルギは、前記光配向膜に対して所定の角度で照射されることを特徴とする請求項１または２に記載の配向処理方法。
4. 前記光エネルギは紫外光であることを特徴とする、請求項１から３のいずれかに記載の配向処理方法。
5. 基板上に形成された配向膜に対して相対的にフォトマスクを移動させながら当該フォトマスクを介して光エネルギを照射して配向処理を行う配向処理装置であって、
   前記光エネルギを発する光源と、
   前記基板を載置して所定の方向に移動させるテーブルと、
   前記光源と前記テーブルとの間に位置するフォトマスクと、
   前記基板に予め形成された線状パターンと、前記フォトマスクに形成される基準マークとを撮影するカメラと、
   前記フォトマスクを前記所定の方向とは直交する方向に移動させるフォトマスク移動手段と、
   前記テーブルを駆動し前記フォトマスクを前記基板に形成された線状パターンに沿って相対的に移動させる際、フォトマスクの移動方向の移動開始側において、前記カメラによって前記基板に予め形成された線状パターンと前記フォトマスクに設けられた基準マークとを画像認識し、
   これよって認識した線状パターンの画像と予め記憶されている基準画像とを比較することにより、前記線状パターンに対する前記フォトマスクのズレ量を算出し、前記フォトマスク移動手段によって前記フォトマスクを移動させることによりそのズレを補正した後、
   再度前記フォトマスクに設けられた基準マークを画像認識して、この画像をズレの補正前に得た基準マークの画像と比較することにより、前記フォトマスク移動手段による前記フォトマスクの実際の移動量を算出し、この移動量から前記フォトマスク移動手段による前記フォトマスクの位置補正が的確になされたか否かを判定する照合手段と、
   を備えることを特徴とする配向処理装置。
6. 前記光源および前記フォトマスクはそれぞれ複数備えられ、前記基板の移動方向に対して直交する方向に千鳥状に交互に配置されていることを特徴とする請求項５に記載の配向処理装置。
7. 前記フォトマスクは、スリット状の透光部が互いに略平行に形成され、前記透光部のピッチは前記線状パターンのピッチと等しく、かつ前記透光部の横幅寸法は前記ピッチの約半分であることを特徴とする請求項５または６に記載の配向処理装置。

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