JP6940873B2 - 露光装置および露光方法 - Google Patents
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Description
図1から図3は、本実施の形態に係る露光装置1を示す。図1および図2に示すように、露光装置1は、装置本体2と、基板搬送部3と、3つの露光部4L,4R,4C(図3参照)と、撮像部5と、フォトマスク駆動部6と、制御部7と、を備える。図3に示すように、本実施の形態に係る露光装置1では、3つの露光部4L,4R,4Cのそれぞれが、被露光基板としてのカラーフィルタ基板9の表面に設けられた図示しない配向膜へ、の光配向処理を分担して行う。図3に示すように、露光部4L,4Rは基板搬送部3における位置Pm1における幅方向Wの両側に配置され、露光部4Cは基板搬送部3における位置Pm2に、幅方向Wの中央部に配置されている。
以下、露光装置1の動作について説明する。まず、図3に示すように、カラーフィルタ基板9を基板ステージ8上に配置する。カラーフィルタ基板9の四隅に形成されたアライメントマーク29を用いて、基板ステージ8に対してカラーフィルタ基板9を位置決めし、リニアブロック部12でカラーフィルタ基板9を吸着などで固定する。
次に、図7に示す位置P0にあるカラーフィルタ基板9が、図8に示す位置P1まで進むときに、装置固有のヨーイング特性(図中矢印R1で示す回転要素:θの傾きが発生)が存在する場合について説明する。
次に、図8に示すように、撮像用光透過部18の位置におけるブラックマトリクス20Aの両方の端部20x、20yのスキャン方向Sの位置の差dに対応するヨーイング特性データが、ヨーイング特性データ記憶部27Aに記憶したヨーイング特性データに対して変化した場合は、ヨーイング特性データの更新を行っている。このヨーイング特性データの更新の目安は、上記位置の差dの値が、所定の許容値以下であるか否かを判断すればよい。
本実施の形態に係る露光装置1では、装置固有の固定値であるヨーイング特性によるフォトマスク16のずれ量に応じて露光位置誤差をキャンセルするようにオフセットを設定することで、適正なマスク移動量を決定することができる。図9は、本実施の形態に係る露光装置1を用いて、高精細なカラーフィルタ基板9へブラックマトリクス20同士の間に光配向処理を施した処理結果を示す。図9に示すように、ハッチングで示す光配向処理部30は、ブラックマトリクス20同士の間の領域とずれることなく処理されている。図10は、ヨーイング特性データを加味してマスク移動量を補正する処理を伴わない場合の光配向処理結果(比較例)を示す。図10に示す比較例では、光配向処理部30がブラックマトリクス20同士の間の領域から大きくずれている。
図11は、本実施の形態に係る露光方法のフローチャートである。以下、本実施の形態の露光方法について説明する。なお、この露光方法は、図1および図2に示した露光装置1を用いて光配向処理をカラーフィルタ基板9に行う場合に適用している。
図12は、カラーフィルタ基板9を基板ステージ8に搭載したときにアライメント位置のずれがない状態を示す。このように位置のずれが無い状態で基板搬送を行った場合に、カラーフィルタ基板9の幅方向Wに伸びるように形成されたブラックマトリクス20Aの両方の端部20x1,20y1の2点の位置からヨーイングの回転角度を測定する工程を示す。
以上、本発明の各実施の形態について説明したが、これら実施の形態の開示の一部をなす論述および図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例および運用技術が明らかとなろう。
S スキャン方向
W 幅方向
1 露光装置
4L,4R,4C 露光部
5 撮像部
7 制御部
8 基板ステージ
9 カラーフィルタ基板(被露光基板)
10,11 リニアガイド
12 リニアブロック部
16 フォトマスク
17 露光用光透過部
18 撮像用光透過部
19A 基準位置部
20 ブラックマトリクス
27 記憶部
27A ヨーイング特性データ記憶部
Claims (6)
- マスク面内に基準位置部と露光用光透過部とが離間して形成され、スキャン方向に沿って既存の基準パターンが形成された被露光基板に対して、前記スキャン方向に沿って相対的に移動するフォトマスクと、
前記フォトマスクと一体的に配置され、前記基準パターンと前記基準位置部とを撮像する撮像部と、
前記被露光基板における部分露光予定領域の前記基準パターンと前記基準位置部とが前記撮像部で撮像された基準パターンデータと基準位置部データとを比較して、前記被露光基板の前記スキャン方向と直角をなす幅方向における前記フォトマスクのずれ量を検出して前記フォトマスクの暫定移動量を算出し、前記部分露光予定領域の、前記露光用光透過部で露光を行う位置への移動に伴い、前記暫定移動量に基づいて前記フォトマスクを前記幅方向に移動させる制御を行う制御部と、
を備え、
前記被露光基板における前記スキャン方向に沿った前記部分露光予定領域を、連続的または間欠的に露光する露光装置であって、
前記制御部は、
前記被露光基板と前記フォトマスクとの前記スキャン方向への相対的な移動に伴って発生する、前記被露光基板または前記フォトマスクのヨーイング状態が変化する装置固有のヨーイング特性をヨーイング特性データとして予め記憶し、前記ヨーイング特性データに基づき前記暫定移動量に補正をかけて前記フォトマスクを前記幅方向に移動させ、
前記撮像部で撮像された前記被露光基板の前記幅方向に延びる既存の幅方向パターンにおける前記幅方向の両端部の、前記スキャン方向の位置同士の差を検出し、前記ヨーイング特性の経時変化を検出し、前記幅方向パターンの前記両端部の前記スキャン方向の位置同士の差が許容値より大きいときに前記ヨーイング特性データを更新させる露光装置。 - 前記被露光基板は、基板搬送ガイドに沿って前記スキャン方向へ搬送され、前記フォトマスクは、前記スキャン方向における定位置に、前記スキャン方向と直角をなす前記幅方向に移動可能に設けられている請求項1に記載の露光装置。
- 前記基準パターンおよび前記幅方向パターンは、前記被露光基板に形成されたブラックマトリクス、ゲートライン、ソースライン、画素電極の列、カラーフィルタの列から選ばれる請求項1に記載の露光装置。
- マスク面内に基準位置部と露光用光透過部とが離間して形成されたフォトマスクを、スキャン方向に沿って既存の基準パターンが形成された被露光基板に対して、前記スキャン方向へ相対的に移動させる工程と、
前記被露光基板の部分露光予定領域に対応する位置に形成された前記基準パターンと前記基準位置部とを撮像する工程と、
撮像された基準パターン位置データと基準位置部データとを比較して、前記スキャン方向と直角をなす幅方向における、前記被露光基板に対する前記フォトマスクのずれ量を検出して前記フォトマスクの暫定移動量を算出する工程と、
前記被露光基板と前記フォトマスクとの前記スキャン方向への相対的な移動に伴って前記部分露光予定領域が前記露光用光透過部に対応する位置に到達して露光を行う前に、前記被露光基板または前記フォトマスクの相対動作により発生する前記被露光基板または前記フォトマスクのヨーイング状態が変化する予め設定された装置固有のヨーイング特性データに基づき、前記フォトマスクの暫定移動量に補正をかけて補正移動量を算出し、当該補正移動量に基づいて前記フォトマスクを前記幅方向に沿って移動させる工程と、
前記露光用光透過部を通して前記部分露光予定領域内へ露光を行う工程と、
を備え、
撮像部で撮像された前記被露光基板の前記幅方向に延びる既存の幅方向パターンの両端部の前記スキャン方向の位置の差を検出することにより、ヨーイング特性の経時変化を検出し、前記幅方向パターンの両端部の前記スキャン方向の位置の差が許容値より大きいときに前記ヨーイング特性データを更新させる露光方法。 - 前記被露光基板は、基板搬送ガイドに沿って前記スキャン方向へ搬送され、前記フォトマスクは、前記スキャン方向における定位置に前記スキャン方向と直角をなす前記幅方向に移動可能に設けられている請求項4に記載の露光方法。
- 前記基準パターンおよび前記幅方向パターンは、前記被露光基板に形成されたブラックマトリクス、ゲートライン、ソースライン、画素電極の列、カラーフィルタの列から選ばれる請求項4に記載の露光方法。
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