JP2002040669A

JP2002040669A - 描画装置

Info

Publication number: JP2002040669A
Application number: JP2000219589A
Authority: JP
Inventors: Hajime Kiyama; 元木山; Hitoshi Horino; 均堀野; Fumiyoshi Ozaki; 文美尾崎; Hirokazu Yasui; 弘和安井
Original assignee: Toray Engineering Co Ltd
Current assignee: Toray Engineering Co Ltd
Priority date: 2000-07-19
Filing date: 2000-07-19
Publication date: 2002-02-06

Abstract

(57)【要約】【課題】記録媒体の歪みや変形、あるいは
記録媒体の搬送時の位置ずれや傾き等に起因する収率の
低下に対処できる描画装置を提供するものである。【解決手段】記録媒体を載置する固定移動機構
と、前記記録媒体に光を照射する光学機構と、記録媒体
の描画基準マーク座標を測定する位置測定機構と、前記
位置測定機構からのデータを演算し、演算結果に基づい
て固定移動機構の制御および光学機構の動作制御を行う
制御機構とを備え、記録媒体を移動させて描画基準マー
クの基準点または基準線の少なくとも一方を設定された
描画位置または描画方向の少なくとも一方に合致させる
と共に描画基準マーク座標を算出し、算出された描画基
準マーク座標を基準としてパターンを描画するようにし
てある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はシート、フィルム等
の薄帯状の記録媒体上に塗布されたフォトレジストに光
を直接ラスタスキャンしてパターンを描画する描画装置
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】プリント配線基板のパターンを形成する
方法としては、フィルム等に所定のパターンが形成され
たマスクを製作し、フォトレジストを塗布した記録媒体
上にそのマスクを密着させマスクを通して光を照射して
露光させる方法、あるいはマスクのパターンをフォトレ
ジストを塗布した記録媒体上に縮小投影して露光させる
方法などがある。

【０００３】該マスクを製作するにはかなりの労力と時
間を必要とし、特に少量生産の場合はコスト高になる。
そのため、レーザプリンタ等と同様の光学機構を用いて
レーザ光等をフォトレジストを塗布した記録媒体上に直
接ラスタスキャンして所定のパターンを描画する装置が
提案されている。

【０００４】該描画装置が設置されているプリント配線
基板製造装置は、図５に示されているようなフィルム状
の記録媒体１００がロールから引き出され、一連の描画
処理等の後、ロール状に巻き取られるロールツーロール
方式が一般的であり、該描画装置５０の両側に負圧吸引
によるアキュームレータ１０３および搬送ロール１０４
が設置され、描画処理等における位置補正や送り動作時
に記録媒体１００に無理な力が掛からないような構成に
なっている。

【０００５】上述の描画装置５０は図４に記載されるよ
うに、記録媒体１００を載置する吸着ベッド５１と、該
記録媒体１００にレーザ光１５０を照射する光学機構５
２と、記録媒体１００に設けられた描画基準マーク１０
２の位置を検知する位置検知手段５３と、パターン１０
１の制御および該位置検知手段５３により検知された位
置に基づき該光学機構の位置制御および光学機構５２の
動作制御を行う制御機構５４から構成されている。

【０００６】光学機構５２は、ベース５５上にフィルム
の長手方向に取り付けられたレール５６と、レール５６
上を移動自在に取り付けられたフレーム５７と、該フレ
ーム５７をレール５６上を移動させる駆動モータ（図示
せず）と、該フレーム５７上に載置されたレーザ光照射
手段５８とにより構成されている。

【０００７】レーザ光照射手段５８は、レーザ光源５９
と、ミラー６０、６１、６２、６３と、ポリゴンミラー
６４と、変調器６５と、レンズ６６と、ｆθレンズ６７
と、集束レンズ６８から構成されている。

【０００８】レーザ光源５９より出射されたレーザ光１
５０は、変調器６５により遮光または透光されることで
変調され、ミラー６０、６１、６２およびレンズ６６に
よって光路が変更され、高速回転しているポリゴンミラ
ー６４に照射される。該レーザ光１５０は該ポリゴンミ
ラー６４により反射され、ｆθレンズ６７により所定の
描画パターン位置に偏向され、ミラー６３を通過し、集
光レンズ６８により記録媒体１００上にて所定の径にな
るよう集光される。

【０００９】上述のフレーム５７上には記録媒体１００
上に設けられている描画基準マーク１０２を検出する位
置検出手段５３が設けられており、該位置検出手段５３
が描画基準マーク１０２を検出するとパターン１０１を
記憶しているＲＡＭメモリーなどの記憶部（図示せず）
からの信号およびポリゴンミラー６４の回転角度に合わ
せて変調器でレーザ光１５０を点滅させ、記録媒体１０
０上の巾方向に走査しながら所定のパターン１０１を描
画する。

【００１０】次の描画基準マーク１０２を検出するまで
該フレーム５７は移動され、該描画基準マーク１０２を
検出後フレーム５７を元の位置まで移動させ、上記動作
を繰り返す。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】記録媒体１００に描画
するパターン１０１の配置の一例は図２に示す通りであ
り、該記録媒体１００の巾方向には（Ａ）〜（Ｄ）の複
数の同一パターン１０１が位置され、これらのパターン
１０１が長手方向に繰り返して描画される。

【００１２】記録媒体１００の両端にはパターン描画の
位置基準となる描画基準マーク１０２Ｐ₁・Ｑ₁、Ｐ₂・
Ｑ₂、Ｐ₃・Ｑ₃、…Ｐ_k・Ｑ_kが印刷あるいは穿設されて
いる。なお、図２では見易くするためにＰ₁・Ｑ₁に対応
する位置のパターンは省略してある（以下、Ｐ₁〜Ｐ_k点
およびＱ₁〜Ｑ_k点を基準点といい、Ｐ₁−Ｑ₁〜Ｐ_k−Ｑ_k
を結んだ線を基準線という）。

【００１３】描画基準マーク１０２はパターン周辺四隅
にある方が好ましく、位置決め専用に設けることがで
き、フィルム両面に描画されたパターンの導通をとる際
に使用するスルーホール等の孔を利用することができ
る。また、位置測定に使用できるものであれば、トンボ
マークや孔に限定されないことは言うまでもない。

【００１４】プリント配線基板製造工程においては、上
述の描画工程の前にスルーホール穴明け、銅メッキ、レ
ジスト塗布や各種洗浄等の工程が存在するため、記録媒
体１００が各工程中に蛇行や斜行することがあり、パタ
ーン１０１を描画する場合に該記録媒体１００を搬送し
て最初の基準点Ｐ₁に対する位置の描画が終わり、次い
で、記録媒体１００を長手方向に移動させて基準点Ｐ₂
を先の基準点Ｐ₁と同じ描画位置に合致させても基準点
Ｑ₂が基準点Ｑ₁の位置に合致しないという問題があっ
た。

【００１５】また、上流の工程において、特にスルーホ
ールが加工されている場合など、薄い記録媒体等では張
力や湿度により部分的に伸縮して歪みを生じることがあ
る。この場合、図３に示すように□ＨＩＪＫのパターン
を描画しようとしても、記録媒体が□Ｈ'Ｉ'Ｊ'Ｋ'のよ
うに歪んでおり、基準点の位置および基準線を正確に合
わせて描画しても、描画基準マーク１０２とパターン１
０１が許容値以上のずれを生じ、収率が著しく低下する
という問題があった。

【００１６】本発明は記録媒体の歪みや変形、あるいは
記録媒体の搬送時の位置ずれや傾き等に起因する収率の
低下に対処することを目的とするものである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上述の問題を解決し、記
録媒体の歪みや変形、あるいは記録媒体搬送時の位置ず
れや傾き等が生じた場合でも確実にパターンを描画でき
るようにするため本発明の描画装置は、請求項１に記載
のように記録媒体を載置する固定移動機構と、該記録媒
体に光を照射する光学機構と、記録媒体の描画基準マー
ク座標を測定する位置測定機構と、該位置測定機構から
のデータに基づいて位置制御および光学機構の動作制御
を行う制御機構とを備え、記録媒体に設けられた描画基
準マークの位置を該位置測定機構により測定し、描画基
準マークの基準点または基準線の少なくとも一方を設定
された描画位置または描画方向の少なくとも一方に合致
させた後に光学機構によりパターンを描画するようにし
てある。

【００１８】また、請求項２に記載のように、記録媒体
を載置する固定移動機構と、前記記録媒体に光を照射す
る光学機構と、記録媒体の描画基準マーク座標を測定す
る位置測定機構と、前記位置測定機構からのデータを演
算し、演算結果に基づいて固定移動機構の制御および光
学機構の動作制御を行う制御機構とを備え、記録媒体を
移動させて描画基準マークの基準点または基準線の少な
くとも一方を設定された描画位置または描画方向の少な
くとも一方に合致させると共に描画基準マーク座標を算
出し、算出された描画基準マーク座標を基準としてパタ
ーンを描画するようにしてある。

【００１９】さらに、基準となるパターンを変形した変
形パターンにおける描画基準マーク座標と、前記変形パ
ターンに対応するラスタイメージを記憶させておき、記
録媒体の描画基準マーク座標と合致または近似する描画
基準マーク座標を有する変形パターンに対応する記憶さ
れているラスタイメージに基づいて、パターンを描画す
るようにしてある。

【００２０】

【発明の実施の形態】図１は本発明の描画装置の構成の
一実施例を示す斜視図であって描画装置１は、記録媒体
１００を載置する固定移動機構２と、該記録媒体１００
にレーザ光１５０を照射する光学機構３と、記録媒体１
００上の描画基準マーク１０２の位置を測定する位置測
定機構４と、該位置測定機構４からのデータに基づいて
位置制御および光学機構３の動作制御を行う制御機構５
とにより構成されている。

【００２１】固定移動機構２は可動テーブル７と該可動
テーブル７上に設置された吸着ベッド８とにより構成さ
れており、可動テーブル７は、記録媒体の巾方向（以
下、Ｘ軸方向という）に移動するテーブル、記録媒体の
長手方向（以下、Ｙ軸方向という）に移動するテーブル
と、θ方向に回転するテーブルとが、下から上に向かっ
て積層された構成になっていると共にＸ軸方向、Ｙ軸方
向の移動量と回転角度（θ）を正確に検出する検知器を
具備している。該可動テーブル７は、Ｙ方向に移動する
テーブルとθ方向に回転するテーブルとによって構成す
ることは可能である。

【００２２】吸着ベッド８は吸引孔を有するプレートと
吸引機構と切替弁（いずれも図示せず）とにより構成さ
れており、プレート上にある記録媒体１００を吸引機構
により吸引することで吸着し、切替弁を切り替え吸引力
を削除することにより記録媒体１００の吸着を解除す
る。

【００２３】また、固定移動機構２は上述の吸着ベッド
８により記録媒体１００を固定する方法に限られるもの
ではなく、ローラや棒などで、記録媒体１００を固定す
ることは可能である。

【００２４】光学機構３は、ベース６に取り付けられた
フレーム９と、該フレーム９上に設置されたレーザ光照
射手段１０とにより構成されている。

【００２５】レーザ光照射手段１０はレーザ光源１１
と、ミラー１２、１３、１４、１５と、ポリゴンミラー
１６と、変調器１７と、レンズ１８と、ｆθレンズ１９
と、集束レンズ２０から構成されており、該レーザ光照
射手段１０は図４に示す従来の描画装置５０におけるレ
ーザ光照射手段５８と同様の動作を行うようになってい
る。そのため、動作の説明は省略する。

【００２６】なお、光学機構３は上述のレーザ光照射手
段１０により記録媒体１００にパターン１０１を描画す
る機構に限られるのではなく、例えば、一端からレーザ
光を入射した光ファイバの他端を多数１列に並べ、レン
ズアレイを介して記録媒体１００に対向設置し、パター
ン１０１を描画する機構や、１列または千鳥状に配列し
た液晶シャッタアレイを記録媒体１００に対向設置し、
線状の光源光を透過および遮断することにより、パター
ン１０１を描画する機構など、記録媒体１００にパター
ン１０１を描画する機構とすることは可能である。

【００２７】位置測定機構４は、フィルムの長手方向に
直交する方向かつ記録媒体１００に平行な状態でベース
６上に取り付けられた門型のフレーム２１と、該フレー
ム２１に記録媒体１００に対して平行な状態で形成され
た走行レールおよび回転自在なボールねじ（いずれも図
示せず）と、レールに係合するとともにボールねじに螺
着された位置計測ヘッド２２と、ボールねじ（図示せ
ず）の一端部に取り付けられた駆動用のモータ２３と他
端部に取り付けられたエンコーダ２４とにより構成され
ており、ボールねじに取り付けられたエンコーダ２４に
よりボールねじの回転角度を検出することにより、位置
計測ヘッド２２の位置を正確に検知することができる。

【００２８】なお、該エンコーダ２４に代えてリニアエ
ンコーダ等を使用して位置計測ヘッド２２のＸ軸方向の
位置を検出することは可能である。

【００２９】位置計測ヘッド２２にはＣＣＤカメラ（図
示せず）が搭載されており、画像処理により記憶媒体１
００上の描画基準マーク１０２であるトンボマークや孔
等のＹ軸方向の位置を検知することができる。記録媒体
１００上に孔が設けられている場合はＣＣＤカメラに代
えて投受光器によって光量の変化を測定することによ
り、位置を検出することは可能である。

【００３０】制御機構５は記憶部２５と制御部２６と演
算部２７から構成されており、記憶部２５は位置測定機
構４からのデータおよび固定移動機構２からのデータを
記憶し、演算部２７において記録媒体１００の移動後の
位置の演算を行い、演算結果を制御部２６に送り、制御
部２６より光学機構３に信号を送るようになっている。

【００３１】本発明の描画装置１を使用して記録媒体１
００にパターン１０１を描画する場合は、描画するパタ
ーン１０１の描画基準マーク座標および該パターン１０
１をラスタイメージに展開して制御機構５の記憶部２５
に記憶させる。

【００３２】次いで、搬送ローラ１０４の駆動機構を作
動させてローラを回転させ、表面にフォトレジストが塗
布された記録媒体１００を搬送し、該記録媒体１００に
付された基準点Ｐ₁・Ｑ₁が所定の位置に来ると、搬送ロ
ーラ１０４の回転を停止させ、固定移動機構２の吸着ベ
ッド８の吸引機構（図示せず）を作動させて記録媒体１
００を吸着ベッド８上に吸着する。

【００３３】記録媒体１００が固定されると、位置測定
機構４のモータ２３が作動して、ボールねじ（図示せ
ず）が回転し、位置測定ヘッド２２が記録媒体１００上
をＸ軸方向に移動され、基準点Ｐ₁・Ｑ₁および各パター
ン１０１ａ−１、１０１ｂ−１、１０１ｃ−１、１０１
ｄ−１の先頭部付近にある描画基準マーク１０２である
Ａ₁、Ａ₂、Ｂ₁、Ｂ₂、Ｃ₁、Ｃ₂、Ｄ₁、Ｄ₂の位置が測定
され、その結果が制御機構５の記憶部２５に送られる。

【００３４】該先端部の描画基準マークの測定が終了す
ると、固定移動機構２の可動テーブル７のＹ軸方向に移
動するテーブル（図示せず）を作動して、吸着ベッド８
が下流側に移動され、記録媒体１００のパターン１０１
ａ−１、１０１ｂ−１、１０１ｃ−１、１０１ｄ−１の
後端部付近にある描画基準マーク１０２であるＡ_Y、
Ａ_Z、Ｂ_Y、Ｂ_Z、Ｃ_Y、Ｃ_Z、Ｄ_Y、Ｄ_Zが位置測定機構４
の位置に来ると可動テーブル７が停止し、吸着ベッド８
が固定される。

【００３５】すると、位置測定ヘッド２２が移動され、
描画基準マーク１０２であるＡ_Y、Ａ_Z、Ｂ_Y、Ｂ_Z、
Ｃ_Y、Ｃ_Z、Ｄ_Y、Ｄ_Zの位置が測定されて、その結果が記
憶部２５に送られる。

【００３６】記憶部２５に記憶された基準点Ｐ₁・Ｑ₁の
位置データより、演算部２７において記録媒体１００の
ずれ量の演算を行い、該ずれ量よりずれ補正後の描画基
準マーク１０２であるＡ₁、…、Ｄ_Zの位置の演算を行
う。

【００３７】補正後のＡ₁、…、Ｄ_Zの位置と基準点Ｐ₁
および基準線Ｐ₁−Ｑ₁との位置データより演算部におい
て記録媒体１００の歪み量の演算を行い、該歪み量に基
づき、各パターン１０１ａ−１、１０１ｂ−１、１０１
ｃ−１、１０１ｄ−１を再演算し、各々に対応したラス
タイメージの作成を行い、該ラスタイメージを記憶部２
５に記憶する。

【００３８】ラスタイメージの記憶が終了すると、上述
の記録媒体１００の歪み量演算の結果に基づき、固定移
動機構２の可動テーブル７のＹ軸方向に移動するテーブ
ル（図示せず）Ｘ軸方向に移動するテーブル（図示せ
ず）のうち少なくとも一方を作動して基準点Ｐ₁が所定
の位置に来るまで移動させ、基準線Ｐ₁−Ｑ₁がＸ軸に合
致するようにθ方向に回転するテーブル（図示せず）を
作動させる。

【００３９】記録媒体１００が所定の位置に来ると可動
テーブル７が停止し、吸着ベッド８が固定され、記憶部
２５に記憶されているパターン１０１ａ−１〜１０１ｄ
−１に対応するラスタイメージが読み出され、該ラスタ
イメージに基づき制御部２６よりレーザ光照射手段１０
に信号が送られると共に可動テーブル７にパターン１０
１ａ−１〜１０１ｄ−１を描画するための信号が送信さ
れると、レーザ光照射手段１０によるＸ軸方向に対する
レーザ光１５０の照射と、可動テーブル７のＹ軸方向に
移動するテーブル（図示せず）による記録媒体１００の
移動動作とにより、パターン１０１ａ−１〜１０１ｄ−
１の描画が行われる。

【００４０】そして、パターン１０１ａ−１〜１０１ｄ
−１の描画が終了すると、吸着ベッド８の吸引機構（図
示せず）を停止させて吸引力を削除せしめ、記録媒体１
００の吸着を解除する。

【００４１】次いで、搬送ローラ１０４の駆動機構を作
動してローラを回転させて、記録媒体１００を搬送し、
基準点Ｐ₂・Ｑ₂を描画基準位置付近に移動させる。そし
て、基準点Ｐ₂・Ｑ₂に対応するパターンおける描画基準
マーク１０２の測定を上述と同様に行い、次いで、パタ
ーン１０１ａ−２〜１０１ｄ−２の描画を行う。

【００４２】なお、記録媒体１００の歪み量に応じたラ
スタイメージの作成を描画基準マーク１０２の位置測定
完了時に行うのではなく、基準点および、基準線位置の
補正後に、描画基準マーク１０２の位置より演算を行
い、ラスタイメージの作成することは可能である。

【００４３】また、パターン描画時において、記録媒体
１００を載置した吸着ベッド８を移動させるのではな
く、光学機構３を移動させてパターン描画１０１を行う
ことは可能である。

【００４４】一般に、描画するパターン１０１はあらか
じめ記憶部２５に記憶されており、描画の進行とともに
読み出される。記録媒体１００の形状が同一で傾きもな
く、単に描画基準マークＡ₁、Ｂ₁、Ｃ₁、Ｄ₁の位置が変
わるだけであれば、演算部２７により原点位置の差を再
計算することで対応できるが、図３のごとく記録媒体１
００が歪んでいる場合には、正規のパターン□ＨＩＪＫ
と現実のパターン□Ｈ'Ｉ'Ｊ'Ｋ'の関係を演算部２７に
より演算し、□Ｈ'Ｉ'Ｊ'Ｋ'に対応したラスタイメージ
に展開し直さなければならない。

【００４５】しかし、この演算はかなり複雑であり、生
産性を落とさないように高速（短時間）に計算するため
には非常に高速・高性能なコンピュータ等の演算装置が
必要となり高価な設備となるという問題がある。

【００４６】そこで、図３に示す正規のパターン□ＨＩ
ＪＫにおいて、Ｈを基準としＩ、Ｊ、ＫをそれぞれＸ、
Ｙ方向に少しずつ移動して変形させた複数の変形パター
ンをコンピュータで計算し、該変形パターンをラスタイ
メージに展開したものを該変形パターンとともに記憶部
２５に保存しておき、保存されている複数の変形パター
ンの中から□Ｈ'Ｉ'Ｊ'Ｋ'に一番近似している変形パタ
ーンを選択し、位置補正後のＡ₁を原点位置として描画
するように設定する。

【００４７】近似した変形パターンの選択方法には色々
考えられるが、例えばＩ、Ｊ、Ｋの各位置のずれ量が最
大なものが一番小さいもの、或いはＩ、Ｊ、Ｋの各位置
のずれ量の和が一番小さいものを選択する等の方法があ
る。

【００４８】なお、位置ずれ量または位置ずれ量の和に
は許容値を設けておき、許容値を超えた場合はあらかじ
め不良と判定するようにしておくと、検査ミスで不良品
が流出する危険を軽減することが可能である。

【００４９】変形パターンの数は非常に多数必要になる
ように思われるが、記録媒体の歪み量はそれ程大きなも
のではなく、また歪みの発生する傾向がほぼ一定である
ため、その傾向に合わせて変形パターンを準備しておけ
ば数量は軽減でき、描画位置の精度を要する場合は保存
しておく変形パターンおよびラスタイメージ数を増加す
ればよい。

【００５０】また、これらの変形パターンはあらかじめ
用意しておくものを選択する方式なので、描画に要する
時間を短縮することができる。

【００５１】以上は複数のパターンを描画する場合につ
いて説明したが、一つのパターンを描画する場合におい
ても、本発明は当然適用可能である。この場合、パター
ンを複数の矩形に分割し、その矩形の頂点に位置する場
所に描画基準マークを設け、該描画基準マークを利用し
て分割されたパターンごとに上述の方法を用いてラスタ
イメージに展開するか、または近似のラスタイメージを
選択すればよい。

【００５２】なお、光学機構および位置測定機構等は実
施例に限定されるものではなく、例えば、位置測定機構
を記録媒体に対して移動させて位置を計測する構成にす
ることは可能である。

【００５３】

【発明の効果】記録媒体を載置する固定移動機構と、該
記録媒体にレーザ光を照射する光学機構と、記録媒体の
描画基準マーク座標を測定する位置測定機構と、該位置
測定機構からのデータに基づいて位置制御および光学機
構の動作制御を行う制御機構とを備え、記録媒体に設け
られた描画基準マークの位置を該位置測定機構により測
定し、描画基準マークの基準点または基準線の少なくと
も一方を設定された描画位置または描画方向の少なくと
も一方に合致させた後に光学機構によりパターンを描画
することにより、記録媒体の位置ずれや傾きなどが生じ
た場合でも確実にパターンを描画することができる。

【００５４】また、記録媒体を載置する固定移動機構
と、該記録媒体にレーザ光を照射する光学機構と、記録
媒体の描画基準マーク座標を測定する位置測定機構と、
該位置測定機構からのデータを演算し、演算結果に基づ
いて固定移動機構の制御および光学機構の動作制御を行
う制御機構とを備え、記録媒体を移動させて描画基準マ
ークの基準点または基準線の少なくとも一方を設定され
た描画位置または描画方向の少なくとも一方に合致させ
ると共に描画基準マーク座標を算出し、算出された描画
基準マーク座標を基準としてパターンを描画することに
より、記録媒体の位置ずれや傾きなどが生じている場合
に加え、記録媒体が伸縮して歪みを生じている場合にお
いても、記録媒体の状態に応じたパターンを描画するこ
とができ、収率を向上させることができる。

【００５５】さらに、基準となるパターンを変形した変
形パターンと、該変形パターンに対応するラスタイメー
ジを記憶させておき、記録媒体の変形度合いに近似する
変形パターンを選択し、該変形パターンに対応するラス
タイメージに基づいてパターンを描画することにより、
パターンをラスタイメージに展開するための高性能・高
速の演算装置を必要としないので、安価な設備とするこ
とができる。

【００５６】また、記録媒体のずれ量またはずれ量の和
に許容値を設けておくことにより、不良品の検出を確実
に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の描画装置の構成の一実施例を示す概略
斜視図である。

【図２】記録媒体上におけるパターン配置の一実施例を
示す概略図である。

【図３】記録媒体の変形の状態の一例を示す概略図であ
る。

【図４】従来の描画装置の構成の一実施例を示す概略斜
視図である。

【図５】描画装置が設置されたプリント配線基板製造装
置の構成の一実施例を示す概略図である。

【符号の説明】

１、５０描画装置２固定移動機構３、５２光学機構４位置測定機構５、５４制御機構６、５５ベース７可動テーブル８、５１吸着ベッド９、５７フレーム１０、５８レーザ光照射手段１１、５９レーザ光源１２、１３、１４、１５、６０、６１、６２、６３ミ
ラー１６、６４ポリゴンミラー１７、６５変調器１８、６６レンズ１９、６７ｆθレンズ２０、６８集束レンズ２１フレーム２２位置計測ヘッド２３モータ２４エンコーダ２５記憶部２６制御部２７演算部５３位置検知手段５６レール１００記録媒体１０１パターン１０２描画基準マーク１０３アキュームレータ１０４搬送ロール１５０レーザ光

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者安井弘和滋賀県大津市大江一丁目１番45号東レエンジニアリング株式会社内Ｆターム(参考） 2H097 AB07 CA17 KA18 KA28 LA09 5E343 AA02 AA11 CC62 DD69 DD80 FF05 GG08 GG11

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】記録媒体を載置する固定移動機構と、前
記記録媒体に光を照射する光学機構と、記録媒体の描画
基準マーク座標を測定する位置測定機構と、前記位置測
定機構からのデータに基づいて位置制御および前記光学
機構の動作制御を行う制御機構とを備え、記録媒体に設
けられた描画基準マークの位置を前記位置測定機構によ
り測定し、描画基準マークの基準点または基準線の少な
くとも一方を設定された描画位置または描画方向の少な
くとも一方に合致させた後に光学機構によりパターンを
描画することを特徴とする描画装置。
【請求項２】記録媒体を載置する固定移動機構と、前
記記録媒体に光を照射する光学機構と、記録媒体の描画
基準マーク座標を測定する位置測定機構と、前記位置測
定機構からのデータを演算し、演算結果に基づいて固定
移動機構の制御および光学機構の動作制御を行う制御機
構とを備え、記録媒体を移動させて描画基準マークの基
準点または基準線の少なくとも一方を設定された描画位
置または描画方向の少なくとも一方に合致させると共に
描画基準マーク座標を算出し、算出された描画基準マー
ク座標を基準としてパターンを描画することを特徴とす
る描画装置。
【請求項３】基準となるパターンを変形した変形パタ
ーンにおける描画基準マーク座標と、前記変形パターン
に対応するラスタイメージを記憶させておき、記録媒体
の描画基準マーク座標と合致または近似する描画基準マ
ーク座標を有する変形パターンに対応する記憶されてい
るラスタイメージに基づいて、パターンを描画すること
を特徴とする請求項２記載の描画装置。