JP6023952B2 - マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 - Google Patents
マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6023952B2 JP6023952B2 JP2012163127A JP2012163127A JP6023952B2 JP 6023952 B2 JP6023952 B2 JP 6023952B2 JP 2012163127 A JP2012163127 A JP 2012163127A JP 2012163127 A JP2012163127 A JP 2012163127A JP 6023952 B2 JP6023952 B2 JP 6023952B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- microlens array
- microlens
- unit
- array
- glass plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/7015—Details of optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0056—Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along two different directions in a plane, e.g. honeycomb arrangement of lenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/095—Refractive optical elements
- G02B27/0955—Lenses
- G02B27/0961—Lens arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0062—Stacked lens arrays, i.e. refractive surfaces arranged in at least two planes, without structurally separate optical elements in-between
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0075—Arrays characterized by non-optical structures, e.g. having integrated holding or alignment means
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Stereoscopic And Panoramic Photography (AREA)
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
Description
ガラス板と、
このガラス板の上面及び下面に積層され複数個のマイクロレンズが2次元的に配置されて構成され相互に積層された複数枚の単位マイクロレンズアレイと、
を有し、
前記単位マイクロレンズアレイは、前記複数個のマイクロレンズが第1方向に配列されて構成されたマイクロレンズ列が前記第1方向に直交する第2方向に複数列配置されて構成されており、所定数の前記マイクロレンズ列によりマイクロレンズ列群が構成され、各前記マイクロレンズ列群においては、複数列の前記マイクロレンズ列が前記第1方向に一定距離ずつ偏倚して配置されており、このマイクロレンズ列群が前記第2方向に複数個配置されて構成されたものであり、
前記各単位マイクロレンズアレイの前記第1方向における端縁は、前記第2方向に隣接するマイクロレンズ列同士で、前記マイクロレンズ列が前記第1方向に前記一定距離偏倚しているのに対応して、前記第2方向に対して傾斜しており、
各前記単位マイクロレンズアレイと、前記ガラス板には、位置合わせ用のマークが形成されていて、前記単位マイクロレンズアレイと前記ガラス板とは、これらのマークにより位置合わせされて相互に積層されていることを特徴とする。
前記マイクロレンズアレイは、
ガラス板と、
このガラス板の上面及び下面に積層され複数個のマイクロレンズが2次元的に配置されて構成された複数枚の単位マイクロレンズアレイと、
を有し、
前記単位マイクロレンズアレイは、前記複数個のマイクロレンズが前記移動方向に直交する方向の第1方向に配列されて構成されたマイクロレンズ列が前記移動方向である第2方向に複数列配置されて構成されており、所定数の前記マイクロレンズ列によりマイクロレンズ列群が構成され、各前記マイクロレンズ列群においては、複数列の前記マイクロレンズ列が前記第1方向に一定距離ずつ偏倚して配置されており、このマイクロレンズ列群が前記第2方向に複数個配置されて構成されたものであり、
前記各単位マイクロレンズアレイの前記第1方向における端縁は、前記第2方向に隣接するマイクロレンズ列同士で、前記マイクロレンズ列が前記第1方向に前記一定距離偏倚しているのに対応して、前記第2方向に対して傾斜しており、
各前記単位マイクロレンズアレイと、前記ガラス板には、位置合わせ用のマークが形成されていて、前記単位マイクロレンズアレイと前記ガラス板は、これらのマークにより位置合わせされて相互に積層されていることを特徴とする。
Claims (5)
- 露光光を出射する光源と共に移動され、前記光源からの露光光をマスクのパターンに透過させ、このマスクの透過光により前記マスクに形成されたパターンの正立等倍像を結像させるマイクロレンズアレイにおいて、
ガラス板と、
このガラス板の上面及び下面に積層され複数個のマイクロレンズが2次元的に配置されて構成され相互に積層された複数枚の単位マイクロレンズアレイと、
を有し、
前記単位マイクロレンズアレイは、前記複数個のマイクロレンズが第1方向に配列されて構成されたマイクロレンズ列が前記第1方向に直交する第2方向に複数列配置されて構成されており、所定数の前記マイクロレンズ列によりマイクロレンズ列群が構成され、各前記マイクロレンズ列群においては、複数列の前記マイクロレンズ列が前記第1方向に一定距離ずつ偏倚して配置されており、このマイクロレンズ列群が前記第2方向に複数個配置されて構成されたものであり、
前記各単位マイクロレンズアレイの前記第1方向における端縁は、前記第2方向に隣接するマイクロレンズ列同士で、前記マイクロレンズ列が前記第1方向に前記一定距離偏倚しているのに対応して、前記第2方向に対して傾斜しており、
各前記単位マイクロレンズアレイと、前記ガラス板には、位置合わせ用のマークが形成されていて、前記単位マイクロレンズアレイと前記ガラス板とは、これらのマークにより位置合わせされて相互に積層されていることを特徴とするマイクロレンズアレイ。 - 前記単位マイクロレンズアレイ及び前記ガラス板によりマイクロレンズアレイチップが構成され、複数個の前記マイクロレンズアレイチップが前記第1方向に配列されており、前記第1方向に隣接するマイクロレンズアレイチップ同士は、そのマイクロレンズ列が前記第2方向に1列又は複数列ずれており、このずれにより、マイクロレンズアレイチップの相互間に隙間が形成されていることを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズアレイ。
- 前記単位マイクロレンズアレイ間の反転結像位置には、多角形の開口を有する多角視野絞りが配置され、前記単位マイクロレンズアレイ間の露光光の最大拡大部には、その少なくとも一部に、円形の開口を有し各マイクロレンズの開口数を制限する開口絞りが配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のマイクロレンズアレイ。
- 更に、前記単位マイクロレンズアレイを保持するホルダを有することを特徴とする請求項1又は2に記載のマイクロレンズアレイ。
- 露光光を出射する光源と、
前記光源からの露光光が入射され、基板に露光すべきパターンが形成されたマスクと、
前記マスクの透過光が入射され前記パターンの正立等倍像を基板に結像させるマイクロレンズアレイと、
前記光源及び前記マイクロレンズアレイを前記マスク及び基板に対して相対的に移動させる移動装置と、
を有し、
前記マイクロレンズアレイは、
ガラス板と、
このガラス板の上面及び下面に積層され複数個のマイクロレンズが2次元的に配置されて構成された複数枚の単位マイクロレンズアレイと、
を有し、
前記単位マイクロレンズアレイは、前記複数個のマイクロレンズが前記移動方向に直交する方向の第1方向に配列されて構成されたマイクロレンズ列が前記移動方向である第2方向に複数列配置されて構成されており、所定数の前記マイクロレンズ列によりマイクロレンズ列群が構成され、各前記マイクロレンズ列群においては、複数列の前記マイクロレンズ列が前記第1方向に一定距離ずつ偏倚して配置されており、このマイクロレンズ列群が前記第2方向に複数個配置されて構成されたものであり、
前記各単位マイクロレンズアレイの前記第1方向における端縁は、前記第2方向に隣接するマイクロレンズ列同士で、前記マイクロレンズ列が前記第1方向に前記一定距離偏倚しているのに対応して、前記第2方向に対して傾斜しており、
各前記単位マイクロレンズアレイと、前記ガラス板には、位置合わせ用のマークが形成されていて、前記単位マイクロレンズアレイと前記ガラス板は、これらのマークにより位置合わせされて相互に積層されていることを特徴とするマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012163127A JP6023952B2 (ja) | 2011-07-29 | 2012-07-23 | マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011167819 | 2011-07-29 | ||
JP2011167819 | 2011-07-29 | ||
JP2012163127A JP6023952B2 (ja) | 2011-07-29 | 2012-07-23 | マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013050709A JP2013050709A (ja) | 2013-03-14 |
JP6023952B2 true JP6023952B2 (ja) | 2016-11-09 |
Family
ID=47629099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012163127A Active JP6023952B2 (ja) | 2011-07-29 | 2012-07-23 | マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9001425B2 (ja) |
JP (1) | JP6023952B2 (ja) |
KR (1) | KR101931402B1 (ja) |
CN (1) | CN103718066B (ja) |
TW (1) | TWI544284B (ja) |
WO (1) | WO2013018572A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101931402B1 (ko) * | 2011-07-29 | 2018-12-20 | 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디 | 마이크로 렌즈 어레이 및 그것을 사용한 스캔 노광 장치 |
JP5760250B2 (ja) * | 2011-08-03 | 2015-08-05 | 株式会社ブイ・テクノロジー | マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 |
US9454004B2 (en) * | 2012-10-03 | 2016-09-27 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Apparatus for coherent beam combining in an array of laser collimators |
KR101644929B1 (ko) * | 2014-10-01 | 2016-08-02 | 홍익대학교 산학협력단 | 마이크로 렌즈 어레이 설계 방법 및 장치 |
CN106355620B (zh) * | 2016-08-31 | 2020-03-24 | 张家港康得新光电材料有限公司 | 标记的校正方法与校正系统 |
CN107843966B (zh) * | 2016-09-18 | 2021-05-04 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 用于装配微透镜阵列组件的方法和系统 |
CN109817843B (zh) * | 2019-01-30 | 2021-10-08 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 在oled显示器中形成微透镜阵列的方法和微透镜阵列 |
JP7267761B2 (ja) * | 2019-01-31 | 2023-05-02 | キヤノン株式会社 | 光源装置、照明装置、露光装置及び物品の製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09244255A (ja) * | 1996-03-13 | 1997-09-19 | Nikon Corp | 液晶用露光装置 |
JPH10104405A (ja) * | 1996-09-30 | 1998-04-24 | Sony Corp | 光学基板およびその製造方法 |
US20020045028A1 (en) * | 2000-10-10 | 2002-04-18 | Takayuki Teshima | Microstructure array, mold for forming a microstructure array, and method of fabricating the same |
JP2008039867A (ja) | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Hitachi Metals Ltd | マイクロミラー、マイクロミラーアレイおよびそれを用いた光スイッチ |
JP5034632B2 (ja) * | 2007-04-12 | 2012-09-26 | 株式会社ニコン | パターンジェネレータ、パターン形成装置及びパターン生成方法 |
JP4888241B2 (ja) * | 2007-06-18 | 2012-02-29 | セイコーエプソン株式会社 | マイクロレンズアレイ付き部品の製造方法 |
EP2273289B1 (en) * | 2008-04-28 | 2015-01-21 | Konica Minolta Opto, Inc. | Method for producing wafer lens assembly |
EP2226683A1 (en) * | 2009-03-06 | 2010-09-08 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Illumination system for use in a stereolithography apparatus |
JP5294488B2 (ja) * | 2009-12-03 | 2013-09-18 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置 |
JP5294490B2 (ja) * | 2009-12-22 | 2013-09-18 | 株式会社ブイ・テクノロジー | フォトマスク |
JP5376379B2 (ja) * | 2010-08-30 | 2013-12-25 | 株式会社ブイ・テクノロジー | マイクロレンズアレイを使用した露光装置及び光学部材 |
KR101931402B1 (ko) * | 2011-07-29 | 2018-12-20 | 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디 | 마이크로 렌즈 어레이 및 그것을 사용한 스캔 노광 장치 |
-
2012
- 2012-07-23 KR KR1020147004602A patent/KR101931402B1/ko active IP Right Grant
- 2012-07-23 JP JP2012163127A patent/JP6023952B2/ja active Active
- 2012-07-23 WO PCT/JP2012/068624 patent/WO2013018572A1/ja active Application Filing
- 2012-07-23 CN CN201280037832.XA patent/CN103718066B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-07-23 US US14/232,733 patent/US9001425B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-07-26 TW TW101126994A patent/TWI544284B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103718066A (zh) | 2014-04-09 |
US20140152968A1 (en) | 2014-06-05 |
TWI544284B (zh) | 2016-08-01 |
JP2013050709A (ja) | 2013-03-14 |
TW201305744A (zh) | 2013-02-01 |
US9001425B2 (en) | 2015-04-07 |
KR101931402B1 (ko) | 2018-12-20 |
WO2013018572A1 (ja) | 2013-02-07 |
KR20140058572A (ko) | 2014-05-14 |
CN103718066B (zh) | 2016-04-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6023952B2 (ja) | マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 | |
US9069251B2 (en) | Scanning exposure apparatus using a plurality of microlens arrays with adjustable inclination | |
WO2013021985A1 (ja) | 露光装置用のアライメント装置及びアライメントマーク | |
JP5515120B2 (ja) | マイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置 | |
TWI542953B (zh) | 曝光裝置 | |
JP5515119B2 (ja) | マイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置 | |
JP5760250B2 (ja) | マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 | |
JP5825470B2 (ja) | 露光装置及び遮光板 | |
JP5704527B2 (ja) | マイクロレンズアレイを使用した露光装置 | |
JP5895275B2 (ja) | アライメントマーク及び露光装置 | |
JP5853343B2 (ja) | マイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置 | |
JP2012128193A (ja) | マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 | |
JP5953037B2 (ja) | マイクロレンズアレイの貼り合わせ装置 | |
JP5874966B2 (ja) | マイクロレンズアレイ及びその貼り合わせ方法 | |
JP2013057894A (ja) | 露光装置用のアライメント装置 | |
JP2020097198A (ja) | プリントヘッド |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150529 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160325 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160405 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160525 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160830 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160906 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6023952 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |