JP7084227B2 - マーク位置検出装置、描画装置およびマーク位置検出方法 - Google Patents
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Description
8 描画データ
9 基板
31 描画ヘッド
41 ステージ
43 ステージ移動機構
51 撮像部
83a 第1画像
83b 第2画像
85 合成画像
92 マーク
93a 第1領域
93b 第2領域
211 撮像制御部
212 画像合成部
213 位置取得部
214 補正部
215 描画制御部
S11~S15 ステップ
Claims (8)
- ステージに保持された基板上のマークの位置を検出するマーク位置検出装置であって、
基板を保持するステージと、
前記基板上に形成されたマークの画像を取得する撮像部と、
前記基板の主面に平行な方向に、前記撮像部に対して前記ステージを相対的に移動する移動機構と、
前記撮像部および前記移動機構を制御することにより、前記マークの設計上の位置を含む前記基板上の第1領域を示す第1画像と、前記第1領域と一部のみが重なる第2領域を示す第2画像とを取得する撮像制御部と、
前記第1画像と前記第2画像とを合成して合成画像を生成する画像合成部と、
前記合成画像に基づいて前記ステージに対する前記マークの位置を求める位置取得部と、
を備え、
前記第1領域および前記第2領域のそれぞれが、互いに垂直な長辺と短辺とを有し、
前記第1領域と前記第2領域とが前記短辺にほぼ平行な方向に並び、
前記画像合成部は、前記第1画像に対する前記第2画像の相対位置を求める際に、前記第1領域および前記第2領域の前記短辺と、前記第1領域の中心と前記第2領域の中心とを結ぶ直線とが成す角度を利用することを特徴とするマーク位置検出装置。 - ステージに保持された基板上のマークの位置を検出するマーク位置検出装置であって、
基板を保持するステージと、
前記基板上に形成されたマークの画像を取得する撮像部と、
前記基板の主面に平行な方向に、前記撮像部に対して前記ステージを相対的に移動する移動機構と、
前記撮像部および前記移動機構を制御することにより、前記マークの設計上の位置を含む前記基板上の第1領域を示す第1画像と、前記第1領域と一部のみが重なる第2領域を示す第2画像とを取得する撮像制御部と、
前記第1画像と前記第2画像とを合成して合成画像を生成する画像合成部と、
前記合成画像に基づいて前記ステージに対する前記マークの位置を求める位置取得部と、
を備え、
前記移動機構は、前記撮像部に対して前記ステージを、移動方向に相対的かつ直線状に移動し、
前記撮像部は、前記撮像部に対する前記ステージの相対移動中に前記第1画像および前記第2画像を取得することを特徴とするマーク位置検出装置。 - ステージに保持された基板上のマークの位置を検出するマーク位置検出装置であって、
基板を保持するステージと、
前記基板上に形成されたマークの画像を取得する撮像部と、
前記基板の主面に平行な方向に、前記撮像部に対して前記ステージを相対的に移動する移動機構と、
前記撮像部および前記移動機構を制御することにより、前記マークの設計上の位置を含む前記基板上の第1領域を示す第1画像と、前記第1領域と一部のみが重なる第2領域を示す第2画像とを取得する撮像制御部と、
前記第1画像と前記第2画像とを合成して合成画像を生成する画像合成部と、
前記合成画像に基づいて前記ステージに対する前記マークの位置を求める位置取得部と、
を備え、
前記移動機構は、前記撮像部に対して前記ステージを、移動方向に相対的かつ直線状に移動し、
前記撮像部は、前記移動方向に並ぶ奇数個の複数の領域の画像を取得し、前記複数の領域のそれぞれは、隣接する領域と一部のみが重なり、
前記第1領域は、前記複数の領域における中央の領域であり、
前記第2領域は、前記第1領域に隣接する1つの領域であることを特徴とするマーク位置検出装置。 - ステージに保持された基板上のマークの位置を検出するマーク位置検出装置であって、
基板を保持するステージと、
前記基板上に形成されたマークの画像を取得する撮像部と、
前記基板の主面に平行な方向に、前記撮像部に対して前記ステージを相対的に移動する移動機構と、
前記撮像部および前記移動機構を制御することにより、前記マークの設計上の位置を含む前記基板上の第1領域を示す第1画像と、前記第1領域と一部のみが重なる第2領域を示す第2画像とを取得する撮像制御部と、
前記第1画像と前記第2画像とを合成して合成画像を生成する画像合成部と、
前記合成画像に基づいて前記ステージに対する前記マークの位置を求める位置取得部と、
を備え、
前記合成画像中の前記第1画像と他の画像とが重なる部位の画素値が、前記第1画像の画素値であることを特徴とするマーク位置検出装置。 - ステージに保持された基板上のマークの位置を検出するマーク位置検出装置であって、
基板を保持するステージと、
前記基板上に形成されたマークの画像を取得する撮像部と、
前記基板の主面に平行な方向に、前記撮像部に対して前記ステージを相対的に移動する移動機構と、
前記撮像部および前記移動機構を制御することにより、前記マークの設計上の位置を含む前記基板上の第1領域を示す第1画像と、前記第1領域と一部のみが重なる第2領域を示す第2画像とを取得する撮像制御部と、
前記第1画像と前記第2画像とを合成して合成画像を生成する画像合成部と、
前記合成画像に基づいて前記ステージに対する前記マークの位置を求める位置取得部と、
前記基板上に形成された他のマークの画像を取得する他の撮像部と、
を備え、
前記撮像制御部は、前記他の撮像部および前記移動機構を制御することにより、前記他のマークの設計上の位置を含む前記基板上の他の第1領域を示す他の第1画像と、前記他の第1領域と一部のみが重なる他の第2領域を示す他の第2画像とを取得し、
前記画像合成部は、前記他の第1画像と前記他の第2画像とを合成して他の合成画像を生成し、
前記合成画像のサイズと前記他の合成画像のサイズとが同一であることを特徴とするマーク位置検出装置。 - 請求項1ないし5のいずれか1つに記載のマーク位置検出装置であって、
前記基板が、可撓性を有することを特徴とするマーク位置検出装置。 - 基板にパターンを描画する描画装置であって、
基板上に形成された複数のマークの位置を検出する請求項1ないし6のいずれか1つに記載のマーク位置検出装置と、
前記複数のマークの位置に基づいて描画データを補正する補正部と、
前記ステージ上の前記基板に変調された光を照射する描画ヘッドと、
前記移動機構および前記描画ヘッドを制御することにより、補正された描画データに基づいて前記基板上に描画を行う描画制御部と、
を備えることを特徴とする描画装置。 - ステージに保持された基板上のマークの位置を検出するマーク位置検出方法であって、
a)撮像部により、ステージに保持された基板上のマークの設計上の位置を含む第1領域を示す第1画像を取得する工程と、
b)前記撮像部により、前記第1領域と一部のみが重なる第2領域を示す第2画像を取得する工程と、
c)前記第1画像と前記第2画像とを合成して合成画像を生成する工程と、
d)前記合成画像に基づいて前記ステージに対する前記マークの位置を求める工程と、
を備え、
前記撮像部に対して前記ステージは、移動方向に相対的かつ直線状に移動し、
前記撮像部は、前記撮像部に対する前記ステージの相対移動中に前記第1画像および前記第2画像を取得することを特徴とするマーク位置検出方法。
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