JP4304165B2 - 露光方法および露光装置 - Google Patents
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また、ロールに巻かれたシート状基材(基板)を露光部に繰り出して位置決めし、該露光部において光源部からの露光光を単位基板に相当する大きさのフォトマスクを通してシート状基材上の所定領域に照射してフォトマスクのパターンを転写し、次いで、前記シート状基材を単位基板の相当分だけ前記露光部に繰り出して位置決めし、同様な露光操作を繰り返すことにより、順次、シート状基材の長手方向にフォトマスクのパターンを転写していくようにした露光方法または露光装置が知られている(例えば、特許文献3、特許文献4参照)。
また、前記露光操作の繰り返し回数を減らすため、比較的大きなフォトマスクを使用した場合には、露光光に大きなエネルギーを必要とするので、光源部のパワーの限界から露光光の照射時間を長くしなけらばならず、結果的に露光時間を短縮することができない問題がある。
さらに、前記露光部において前記基板(基材)とフォトマスクの位置合わせを行うために、予め、前記基板(基材)とフォトマスクの双方にパターンとは別にアライメントマークを形成しておく必要があり、前記基板(基材)やフォトマスクの製造工程が煩雑となる問題がある。
すなわち、請求項1に係る露光方法は、基板搬送手段によって一定速度で一定方向に搬送されている状態の基板に対して、露光部で連続光源からの露光光を露光光学系の光路上に設けたマスクを通して照射し、前記基板上にマスクの開口部の像を転写する露光方法において、前記基板の搬送方向に直交して設けられ且つ受光素子を前記基板の搬送方向に直交する幅より大きい長さに亘って配列してなるリニアCCDによって、前記基板に予め形成された基準パターンのパターンエッジを撮像して基板上の搬送方向とこれに直角な方向とにおける基準位置を検出し、前記リニアCCDで撮像された基準パターンが撮像位置から露光位置に移動された時に基板上の前記基準位置に対応するマスクの開口の位置が一致するように該マスクを位置調節しながら、基板の搬送方向に沿った露光領域を連続して露光することを特徴としている。
また、前記基準パターンはピクセルであって、前記基板には複数のピクセルが前記基板の搬送方向と直交する方向とに配列されており、前記リニアCCDによって前記基板の搬送方向に直交する方向に配列された複数のピクセルについて前記基板上の搬送方向とこれに直角な方向とにおける前記基準位置を同時に検出するようにしてもよい。
また、前記基準パターンはピクセルであって、前記基板には複数のピクセルが前記基板の搬送方向と直交する方向とに配列されており、前記リニアCCDによって前記基板の搬送方向に直交する方向に配列された複数のピクセルについて前記基板上の搬送方向とこれに直角な方向とにおける前記基準位置を同時に検出するようにしてもよい。
請求項6に係る露光装置は、請求項3〜5に記載の露光装置において、前記制御装置は、前記各基準位置の検出によって求めた基板の搬送方向に対する傾きにもとづいて前記マスクの旋回角の位置調節を行うことを特徴としている。
請求項7に係る露光装置は、請求項3〜6のいずれかに記載の露光装置において、前記基板搬送手段は、シート状の基板を格納ロールから巻取ロールに巻き取って前記露光部を前記露光光学係の光路に垂直な平面に沿って移動させることを特徴としている。
請求項1に係る露光方法および請求項3に係る露光装置によれば、基板搬送手段によって基板を搬送しながらマスクの開口部の形状を連続的に転写して露光を行うことができるので、小さなマスクを使用する場合であっても、基板の間欠的なステップ移動による露光をする必要がなく、広い露光領域を有する基板に対する露光を効率的に行うことできる。
しかも、予め基板に形成された基準パターンを利用して基板の基準位置を検出して、該基準位置にもとづいて前記マスクの位置を調節することができるので、前記基板の所定領域への露光を正確に行うことができると共に、前記マスクの位置調節のために基板やマスクにアライメントマークを形成する必要がなく、それらの製造が容易である。
請求項6に係る露光装置によれば、基板の搬送方向に対する傾き角に合わせて、マスクの旋回角の位置調節を確実に行うことができるので、搬送される基板の位置変化に対応してマスクの位置調節を一層正確に行って所定の露光領域の露光を一層正確に行うことができる。
請求項7に係る露光装置によれば、単位基板に相当する露光領域を多数連続したシート状の基板を、各単位基板に相当する露光領域毎にステップ移動させて、露光操作を間欠的に繰り返して行う必要がないので、多数の基板を極めて効率的に露光することができて、生産性を高めることができる。
なお、前記基準パターンとは本実施の形態に示すものの他、半導体部品においては、配線パターンや各種電極パターン等をいうものである。
前記撮像手段6は、前記画像認識用照明7に対向して前記露光光学系3の内部において前記照明用レンズ10と前記マスク11との間に配置したハーフミラー19と、該ハーフミラー19によって反射された画像を撮像するリニアCCD20とを備えている。
先ず、前記制御装置8を動作状態として露光装置1を作動させると、前記主制御部27からの指令で前記画像認識用照明7が点灯され、前記基板コントローラ25の作動で前記基板搬送手段5の基板駆動手段16が駆動されて、前記基板4が格納ローラ14から繰り出されて巻取ローラ15に巻き取られて露光ステーション2を水平を保った状態として進行方向イへ搬送される(ステップS1)。その間、前記リニアCCD20が、基板4の下側から前記画像認識用照明7によって照射され、前記基板4に形成したピクセル18を通過した照明光を、前記ハーフミラー19を経て受光することにより、前記ピクセル18の画像データを取得する(ステップS2)。
前記露光が進行して、基板4の進行方向イにおける最後列のピクセル18bのX軸基準位置が検出されると、該X軸基準位置の前記露光位置Eへの到達時間後に主制御部27からの指令によってランプ電源部24が作動してランプ9を消灯させて基板4への露光操作が終了する(ステップS7)。
上記により、フィルム状(シート状)の基材4における1つの単位基板に相当する領域に対する露光操作が終了するが、引き続いて前記基材4を進行方向イへ搬送しながら、隣接の露光領域に対して前記と同様な露光操作を行い、この露光操作を繰り返すことにより、前記基材の長手方向に沿って連続的に多数の単位基板4に相当する領域に対する露光(プロキシ露光)を行うことができる。
なお、前記基板4のブラックマトリックスBMにおける他の着色層(緑G、青B)における領域に対する露光操作は、個別に設置した他の同様な露光ステーションで行う。また、前記露光操作に先立って前記基板4にはブラックマトリックBMの上に着色顔料が塗布されているので、前記露光によって露光された領域の着色顔料硬化される。そこで露光後の基板4を洗浄液で洗浄すると、露光されなかった領域の着色顔料が除去されて前記露光領域28,28に前記硬化された着色顔料によって各着色層R,G,Bのピクセル18が形成される。
しかも、予め基板4に形成されたピクセル(基準パターン)18を利用して基板4の基準位置を検出して、該基準位置にもとづいて前記マスク11の位置を調節することができるので、前記基板4の所定の露光領域28,28への露光を正確に行うことができると共に、前記マスク11の位置調節のために基板4やマスク11にアライメントマークを形成する必要がなく、それらの製造が容易である。
前記露光装置1において、前記制御装置8が、基板の搬送方向とこれに直角なY軸方向yとにおける各基準位置にもとづいて前記マスク11の搬送方向に直角なY軸方向yにおける位置調節を行うとと共に、前記各基準位置の検出によって求めた基板4の搬送方向に対する傾きθにもとづいて前記マスク11の旋回角の位置調節を行うようにすると、基板4の搬送方向に直角なY軸基準位置と、基板4の搬送方向に対する傾き角θとに合わせて、マスク11の前記Y軸方向yにおける位置調節とマスク11の旋回角θの位置調節とを同時に確実に行うことができるので、搬送される基板4の位置変化に対応してマスク11の位置調節を一層正確に行って所定の露光領域28,28の露光を一層正確に行うことができる。
この実施の形態に係る露光装置1Aによれば、前記実施の形態に係る露光装置1と同様に基板4を搬送しながら連続的に露光操作をすることができるので、単位基板4の所定の露光領域28,28に効率的に露光(プロキシ露光)を行うことができと共に、前記本発明の第1の実施の形態に係る露光方法を確実に実施することができる。
なお、前記位置調節は、前記マスクステージ12を移動させて行う代わりに、前記投影レンズ10aにマスク駆動手段13と同様な駆動手段を付設して、該投影レンズ10aを移動させて行うこともできる。
この実施の形態に係る露光装置1Bによれば、前記実施の形態に係る露光装置1,1Aと同様に基板4を搬送しながら連続的に露光操作をすることができるので、単位基板4の所定の露光領域28,28に効率的に露光を行うことができると共に、前記本発明の一実施の形態に係る露光方法を確実に実施することができる。
2 露光ステーション(露光部)
3 露光光学系
4 基板
5 基板搬送手段
6 撮像手段
7 画像認識用照明
8 制御装置
9 ランプ(連続光源)
10 照明用レンズ
10a 投影用レンズ
11 マスク
11a 開口部
12 マスクステージ
13 マスク駆動手段
16,16a 基板駆動手段
18 ピクセル(パターン)
18e1 前方エッジ(パターンエッジ)
18e2 側方エッジ(パターンエッジ)
20 リニアCCD
21 画像処理部
22 記憶部
23 演算部
24 ランプ電源部
25 基板コントローラ
26 マスクコントローラ
27 主制御部
E 露光位置
F 撮像位置
Claims (7)
- 基板搬送手段によって一定速度で一定方向に搬送されている状態の基板に対して、露光部で連続光源からの露光光を露光光学系の光路上に設けたマスクを通して照射し、前記基板上にマスクの開口部の像を転写する露光方法において、
前記基板の搬送方向に直交して設けられ且つ受光素子を前記基板の幅より大きい長さに亘って配列してなるリニアCCDによって、前記基板に予め形成された基準パターンのパターンエッジを撮像して基板上の搬送方向とこれに直角な方向とにおける基準位置を検出し、前記リニアCCDで撮像された基準パターンが撮像位置から露光位置に移動された時に基板上の前記基準位置に、対応するマスクの開口部の位置が一致するように該マスクを位置調節しながら、基板の搬送方向に沿った露光領域を連続して露光することを特徴とする露光方法。 - 前記基準パターンはピクセルであって、前記基板には複数のピクセルが前記基板の搬送方向と直交する方向とに配列されており、前記リニアCCDによって前記基板の搬送方向に直交する方向に配列された複数のピクセルについて前記基板上の搬送方向とこれに直角な方向とにおける前記基準位置を同時に検出するようにした請求項1に記載された露光方法。
- 基板を一定速度で一定方向に搬送する基板搬送手段と、該基板搬送手段によって搬送されている状態の基板に対して、露光部で連続光源からの露光光をマスクの開口部を通して照射して前記開口部の像を基板上に転写する露光光学系とを設けた露光装置であって、
前記基板の搬送方向に直交して設けられ且つ受光素子を前記基板の幅より大きい長さに亘って配列してなるリニアCCDによって、前記基板に予め形成された基準パターンのパターンエッジを基板の移動中に撮像する撮像手段と、前記リニアCCDで撮像されたパターンエッジの画像にもとづき基板上の搬送方向とこれに直角な方向とにおける基準位置を検出し、前記撮像手段で撮像された基準パターンが撮像位置から露光位置に移動された時に基板上の前記基準位置に、対応するマスクの開口部の位置が一致するように該マスクを位置調節する制御装置を備えると共に、該制御装置は、基板上の露光開始端から露光終端まで基板が前記露光部を移動する間、前記連続光源からの露光光の基板への照射を継続させることを特徴とする露光装置。 - 前記基準パターンはピクセルであって、前記基板には複数のピクセルが前記基板の搬送方向と直交する方向とに配列されており、前記リニアCCDによって前記基板の搬送方向に直交する方向に配列された複数のピクセルについて前記基板上の搬送方向とこれに直角な方向とにおける前記基準位置を同時に検出するようにした請求項3に記載された露光装置。
- 前記制御装置は、基板の搬送方向に直角な方向における基準位置にもとづいて前記マスクの搬送方向に直角な方向における位置調節を行うことを特徴とする請求項3または4に記載の露光装置。
- 前記制御装置は、前記各基準位置の検出によって求めた基板の搬送方向に対する傾きにもとづいて前記マスクの旋回角の位置調節を行うことを特徴とする請求項3〜5のいずれかに記載の露光装置。
- 前記基板搬送手段は、シート状の基板を格納ロールから巻取ロールに巻き取って前記露光部を前記露光光学係の光路に垂直な平面に沿って移動させることを特徴とする請求項3〜6のいずれかに記載の露光装置。
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