JP4738887B2 - 露光装置 - Google Patents
露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4738887B2 JP4738887B2 JP2005146940A JP2005146940A JP4738887B2 JP 4738887 B2 JP4738887 B2 JP 4738887B2 JP 2005146940 A JP2005146940 A JP 2005146940A JP 2005146940 A JP2005146940 A JP 2005146940A JP 4738887 B2 JP4738887 B2 JP 4738887B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- exposure
- mask
- imaging
- opening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
また、ロールに巻かれたシート状基材(基板)を露光部に繰り出して位置決めし、該露光部において光源部からの露光光を単位基板に相当する大きさのフォトマスクを通してシート状基材上の所定領域に照射してフォトマスクのパターンを転写し、次いで、前記シート状基材を単位基板の相当分だけ前記露光部に繰り出して位置決めし、同様な露光操作を繰り返すことにより、順次、シート状基材の長手方向にフォトマスクのパターンを転写していくようにした露光方法または露光装置が知られている(例えば、特許文献3、特許文献4参照)。
また、前記露光操作の繰り返し回数を減らすため、比較的大きなフォトマスクを使用した場合には、露光光に大きなエネルギーを必要とするので、光源部のパワーの限界から露光光の照射時間を長くしなけらばならず、結果的に露光時間を短縮することができない問題がある。
さらに、前記露光部において前記基板(基材)とフォトマスクに設けたアライメントマークをCCDカメラ等の画像手段で確認し、基板とフォトマスクとの相対的な位置を調節して位置合わせを行うものにあっては、予め、前記基板(基材)とフォトマスクの双方にパターンとは別にアライメントマークを形成しておく必要があり、前記基板(基材)やフォトマスクの製造工程が煩雑となる。しかも、前記撮像手段は、基板とフォトマスクが静止した状態で各アライメントマークを撮像してそれらの画像の整合状態を見て位置合わせするものであり、基板を一定方向に搬送しながら露光する場合には、移動する基板に対してフォトマスクの位置調節の動作を追従させることができないため、正確な露光領域への露光を行うことができない問題がある。
すなわち、請求項1に係る露光装置は、基板を一定速度で一定方向に搬送する基板搬送手段と、該基板搬送手段によって搬送されている状態の基板に対して、露光部で光源からの露光光をマスクの開口部を通して照射して前記開口部の像を基板上の露光領域に転写する露光光学系とを設けた露光装置であって、
前記マスクを支持するマスクステージに取り付けられて、該マスクと一体に移動し、前記基板の前記露光領域内に予め形成された、開口を有する基準パターンのパターンエッジを基板の移動中に撮像する撮像手段と、該撮像手段で撮像された前記基準パターンのパターンエッジに基づいて前記基板の基準位置を検出し、前記撮像手段で撮像された前記基準パターンが撮像位置から露光位置に移動された時に、基板上の前記基準位置にマスクの位置が一致するように該マスクを位置制御する制御装置とを備え、前記撮像手段は基板の搬送方向に直交して設けられ且つ受光素子は前記基板の幅より大きい長さに亘って一直線上に配列されてなるラインCCDであり、前記マスクの開口部の前記一定方向に直交する方向の幅は前記基準パターンにおける前記開口の前記一定方向に直交する方向の幅より広いものであって、該制御装置は基板上の露光開始端から露光終端まで基板が前記露光部を移動する間、前記光源からの露光光の基板への照射を継続させることを特徴としている。
請求項1に係る露光装置によれば、基板搬送手段によって基板を搬送しながらマスクの開口部の形状を連続的に転写して露光を行うことができるので、小さなマスクを使用する場合であっても、基板の間欠的なステップ移動による露光をする必要がなく、広い露光領域を有する基板に対する露光を効率的に行うことできる。
また、同一の撮像手段によって基板の基準位置とマスクの位置を検出して、それらの検出値にもとづいてマスクの位置制御を行うことができるので、基板の基準位置とマスクの位置を個別に検出して位置制御を行う場合に比べて、位置制御系における誤動作を減らすことができると共に、露光位置において基板の基準位置に対するマスクの位置合わせを極めて高精度に行わせることができ、前記基板の所定領域への露光を正確に行うことができる。
そして、予め基板に形成された基準パターンを利用して基板の基準位置を検出して、該基準位置にもとづいて前記マスクの位置を調節することができるので、前記マスクの位置調節のために基板やマスクにアライメントマークを形成する必要がなく、それらの製造が容易である。
また、撮像手段がマスクステージに取り付けられてそれと一緒に位置制御されるので、マスクに撮像手段を連動させるための駆動手段をマスク駆動手段と別に設ける必要がないと共に、マスクの位置を検出するための検知手段を別途に設ける必要もなく、その分構成が簡単となる。
図1において、1は本発明の第1の実施の形態に係る露光装置を示す。この露光装置1は、露光ステーション(露光部)2に設置された露光光学系3と、該露光光学系3の下方において露光対象である基板4を搬送する基板搬送手段5と、前記基板4上の特定部位を撮像するの撮像手段6と、前記露光ステーション2において前記基板4を下方から照明する画像認識用光源7と、前記各装置部と接続されてそれらを制御する制御装置8とを備え、前記露光光学系3からの露光光を露光光学系3に設けた後述のマスク11の開口部11aを通して前記基板4に照射して、前記開口部11aの形状にもとづくパターンを前記基板4上に転写するようになっている。
また、前記マスク11は、図1において紙面に垂直なX軸方向(図2で上下方向)xに長辺を有し、X軸方向xに直角なY軸方向(図1、図2で左右方向)yに短辺を有する矩形状の平板からなり、Y軸方向yの中央部には、Y軸方向yに長辺を有する矩形状の開口部11aが、X軸方向に所定間隔をあけて複数(図示の例では2個)板面を貫通して設けられている。
また、前記マスク11は、前記露光光学系3の光軸Sに垂直に設置されたマスクステージ12の上面に支持されており、前記開口部11a,11aの中心を結ぶ線が前記露光光学系3の光軸S上に位置するようになっている。前記マスクステージ12は、サーボモータ、リニアモータや所要の伝動機構等を有するマスク駆動手段13によって前記光軸Sに垂直な水平面内における前記マスク11のX軸方向xとY軸方向yへの移動、位置調節およびマスク11の中央を中心とする軸回りの旋回角の位置調節とを行うことができるようになっている。
なお、前記基板ステージ14は、その下方から投光される前記画像認識用照明7の照明光を遮らないように枠型構造をしており、前記基板4をその周辺部で支持するようになっている。
前記撮像手段6は、前記画像認識用照明7に対向して前記露光光学系3の内部において前記照明用レンズ10と前記マスク11との間に配置したダイクロックミラー19と、該ダイクロックミラー19によって反射された画像を撮像するラインCCD20とを備え、該ラインCCD20が支持部材17を介して前記マスクステージ12に固定して支持され、マスクステージ12の移動方向に一緒に移動するようになっている。
先ず、前記制御装置8を動作状態として露光装置1を作動させると、前記主制御部27の指令で前記画像認識用照明7が点灯され、前記基板ステージコントローラ25が作動して前記基板搬送手段15の基板駆動手段15が駆動されて、基板4が基板ステージ14によって露光ステーション2を水平を保った状態として進行方向イへ搬送される(ステップS1)。その間、前記ラインCCD20が、基板4の下側から前記画像認識用照明7によって投光され、前記基板4に形成されたピクセル18を通過した照明光を、前記ダイクロックミラー19を経て受光することにより、前記ピクセル18の画像データを取得する(ステップS2)。
特に、基板4のX軸方向xに関する位置変位に関し、前記撮像位置Fにおいてピクセル18の側方エッジ18e2を撮像した撮像素子20aと前記特定の撮像素子20a1との位置偏差が求められ、前記撮像したピクセル18が前記露光位置Eに到達した際に該位置偏差が無くなるようにマスクステージ12がX軸方向xへ移動されてマスク11の位置調節がなされるので、基板4上の先行するピクセル18にもとづいてマスク11の位置調節がなされるときには、前記ラインCCD20の特定の撮像素子20a1はX軸方向xに関して先行するピクセル18の側方エッジ18e2の位置にあり、この位置で後続のピクセル18の側方エッジ18e2は前記特定の撮像素子20a1との位置偏差が求められ、これによりマスク11の位置調節がなされる。
前記露光が進行して、基板4の進行方向イにおける最後列のピクセル18bのY軸基準位置が検出されると、該最後列のピクセル18bが露光位置Eへ到達して所定時間後に、前記主制御部27からの指令によってランプ電源部24が作動してランプ9を消灯されて基板4に対する露光(プロキシ露光)が終了する(ステップS8)。
なお、前記基板4のブラックマトリックスBMにおける他の着色層(緑G、青B)における領域に対する露光操作は、個別に設置した他の同様な露光ステーションに基板4を搬送して行う。また、前記露光操作に先立って前記基板4にはブラックマトリックBMの上に着色顔料が塗布されているので、前記露光によって露光された領域の着色顔料が硬化される。そこで露光後の基板4を洗浄液で洗浄すると、露光されなかった領域の着色顔料が除去されて前記露光領域28,28に前記硬化された着色顔料によって各着色層R,G,Bのピクセル18が形成されることとなる。
なお、前記ダイクロックミラー19は投影レンズ10aとマスクステージ12との間に配置されている。その他の構成は前記実施の形態に係る露光装置1と同様であるので、同様な構成部分には、同一の符号を付してそれらの説明は省略する。
また、同一の撮像手段6のラインCCD20によって基板4の基準位置とマスク11の位置を検出して、それらの検出値にもとづいてマスクの位置制御を行うことができるので、基板4の基準位置とマスク11の位置を個別に検出して位置制御を行う場合に比べて、位置制御系における誤動作を減らすことができると共に、露光位置Eにおいて基板4の基準位置に対するマスク11の位置合わせを極めて高精度に行わせることができ、前記基板4の所定の露光領域28,28への露光を正確に行うことができる。
そして、基板4に形成されたピクセル(基準パターン)18が露光開始位置Kに達すると、該露光開始位置Kから露光停止位置Jまでマスク11が基板4と同期して基板4の進行方向イに移動され、この間に連続光源であるランプ9からの露光光がマスク11を通して基板4に照射されるので、基板4に対して適切な露光時間を確保して安定した露光を行うことができる。
2 露光ステーション(露光部)
3 露光光学系
4 基板
5 基板搬送手段
6 撮像手段
8 制御装置
9 ランプ(連続光源)
10 照明用レンズ
10a 投影用レンズ
11 マスク
11a 開口部
12 マスクステージ
13 マスク駆動手段
14 基板ステージ
15 基板駆動手段
18 ピクセル(基準パターン)
18e1 前方エッジ(パターンエッジ)
18e2 側方エッジ(パターンエッジ)
20 ラインCCD
20a 撮像素子
20a1 特定の撮像素子
21 画像処理部
E 露光位置
F 撮像位置
S 光軸(光路)
Claims (2)
- 基板を一定速度で一定方向に搬送する基板搬送手段と、該基板搬送手段によって搬送されている状態の基板に対して、露光部で光源からの露光光をマスクの開口部を通して照射して前記開口部の像を基板上の露光領域に転写する露光光学系とを設けた露光装置であって、
前記マスクを支持するマスクステージに取り付けられて、該マスクと一体に移動し、前記基板の前記露光領域内に予め形成された、開口を有する基準パターンのパターンエッジを基板の移動中に撮像する撮像手段と、
該撮像手段で撮像された前記基準パターンのパターンエッジに基づいて前記基板の基準位置を検出し、前記撮像手段で撮像された前記基準パターンが撮像位置から露光位置に移動された時に、基板上の前記基準位置にマスクの位置が一致するように該マスクを位置制御する制御装置とを備え、
前記撮像手段は、基板の搬送方向に直交して設けられ且つ撮像素子が前記基板の幅より大きい長さに亘って一直線上に配列されてなるラインCCDであり、
前記マスクの開口部の前記一定方向に直交する方向の幅は前記基準パターンにおける前記開口の前記一定方向に直交する方向の幅より広いものであって、
該制御装置は基板上の露光開始端から露光終端まで基板が前記露光部を移動する間、前記光源からの露光光の基板への照射を継続させることを特徴とする露光装置。 - 前記撮像手段は、前記マスクを支持するマスクステージとは別の支持体に取り付けられ、マスクステージを移動させるマスク駆動手段に対する作動作指令値と同一の作動指令値にもとづいて作動される撮像手段駆動装置によってマスクに連動することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005146940A JP4738887B2 (ja) | 2005-05-19 | 2005-05-19 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005146940A JP4738887B2 (ja) | 2005-05-19 | 2005-05-19 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006323188A JP2006323188A (ja) | 2006-11-30 |
JP4738887B2 true JP4738887B2 (ja) | 2011-08-03 |
Family
ID=37542912
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005146940A Active JP4738887B2 (ja) | 2005-05-19 | 2005-05-19 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4738887B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4971835B2 (ja) * | 2007-03-02 | 2012-07-11 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光方法及び露光装置 |
JP5737495B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2015-06-17 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルタの製造方法、及び当該カラーフィルタ |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0621771B2 (ja) * | 1987-12-25 | 1994-03-23 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 透明電極膜パターンの検出方法 |
JP2797506B2 (ja) * | 1989-08-31 | 1998-09-17 | 凸版印刷株式会社 | 露光装置 |
JP3210145B2 (ja) * | 1993-07-14 | 2001-09-17 | キヤノン株式会社 | 走査型露光装置及び該装置を用いてデバイスを製造する方法 |
JP2002040669A (ja) * | 2000-07-19 | 2002-02-06 | Toray Eng Co Ltd | 描画装置 |
EP1482373A1 (en) * | 2003-05-30 | 2004-12-01 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP4304165B2 (ja) * | 2005-04-08 | 2009-07-29 | 株式会社 インテグレイテッド ソリューションズ | 露光方法および露光装置 |
-
2005
- 2005-05-19 JP JP2005146940A patent/JP4738887B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006323188A (ja) | 2006-11-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4777682B2 (ja) | スキャン露光装置 | |
JP4304165B2 (ja) | 露光方法および露光装置 | |
KR101136444B1 (ko) | 노광 방법 및 노광 장치 | |
JP2007310209A (ja) | 露光装置 | |
KR101787137B1 (ko) | 노광 방법 및 노광 장치 | |
JP4922071B2 (ja) | 露光描画装置 | |
TWI680356B (zh) | 曝光裝置及曝光方法 | |
JP4309874B2 (ja) | 露光装置 | |
JP5451175B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2010191127A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2008233638A (ja) | 描画装置および描画方法 | |
JP5344766B2 (ja) | フォトマスク及びそれを使用するレーザアニール装置並びに露光装置 | |
JP4738887B2 (ja) | 露光装置 | |
JP7196011B2 (ja) | 直描式露光装置 | |
JP2010092021A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
JP2012173337A (ja) | マスク、近接スキャン露光装置及び近接スキャン露光方法 | |
JP5499398B2 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
JP2008209632A (ja) | マスク装着方法及び露光装置ユニット | |
JP7364754B2 (ja) | 露光方法 | |
WO2022009456A1 (ja) | 露光装置 | |
JP4775076B2 (ja) | 露光方法及び装置 | |
KR20230078494A (ko) | 노광 장치 | |
JP5256434B2 (ja) | 近接露光装置 | |
KR101097092B1 (ko) | 노광 장치 및 노광 방법 | |
JP2011090097A (ja) | 近接スキャン露光装置及び近接スキャン露光方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080221 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100708 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100720 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100921 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20100928 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101102 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110202 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20110209 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110412 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110427 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4738887 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140513 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |