JP2013033071A - マイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】露光パターン50fの領域を上層レイヤーが露光する際、基板1の熱歪みに合わせて、マスク3を露光光の光軸の周りに回転させ、マイクロレンズアレイ2をスキャン方向5に垂直の面内で傾動させる。これにより、スキャン方向及びスキャン方向に垂直の方向に関して、上層レイヤーのパターンの倍率を調節して、高精度で重ね露光することができる。
【選択図】図10
Description
このマイクロレンズアレイをその周辺部で保持するホルダと、
このマイクロレンズアレイの上方に配置され所定の露光パターンが形成されたマスクと、
このマスクに対して露光光を照射する露光光源と、
前記マイクロレンズアレイと前記基板及び前記マスクとを相対的に第1方向に移動させる移動装置と、
前記ホルダに対して、前記マイクロレンズアレイを前記第1方向に直交する面内で傾斜させる第1駆動部材と、
前記マスクを前記露光光の光軸の周りに回転させるか、又は前記光軸に垂直の方向に移動させる第2駆動部材と、
前記第1の駆動部材による前記マイクロレンズアレイの傾動と、前記第2駆動部材による前記マスクの回転又は移動を、前記移動装置による前記マイクロレンズアレイの相対的移動の位置に応じて制御する制御装置と、
を有することを特徴とする。
前記単位マイクロレンズアレイ間の反転結像位置には、6角形等の多角形の開口を有する多角(6角)視野絞りが配置され、
前記単位マイクロレンズアレイ間の露光光の最大拡大部には、その少なくとも一部に、円形の開口を有する開口絞りが配置されており、
前記多角(6角)視野絞り及び開口絞りは、前記単位マイクロレンズアレイ間で、前記第1の方向に傾斜する方向又は直交する方向に線上に列をなして配置されている。
前記第2駆動部材は、前記マスクに設けたマスクアライメントパターンが前記基準アライメントパターンに整合するように、前記マスクを前記露光光の光軸の周りに回転させるか、又は前記光軸に垂直の方向に移動させるように構成することができる。
前記マスクアライメントパターンも、前記第1方向に垂直の方向に延びる線状パターンであり、
前記第2駆動部材は、前記基準アライメントパターンと、前記マスクアライメントパターンとが平行になるように前記マスクを前記露光光の光軸の周りに回転させるか、又は前記光軸に垂直の方向に移動させることが好ましい。
前記単位マイクロレンズアレイ間の反転結像位置にて、そのマイクロレンズの光軸を偏倚させることにより、マイクロレンズアレイによる基板上の露光位置を調整するように構成することもできる。
2:マイクロレンズアレイ
2a:マイクロレンズ
2−1〜2−4:単位マイクロレンズアレイ
3:マスク
3a:透明基板
3b:Cr膜
4:露光光源
5:スキャン方向
6:支持基板
10:レンズ視野領域
12:6角視野絞り
12a:矩形部分
12b、12c:三角形部分
14(14a、14b、14c),15(15a、15b、15c):圧電素子
20:アクチュエータ
21:光学系
22:ダイクロイックミラー
23:ラインCCDカメラ
24:画像処理部
25:制御部
50a〜50p:露光パターン
Claims (6)
- 露光すべき基板の上方に配置され、複数個のマイクロレンズが2次元的に配置されたマイクロレンズアレイと、
このマイクロレンズアレイをその周辺部で保持するホルダと、
このマイクロレンズアレイの上方に配置され所定の露光パターンが形成されたマスクと、
このマスクに対して露光光を照射する露光光源と、
前記マイクロレンズアレイと前記基板及び前記マスクとを相対的に第1方向に移動させる移動装置と、
前記ホルダに対して、前記マイクロレンズアレイを前記第1方向に直交する面内で傾斜させる第1駆動部材と、
前記マスクを前記露光光の光軸の周りに回転させるか、又は前記光軸に垂直の方向に移動させる第2駆動部材と、
前記第1の駆動部材による前記マイクロレンズアレイの傾動と、前記第2駆動部材による前記マスクの回転又は移動を、前記移動装置による前記マイクロレンズアレイの相対的移動の位置に応じて制御する制御装置と、
を有することを特徴とするマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置。 - 前記マイクロレンズアレイは、複数個のマイクロレンズが2次元的に配置された複数個の単位マイクロレンズアレイが積層して構成されており、
前記単位マイクロレンズアレイ間の反転結像位置には、多角形の開口を有する多角視野絞りが配置され、
前記単位マイクロレンズアレイ間の露光光の最大拡大部には、その少なくとも一部に、円形の開口を有する開口絞りが配置されており、
前記多角視野絞り及び開口絞りは、前記単位マイクロレンズアレイ間で、前記第1の方向に傾斜する方向又は直交する方向に線上に列をなして配置されていることを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置。 - 前記基板上の基準アライメントパターンを検出するアライメントパターン検出部を有し、
前記第2駆動部材は、前記マスクに設けたマスクアライメントパターンが前記基準アライメントパターンに整合するように、前記マスクを前記露光光の光軸の周りに回転させるか、又は前記光軸に垂直の方向に移動させることを特徴とする請求項1又は2に記載のマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置。 - 前記基準アライメントパターンは、前記マイクロレンズアレイと前記基板及び前記マスクとの相対的スキャン方向である前記第1方向に垂直の方向に延びる線状パターンであり、
前記マスクアライメントパターンも、前記第1の方向に垂直の方向に延びる線状パターンであり、
前記第2駆動部材は、前記基準アライメントパターンと、前記マスクアライメントパターンとが平行になるように前記マスクを前記露光光の光軸の周りに回転させるか、又は前記光軸に垂直の方向に移動させることを特徴とする請求項3に記載のマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置。 - 前記マイクロレンズアレイは前記第1の方向に垂直の方向に複数個配置されており、前記第1駆動部材は、前記複数個のマイクロレンズアレイを相互に相関関係をもって独立した角度で傾斜させることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置。
- 露光すべき基板の上方に配置され、複数個のマイクロレンズが2次元的に配置されたマイクロレンズアレイと、
このマイクロレンズアレイをその周辺部で保持するホルダと、
このマイクロレンズアレイの上方に配置され所定の露光パターンが形成されたマスクと、
このマスクに対して露光光を照射する露光光源と、
前記マイクロレンズアレイと前記基板及び前記マスクとを相対的に第1方向に移動させる移動装置と、
を有し、
前記マイクロレンズアレイは、複数個のマイクロレンズが2次元的に配置された複数個の単位マイクロレンズアレイが積層して構成されており、
前記単位マイクロレンズアレイ間の反転結像位置には、多角形の開口を有する多角視野絞りが配置され、
前記単位マイクロレンズアレイ間の露光光の最大拡大部には、その少なくとも一部に、円形の開口を有する開口絞りが配置されており、
前記多角視野絞り及び開口絞りは、前記単位マイクロレンズアレイ間で、前記第1の方向に傾斜する方向又は直交する方向に線上に列をなして配置されており、
更に、
前記マスクを前記露光光の光軸の周りに回転させるか、又は前記光軸に垂直の方向に移動させる第2駆動部材と、
前記単位マイクロレンズアレイの少なくとも一部を他の単位マイクロレンズアレイに対してその構成マイクロレンズの光軸が偏倚するように移動させることにより、マイクロレンズアレイによる基板上の露光位置を調整する第3駆動部材と、
前記第2駆動部材による前記マスクの回転又は移動と、前記第3駆動部材による前記マイクロレンズの光軸の偏倚を、前記移動装置による前記マイクロレンズアレイの相対的移動の位置に応じて制御する制御装置と、
を有することを特徴とするマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2013033071A true JP2013033071A (ja) | 2013-02-14 |
JP5853343B2 JP5853343B2 (ja) | 2016-02-09 |
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Family Applications (1)
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A621 | Written request for application examination |
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