CN1766738A - 描绘方法及装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种描绘方法及装置，当在大尺寸的1块基板上描绘多个小尺寸的布线图形时，能够不受基板变形的影响地对各个布线图形进行高精度的位置对正。在表示预先设定的多个基准标记位置信息的基板(12)上的位置上预先设置多个基准标记(12a)，通过检测该基准标记(12a)取得表示该基准标记的位置的检测位置信息，根据共通的基准标记(12a)的检测位置信息和基准标记位置信息的偏移，单独修正表示配置在基板(12)的规定位置上的2个布线图形(P1、P2)的各自位置的描绘位置信息(12c)，基于该修正的描绘位置信息(12c)配置布线图形(P1、P2)，在基板(12)上描绘。

Description

描绘方法及装置

技术领域

本发明涉及通过在描绘对象的规定位置上配置图像进行描绘的描绘方法及装置。

背景技术

以往，作为在印刷布线基板上描绘规定的布线图形的装置，提出了多种利用光刻技术的曝光装置。

作为如此的曝光装置，例如，提出了在涂布光刻剂的基板上，向主扫描及副扫描方向扫描光束，同时基于表示布线图形的图像数据调制该光束，形成布线图形的曝光装置。

此处，通过上述曝光装置形成的印刷布线板的布线图形，有日益高精细化的倾向，例如，在形成多层印刷布线板的情况下，需要高精度地进行各层布线图形的位置对正。

为了进行如此的位置对正，各层的布线图形被曝光在预先设定在基板上的位置上，但在形成多层印刷布线板时，由于在贴合各层的挤压工序中，对基板施加热，有时基板因该热而变形，所以当在如此预先设定的位置上曝光各层布线图形后，各层的布线图形的描绘位置出现偏移，有各层的布线图形的高精度的位置对正困难的顾虑。

因此，例如，提出了，基于预先设定的基准标记位置信息，在各层的基板的四角设置孔，在曝光时检测该孔的位置，基于该检测的孔的检测位置信息和所述基准标记位置信息，求出基板的变形量，通过根据该变形量修正布线图形的位置对正，能够不受所述的基板的变形的影响地进行高精度的位置对正的曝光装置。

另外，随着近年来的便携式电话机等小型电子设备的普及，对比较小尺寸的印刷布线板的需求增加。在采用如此的曝光装置，制造上述小尺寸的印刷布线板的情况下，以在大尺寸的1块基板内配置多个小尺寸的布线图形的方式曝光。

但是，当在按如上所述在1块基板上曝光多个布线图形时，与上述同样，在基于设在基板的四角上的孔，修正、曝光包括多个布线图形的图像整体后，由于不是遍及基板整体地均匀产生上述的基板的变形，而是有时在局部产生分别不同的变形，因此对于各个布线图形，有不能够分别进行高精度的位置对正的顾虑。

因此，例如，在专利文献1中提出了，不仅在基板的四角，而分别对应各个小尺寸布线图形设置孔，根据设在每个布线图形上的孔的变形的移动量，修正各个布线图形的描绘装置的方法。

专利文献1：特开2000-122303号公报

但是，如专利文献1所记载，由于按各个布线图形设置孔，所以十分麻烦，而且增加成本。此外，需要准备根据各个布线图形的尺寸、或形状、或配置等，分别在不同的位置设置孔的基板，因而生产效率低。

发明内容

本发明鉴于以上的事实，其目的在于提供一种描绘方法及装置，能够不受基板变形的影响地对各个布线图形进行高精度的位置对正，同时能够提高生产效率。

本发明的第1描绘方法，是分别在描绘对象的规定位置上配置至少2个图像，进行描绘的描绘方法，其特征在于：在表示预先设定的多个基准标记位置信息的基板上的位置上预先设置多个基准标记，通过检测该基准标记取得表示该基准标记的位置的检测位置信息；基于共通的基准标记的检测位置信息，单独修正表示描绘对象上的至少2个图像的各自配置位置的、与基准标记位置信息具有相对的位置关系的每个图像的描绘位置信息；基于该修正的描绘位置信息，配置至少2个布线图像，在描绘对象上描绘。

此处，所谓所述“基于共通的基准标记的检测位置信息，单独修正描绘位置信息”，只要是考虑所述检测位置信息和所述基准标记位置信息的位置关系，取得修正后的各描绘位置信息的方法，可以采用任何方法。

此外，在所述本发明的第1描绘方法中，能够基于共通的基准标记的检测位置信息和基准标记位置信息的偏移，单独修正每个图像的描绘位置信息。

此外，能够基于共通的基准标记的检测位置信息和相对的位置关系，单独修正每个图像的描绘位置信息。

本发明的第2描绘方法，是分别在描绘对象的规定位置上配置至少2个图像，进行描绘的描绘方法，其特征在于：在表示预先设定的多个基准标记位置信息的所述描绘对象上的位置上预先设置多个基准标记，通过检测该基准标记取得表示该基准标记的位置的检测位置信息；基于检测位置信息，单独修正以在根据多个基准标记位置信息决定的区域的范围内，至少配置2个图像的方式，按每个图像决定的描绘位置信息；基于该修正的各描绘位置信息，配置至少2个布线图像，在描绘对象上描绘。

此处，所谓所述“根据多个基准标记位置信息决定的区域”，是通过多个基准标记位置信息确定的区域。

另外，所谓所述“以在根据多个基准标记位置信息决定的区域的范围内，至少配置2个图像的方式”，不仅是在所述区域的范围内配置各个图像的整体时，而且也包括在所述区域的范围内配置各个图像的局部时，或配置各个图像的局部和各个图像的整体时。

此外，在本发明的第2描绘方法中，能够基于检测位置信息和基准标记位置信息的偏移，单独修正每个图像的描绘位置信息。

此外，能够基于检测位置信息和相对的位置关系，单独修正每个图像的描绘位置信息。

本发明的第3描绘方法，是分别在描绘对象的规定位置上配置至少2个图像，进行描绘的描绘方法，其特征在于：在表示预先设定的多个基准标记位置信息的所述描绘对象上的位置上预先设置多个基准标记，通过检测该基准标记取得表示该基准标记的位置的检测位置信息；基于检测位置信息和按每个图像分别单独设定的相对的位置关系，单独修正表示描绘对象上的至少2个图像的各自配置位置的、与基准标记位置信息具有相对的位置关系的每个图像的描绘位置信息；基于该修正的描绘位置信息，配置至少2个布线图像，在描绘对象上描绘。

本发明的第4描绘方法，分别在描绘对象的规定位置上配置至少1个图像，进行描绘，其特征在于：在表示预先设定的多个基准标记位置信息的所述描绘对象上的位置上预先设置多个基准标记，通过检测该基准标记取得表示该基准标记的位置的检测位置信息；基于检测位置信息，修正表示描绘对象上的图像的配置位置的、与基准标记位置信息具有相对的位置关系的至少2个描绘位置信息；基于该修正的至少2个描绘位置信息，在描绘对象上描绘修正了包括倾斜及伸缩的至少一方的配置位置的图像。

此外，在所述第4描绘方法中，基于检测位置信息和基准标记位置信息的偏移，修正每个图像的至少2个描绘位置信息。

此外，能够基于检测位置信息和相对的位置关系，单独修正每个图像的至少2个描绘位置信息。

此外，能够按每个图像分别设定所述相对的位置关系。

此外，在所述本发明的第1～第4描绘方法中，按每个描绘位置信息设定表示基准标记位置信息和各描绘位置信息的相对的位置关系的函数，基于各函数和检测位置信息进行修正。

此处，作为所述“基于各函数和检测位置信息进行修正”方法，例如，也可以：在所述函数中，通过将所述基准标记位置信息置换成所述检测位置信息，取得修正后的各描绘位置信息，或基于所述基准标记位置信息和所述检测位置信息的偏移，修正所述函数本身，基于该修正的函数和所述基准标记位置信息，也可以取得修正后的各描绘位置信息。

此外，能够基于修正的各描绘位置信息，修正表示包括图像的规定区域的图像数据，生成修正过的图像数据，基于该修正过的图像数据进行描绘。

本发明的第1描绘装置，是分别在描绘对象的规定位置上配置至少2个图像，进行描绘的描绘装置，其特征在于，具备：检测位置信息取得机构，在表示预先设定的多个基准标记位置信息的描绘对象上的位置上预先设置多个基准标记，通过检测该基准标记取得表示该基准标记的位置的检测位置信息；描绘位置修正机构，基于共通的基准标记的检测位置信息，单独修正表示所述描绘对象上的至少2个图像的各自配置位置的、与基准标记位置信息具有相对的位置关系的每个图像的描绘位置信息；描绘机构，在描绘对象上，描绘基于利用该描绘位置修正机构修正的各描绘位置信息配置的至少2个图像。

此外，在本发明的第1描绘装置中，描绘位置修正机构，能够形成基于共通的基准标记的检测位置信息和基准标记位置信息的偏移，单独修正每个图像的描绘位置信息。

此外，描绘位置修正机构，能够形成基于共通的基准标记的检测位置信息和所述相对的位置关系，单独修正每个图像的描绘位置信息。

本发明的第2描绘装置，是分别在描绘对象的规定位置上配置至少2个图像，进行描绘的描绘装置，其特征在于，具备：检测位置信息取得机构，在表示预先设定的多个基准标记位置信息的描绘对象上的位置上预先设置多个基准标记，通过检测该基准标记取得表示该基准标记的位置的检测位置信息；描绘位置修正机构，基于检测位置信息，单独修正以在根据多个基准标记位置信息决定的区域的范围内至少配置2个图像的方式，按每个图像决定的描绘位置信息；描绘机构，在描绘对象上，描绘基于利用该描绘位置修正机构修正的各描绘位置信息配置的至少2个图像。

此外，在本发明的第2描绘装置中，描绘位置修正机构，能够形成基于检测位置信息和基准标记位置信息的偏移，单独修正每个图像的描绘位置信息。

此外，描绘位置修正机构，能够形成基于检测位置信息和所述相对的位置关系，单独修正每个图像的描绘位置信息。

本发明的第3描绘装置，是分别在描绘对象的规定位置上配置至少2个图像，进行描绘的描绘装置，其特征在于，具备：检测位置信息取得机构，在表示预先设定的多个基准标记位置信息的描绘对象上的位置上预先设置多个基准标记，通过检测该基准标记取得表示该基准标记的位置的检测位置信息；描绘位置修正机构，基于检测位置信息和按每个图像单独设定的相对的位置关系，单独修正表示描绘对象上的至少2个图像的各自配置位置的、与基准标记位置信息具有相对的位置关系的每个图像的描绘位置信息；描绘机构，在描绘对象上，描绘基于利用该描绘位置修正机构修正的各描绘位置信息配置的至少2个图像。

本发明的第4描绘装置，是分别在描绘对象的规定位置上配置至少2个图像，进行描绘的描绘装置，其特征在于，具备：检测位置信息取得机构，在表示预先设定的多个基准标记位置信息的描绘对象上的位置上预先设置多个基准标记，通过检测该基准标记取得表示该基准标记的位置的检测位置信息；描绘位置修正机构，基于检测位置信息，修正表示描绘对象上的图像的配置位置的、与基准标记位置信息具有相对的位置关系的至少2个描绘位置信息；描绘机构，基于利用该描绘位置修正机构修正的至少2个描绘位置信息，在描绘对象上描绘修正了包括倾斜及伸缩的至少一方的配置位置的图像。

此外，在本发明的第4描绘装置中，描绘位置修正机构，能够形成基于检测位置信息和基准标记位置信息的偏移，修正每个图像的至少2个描绘位置信息。

此外，描绘位置修正机构，能够形成基于检测位置信息和相对的位置关系，修正每个图像的至少2个描绘位置信息。

此外，能够按每个图像分别单独设定相对的位置关系。

此外，在所述本发明的第1～第4描绘装置中，描绘位置修正机构，能够形成按每个描绘位置信息设定表示基准标记位置信息和各描绘位置信息的相对的位置关系的函数，同时基于各函数和所述检测位置信息，进行修正。

此外，能够形成：具有基于修正的各描绘位置信息修正表示包括图像的规定区域的图像数据，生成修正过的图像数据的图像数据修正机构，描绘机构采用修正过的图像数据进行描绘。

根据本发明的第1描绘方法及装置，由于在表示预先设定的多个基准标记位置信息的描绘对象上的位置上预先设置多个基准标记，通过检测该基准标记取得表示该基准标记的位置的检测位置信息，基于共通的基准标记的所述检测位置信息，修正表示描绘对象上的至少2个图像的各自配置位置的、与基准标记位置信息具有相对的位置关系的每个图像的描绘位置信息，基于该修正的各描绘位置信息，配置至少2个图像，对描绘对象进行描绘，所以能够进行高精度的描绘，同时能够提高生产效率。

对于本发明的第2～第3描绘方法及装置，与所述本发明的第1描绘方法及装置同样，能够实现高精度描绘及生产效率提高。

根据本发明的第4描绘方法及装置，由于在表示预先设定的多个基准标记位置信息的描绘对象上的位置上预先设置多个基准标记，通过检测该基准标记取得表示该基准标记的位置的检测位置信息，基于所述检测位置信息，修正表示描绘对象上的图像的配置位置的、与基准标记位置信息具有相对的位置关系的至少2个描绘位置信息，基于该修正的至少2个描绘位置信息，在描绘对象上，描绘修正了包括倾斜及伸缩中的至少一方配置位置的图像，所以能够不受描绘对象的变形的影响地，高精度地进行考虑到图像的倾斜或伸缩的位置对正。

附图说明

图1是表示采用本发明的描绘方法及装置的一实施方式的曝光装置的简要构成的立体图。

图2是表示图1的曝光装置的扫描器的构成立体图。

图3(A)是表示形成在基板的曝光面上的曝光过的区域的俯视图，(B)是表示各曝光头形成的曝光区域的排列的俯视图。

图4是表示图1的曝光装置的曝光头上的DMD的图示。

图5是表示图1的曝光装置的电控制系统的构成的方块图。

图6是表示基准标记位置信息、描绘位置信息与多个布线图形的一例位置关系的图示。

图7是说明描绘位置信息的修正方法的图示。

图8是模式表示修正前的描绘位置信息、修正后的描绘位置信息、标准的基板的基准标记及基板变形后的基准标记的位置关系的图示。

图9是表示预先设定的基准标记位置信息和描绘位置信息与多个布线图形的其它例的位置关系的图示。

图10是表示预先设定的基准标记位置信息和描绘位置信息与多个布线图形的其它例的位置关系的图示。

图11是说明描绘位置信息的修正方法的图示。

图12是表示预先设定的基准标记位置信息和描绘位置信息与多个布线图形的其它例的位置关系的图示。

图13是表示预先设定的基准标记位置信息和描绘位置信息与多个布线图形的其它例的位置关系的图示。

图14是说明描绘位置信息的修正方法的图示。

图中：10-曝光装置，12-基板，12a-基准标记，12b-基准标记位置信息，12c-描绘位置信息，14-移动工作台，18-设置台，20-导轨，22-门，24-扫描器，26-摄像机，30-曝光头，32-曝光区域，36-DMD。

具体实施方式

以下，参照附图详细说明采用本发明的描绘方法及装置的一实施方式的曝光装置。图1是表示本曝光装置的简要构成的立体图。本曝光装置，是在1块基板上曝光多个布线图形等图像的装置，是曝光多层印刷布线板等多层基板的各层的布线图形的装置。另外，在本实施方式中，也能够以单层的基板为对象。此外，基板，也可以是显示装置用的滤光器或半导体等各种结构体。首先，说明本曝光装置的简要构成。

本曝光装置10，如图1所示，具有表面吸附保持基板12的平板状的移动工作台14。而且，在支撑在4只腿部16上的厚板状的设置台18的上面，设置沿工作台移动方向延伸的2根导轨20。工作台14，以其纵向朝工作台移动方向地配置，同时能往返移动由导轨20支撑。

在设置台18的中央部，以跨过工作台14的移动路径的方式，设置コ字状的门22。コ字状的门22的端部的各自，固定在设置台18的两侧面上。夹着该门22地在一侧设置扫描器24，在另一侧设置用于检测基板12的前端及后端、和预设在基板12上的圆形状的多个(在本实施方式中为6个)基准标记12a的位置的多台(在本实施方式中为3台)摄像机26。

此处，基板12上的基准标记12a，是基于预先设定的基准标记位置信息形成在基板12上的例如孔。另外，除孔以外，也可以采用凸起或通孔或蚀刻标记。此外，作为基准标记12a，也可以利用曝光在基板12上的电路图形的一部等规定的图形。关于基准标记位置信息，后述。

扫描器24及摄像机26分别安装在门22上，固定配置在工作台14的移动路径的上方。另外，扫描器24及摄像机26，与控制它们的后述的控制器连接。

扫描器24，如图2及图3(B)所示，具备2行5列的大致阵列状排列的10个曝光头30(30A～30J)。

在各曝光头30的内部，如图4所示，设置空间调制入射的光束的空间光调制元件(SLM)即数字·微型反射镜·器件(DMD)36，DMD36，以其像素列方向与扫描方向形成规定的设定倾斜角度θ的方式安装。因此，各曝光头30形成的曝光区域32，形成相对于扫描方向倾斜的矩形状的区域。随着工作台14的移动，在基板12上按每个曝光头30形成带状的曝光过的区域34。另外，还能够采用DMD以外的SLM。

设在曝光头30各自上的DMD36，以微型反射镜单位对其进行通/断控制，在基板12上，曝光与DMD36的微型反射镜对应的点图形(黑/白)。如图4所示，所述带状的曝光过的区域34，通过二维排列的点形成。

二维排列的点图形，通过相对于扫描方向倾斜，排列在扫描方向的点，通过向与扫描方向交叉的方向排列的点间，能够谋求高分辨率化。

另外，因倾斜角度的调整的偏差，有时存在未利用的点，例如，在图4中，形成斜线的点成为未利用的点，与该点对应的DMD36上的微型反射镜通常形成断开状态。

此外，如图3(A)及(B)所示，带状的曝光过的区域34各自，以与相邻的曝光过的区域34部分重合的方式，排列成线状的各行的曝光头30各自，以向其排列方向错开规定间隔(曝光区域的长边的自然倍数，在本实施方式中为1倍)地配置。因此，例如，位于第1行的最左侧的曝光区域32A，被位于第2行的最左侧的曝光区域32B曝光。同样，曝光区域32B、和位于曝光区域32B的右侧的曝光区域32D的之间的不能曝光的部分，被曝光区域32C曝光。

接着，说明本曝光装置10上的电构成。本曝光装置10，如图5所示，具备：光栅数据变换部50，接受从具有CAM(Computer Aided Manufacturing)工序的数据制作装置40输出的、表示曝光对象的布线图形的矢量数据，将该矢量数据变换成光栅数据(位映像数据)；基准位置设定部52，用于设定基准标记位置信息和多个布线图形的描绘位置信息；描绘位置修正机构54，基于表示由摄像机26检测的基准标记12a的位置的检测位置信息和所述基准标记位置信息，修正所述描绘位置信息；图像数据修正机构56，基于由描绘位置修正机构54修正的描绘位置信息，修正布线图形的光栅数据，生成修正过的图像数据；描绘控制部58，基于由图像数据修正机构56变换的修正过的图像数据，控制曝光头30，利用曝光头30曝光；工作台控制部60，控制工作台14向工作台移动方向的移动；控制本曝光装置整体的控制器70。另外，关于所述基准标记位置信息、所述描绘位置信息、及描绘位置信息的修正方法，后述。

接着，参照图5说明本曝光装置10的作用。

首先，在数据制作装置40，制作表示包含应在基板12上曝光的多个布线图形的布线图形整体的矢量数据。然后，将该矢量数据输入给光栅数据变换部50，在光栅数据变换部50中，将该矢量数据变换成光栅数据，输入给图像数据修正机构56，图像数据修正机构56临时储存输入的光栅数据。

此外，如果按以上将矢量数据输入给光栅变换处理部52，控制曝光装置10整体的工作的控制器70，就向工作台控制部60输出指示信号，根据该指示信号，工作台控制部60向未图示的工作台驱动装置输出控制信号，工作台驱动装置根据该控制信号，将移动工作台14从图1所示的位置，沿导轨20暂时移动到上游侧的规定的初期位置，然后按所要求的速度使其向工作台移动方向移动。

然后，在按以上移动工作台14上的基板12，经过多个摄像机26的下面时，利用这些摄像机26摄影基板12，将表示其摄影图像的图像数据输入给描绘位置修正机构54。描绘位置修正机构54，基于该图像数据，检测载置在工作台14上的基板12的基准标记12a的位置，取得检测位置信息。关于基准标记12a的位置的检测方法，例如，只要能够通过抽取圆形状的图像进行检测就可以，但也可以采用其它所有已知的检测方法。此外，所述基准标记12a的检测位置信息，具体能够作为坐标值取得，但该坐标值的原点，例如，也可以作为基板12的摄影图像的4个角中的1个角，也可以是摄影图像上的预先设定的规定位置，也可以是多个基准标记12a中的1个基准标记12a的位置。但是，需要使如此设定的原点和后述的基准标记位置信息的坐标值的原点一致。

另外，在基准位置设定部52上，预先设定不经过冲压工序的标准的基板12上的基准标记12a的基准标记位置信息。该基准标记位置信息是设定值，是在基板12上设置基准标记12a时预先设定的值。此外，该基准标记位置信息，也可以由用户设定，例如，也可以通过与上述同样利用摄像机26摄影上述的标准的基板12，获取和设定。所述基准标记位置信息也可以作为坐标值设定。

另外，在基准位置设定部52上，预先设定表示多个布线图形的位置的描绘位置信息。图6表示基准标记位置信息12b和描绘位置信息12c与多个布线图形P1、P2、P3的一例位置关系。图6中的斜线黑圈表示基准标记位置信息12b的位置，白圈表示描绘位置信息12c，四角表示实际曝光在基板上的布线图形。另外，所述描绘位置信息12c也作为坐标值设定，其坐标值原点与所述检测位置信息及所述基准标记位置信息相同。描绘位置信息12c，根据基板12上的多个布线图形的配置的间隔任意设定，由用户设定。此外，在本实施方式中，作为描绘位置信息12c，设定在形成布线图形的长方形的矩形区域P1、P2及P3的长边方向的中心轴上的与矩形区域的短边外接的点。另外，在本实施方式中，按上述设定描绘位置信息12c，但也可以利用其它方法设定。此外，在本实施方式中，将矩形区域P1和布线图形P2形成相同的尺寸及形状，但也可以形成不同的尺寸及形状。

然后，从基准位置设定部52，将如上设定的基准标记位置信息12b和描绘位置信息12c的坐标值输出给描绘位置修正机构54。

描绘位置修正机构54，基于按上述实际由摄像机26摄影的基板12的基准标记12a的检测位置信息和从基准位置设定部52输出的基准标记位置信息12b的偏移，修正描绘位置信息12c。参照图7，具体地说明修正图6所示的多个描绘位置信息中的，例如位于最上的右侧的1个描绘位置信息12c的方法。

描绘位置修正机构54，基于所述描绘位置信息T的坐标值和其描绘位置信息T的周围的4个基准标记位置信息A、B、C、D的坐标值，求出图7所示的4个分割区域的面积Sa、Sb、Sc、Sd。然后，通过在下式中代入与上述4个基准标记位置信息A、B、C、D各自对应的检测位置信息G、H、I、J的坐标值，计算修正的描绘位置信息的坐标值S(x、y)。

S(x、y)＝(Sa×G(x、y)+Sb×H(x、y)+Sc×I(x、y)

+Sd×J(x、y))/(Sa+Sb+Sc+Sd)

但是，Sa＝x2×y2、Sb＝x1×y2、Sc＝x2×y1、Sd＝x1×y1

然后，对于各描绘位置信息12c，进行与上述相同的运算，对于各描绘位置信息12c，取得修正后的描绘位置信息12c的坐标值。另外，此时，关于布线图形P1和布线图形P2的各描绘位置信息12c，最好采用围住布线图形P1和布线图形P2的4个共通的基准标记位置信息A、B、C、D和其检测位置信息进行修正，关于布线图形P3的各描绘位置信息12c，最好采用围住布线图形P3的4个基准标记的基准标记位置信息C、D、E、F、G和其检测位置信息进行修正。

此外，如上所述预先设定表示修正前的描绘位置信息和基准标记位置信息的相对的位置关系的函数S(x、y)，不采用该函数求出修正后的描绘位置信息，也可以取得检测位置信息和基准标记位置信息的偏移量，采用该偏移量修正修正前的描绘位置信息。在此种情况下，例如，关于各基准标记位置信息，对于取得的各偏移量，只要适当加权，在修正前的描绘位置信息中进行加法运算就可以。

图8表示修正前的描绘位置信息12c、修正后的描绘位置信息12c、标准的基板12的基准标记12a及变形后的基准标记12a的一例位置关系的模式图。另外，在图8中，图8中的虚线的白圈表示修正前的描绘位置信息12c，实线的白圈表示修正后的描绘位置信息12c，虚线的斜线圈表示标准的基板12的基准标记12a，实线的斜线圈表示变形后的基准标记12a。此外，为便于说明，在同一平面上示出基准标记12a和描绘位置信息12c，但是描绘位置信息12c不设在基板12上。如图8所示，根据基准标记12a的偏移，单独修正各描绘位置信息12c，据此单独修正各布线图形的位置。具体是，将按上述单独修正的描绘位置信息12c输出给图像数据修正机构56，图像数据修正机构56基于输入的描绘位置信息12c，对预先临时储存的光栅数据实施旋转、移位、变倍等处理，修正各布线图形的光栅数据。另外，在图8中，只看到移位及旋转各布线图形，但是关于各布线图形的伸缩，通过基于按上述修正的描绘位置信息12c实施变倍处理，也能够修正。在布线图形的伸缩中，也可以包含变形。

然后，按上述运算修正过的光栅数据，同时使移动工作台14按所要求的速度，从图1所示的下游侧的位置向上游侧移动。

然后，用摄像机26检测基板12的前端，开始曝光。具体是，向描绘控制部58输出按上述运算的修正过的光栅数据，描绘控制部58基于输入的修正过的光栅数据，向扫描器24的光栅数据曝光头30输出控制信号，曝光头30基于该控制信号，使DMD36的微型反光镜通·断，在基板12上曝光对应修正过的光栅数据的布线图形。

然后，随着移动工作台14的移动，依次向各曝光头30输出控制信号，进行曝光，摄像机26一检测到基板12的后端，就结束曝光。

另外，在本实施方式中，预先设定各描绘位置信息12c，但不一定需要在装置上设定各描绘位置信息12c，例如，如上所述，也可以预先在装置中只设定表示基准标记位置信息12b和描绘位置信息12c的关系(在上式的情况下，Sa、Sb、Sc、Sd的面积比)的函数，通过在该函数中代入检测位置信息，计算修正的描绘位置信息。

即，也可以基于基准标记位置信息12b和描绘位置信息12c的相对的位置关系，直接得到实际修正的描绘位置信息12c。作为此时的修正，例如，在多层基板的制造过程中，也可以根据下层的图形的配置，确定描绘位置信息12c，根据基板的配置位置的偏移确定描绘位置信息12c。

作为表示基准标记位置信息12b和描绘位置信息12c的关系的函数，不仅可以基于上述Sa、Sb、Sc、Sd的面积比，例如，也可以基于Sa、Sb、Sc、Sd的距离。此外，也可以通过设定表示基准标记位置信息12b和描绘位置信息12c的关系的函数，基于检测位置信息修正所述函数自身，在该修正的函数中代入基准标记位置信息12b，计算修正的描绘位置信息12c。

此外，基准标记位置信息12b和描绘位置信息12c的设定方法，不局限于图6所示的方式，例如，也可以按图9或图10所示的位置关系设定。另外，关于各布线图形的配置，最好在由基准标记位置信息12b决定的区域中的，至少最宽的区域(由配置在最外侧的基准标记位置信息12b决定的区域)上，至少配置2个布线图形。

此外，如图9所示，在设定基准标记位置信息12b和描绘位置信息12c的情况下，最好，关于布线图形Q1～Q4的描绘位置信息12c，采用围住布线图形Q1～Q4的4个共通的基准标记位置信息a、b、d、e和其检测位置信息修正，关于布线图形Q5～Q8的描绘位置信息12c，采用围住布线图形Q5～Q8的4个共通的基准标记位置信息b、c、e、f和其检测位置信息修正，关于布线图形Q9～Q12的描绘位置信息12c，采用围住布线图形Q9～Q12的4个共通的基准标记位置信息d、e、g、h和其检测位置信息修正，关于布线图形Q13～Q16的描绘位置信息12c，采用围住布线图形Q13～Q16的4个共通的基准标记位置信息e、f、h、i和其检测位置信息修正。

此外，如图10所示，在设定基准标记位置信息12b和描绘位置信息12c的情况下，最好，关于布线图形R1的描绘位置信息12c，采用基准标记位置信息a、b、d、e和其检测位置信息修正，关于布线图形R2的描绘位置信息12c，采用基准标记位置信息b、c、e、f和其检测位置信息修正，关于布线图形R3的描绘位置信息12c，采用基准标记位置信息d、e、g、f和其检测位置信息修正，关于布线图形R4的描绘位置信息12c，采用采用基准标记位置信息e、f、h、i和其检测位置信息修正。

而且，即使如图9或图10所示在设定基准标记位置信息12b和描绘位置信息12c的情况下，作为描绘位置信息12c的修正方法，也能够采用上述说明的方法。此外，关于在连结2个基准标记位置信息12b的虚线上的描绘位置信息的修正方法，例如，在进行如图11所示的描绘位置信息U的修正的情况下，通过基于描绘位置信息U的坐标值和该描绘位置信息U的周围的4个基准标记位置信息a、b、d、e的坐标值，求出2个分割区域的面积Sa、Sb，在以下的式(1)中，代入与上述2个基准标记位置信息a、b各自对应的检测位置信息的坐标值L、M，能够计算修正的描绘位置信息的坐标值V(x、y)，但是由于此式的结果与进行式(2)的计算时相同，因此也可以不求出面积Sa、Sb，基于式(2)计算修正的描绘位置信息的坐标值V(x、y)。

V(x、y)＝(Sa×L(x、y)+Sb×M(x、y)/(Sa+Sb)…(1)

其中，Sa＝x2×y、Sb＝x1×y

V(x、y)＝(x2×L((x、y)+x1×M(x、y))/(x2+x1)…(2)

此外，在上述说明中，说明了在被规定的多个基准标记位置信息12b围住的范围内的布线图形的描绘位置信息12c的修正方法，但也不局限于此，例如，如图12所示，也可以基于基准标记位置信息A、B、C、D和其检测位置信息，修正在被基准标记位置信息A、B、C、D围住的范围(被图12的虚线围住的范围)内的布线图形P1、和在被基准标记位置信息A、B、C、D围住的范围(被图12的虚线围住的范围)外的布线图形P2的描绘位置信息12c。此外，如图13所示，也可以基于基准标记位置信息A、B、C、D和其检测位置信息，修正在被基准标记位置信息A、B、C、D围住的范围内的布线图形P1、和在被基准标记位置信息A、B、C、D围住的范围内只配置其一部分的布线图形P2的描绘位置信息12c。此外，也可以基于基准标记位置信息A、B、C、D和其检测位置信息，修正在被基准标记位置信息A、B、C、D围住的范围外的至少2个布线图形的描绘位置信息12c。

另外，如上所述，作为通过用所述基准标记位置信息及其检测位置信息修正被基准标记位置信息围住的范围外的描绘位置信息的方法，例如，在基准标记位置信息A、B、C、D和描绘位置信息W是图14所示的位置关系的情况下，通过将与上述4个基准标记位置信息A、B、C、D各自对应的检测位置信息的坐标值G(X₀、Y₀)、H(X₁、Y₀)、I(X₀、Y₁)、J(X₁、Y₁)代入下式，能够计算修正的描绘位置信息的坐标值W’(x’、y’)。

x’＝(X₀×Q-P×X₁)/(Q-P)

y’＝(Y₀×L-K×Y₁)/(L-K)

其中，P＝x₀-x、Q＝x₁-x、K＝y-y₀、L＝y-y₁

此外，关于描绘位置信息12c的修正方法，不局限于上述的修正方法，基准标记位置信息12b和修正前的各描绘位置信息12c的位置关系、和检测位置信息和修正后的各描绘位置信息12c的位置关系的偏移，对于各描绘位置信息12c，只要是能减小的修正方法，也可以采用所有已知的运算方法修正。

此外，在修正各描绘位置信息12c时，关于采用哪个基准标记位置信息12b，例如，可以预先设定，也可以在配置描绘位置信息12c时，按照预先设定的条件，自动选择地设定。

具体是，例如，在配置描绘位置信息12c时，可以采用围住该描绘位置信息12c的基准标记位置信息12b中的形成最窄的区域的基准标记位置信息12b，也可以计算从描绘位置信息12c到基准标记位置信息12b的距离，按该距离的短的顺序，规定次数地选择基准标记位置信息12b。或者，也可以通过预先连结基准标记位置信息12b彼此间的线来区分成多个区域，采用属于该区域的基准标记位置信息12b，修正配置在该区域内的描绘位置信息12c。

根据本曝光装置10，由于在表示预先设定的多个基准标记位置信息12b的描绘对象上的位置上预先设置多个基准标记12a，通过检测该基准标记12a取得表示该基准标记的位置的检测位置信息，基于共通的基准标记的检测位置信息和基准标记位置信息12b的偏移，单独修正表示配置在基板12的规定位置上的至少2个图像的各自配置位置的每个布线图形的描绘位置信息12c，基于该修正的描绘位置信息12c，配置多个布线图形，对描绘基板12进行描绘，所以当在大尺寸的1块基板上多个曝光小尺寸的布线图形的情况下，能够不受基板12的变形的影响地对各个布线图形进行高精度的位置对正。此外，由于不是按多个布线图形中的每个，在基板12上设置基准标记12a，而是通过由多个布线图形中的每个决定的描绘位置信息12c，表示布线图形的描画位置，所以不需要准备根据布线图形的尺寸、或形状或配置等，分别设置不同的基准标记12a的基板12，能够提高生产效率。

此外，采用本曝光装置10，还能够在多个基板12上曝光由多个布线图形构成的图像图形，在如此的情况下，需要按每个基板12进行上述修正。此时，例如，采用修正后的描绘位置信息12c修正变换成光栅数据前的矢量数据，得到修正过的图像数据时，在每次进行每个基板12的修正时，需要将该修正的矢量数据变换成光栅数据，但是如本曝光装置10，由于只要采用修正后的描绘位置信息12c修正光栅数据，得到修正过的图像数据，从矢量数据向光栅数据的变换就可以只是最初的一次，能够减少向光栅数据的变换处理的次数，所以能够加快该部分的处理速度。另外，由于在采用描绘位置信息12c修正矢量数据后，用将该修正的矢量数据变换成光栅数据的方式，也能够实现通过缓和基准标记12a的数量或位置的制约，提高生产效率，因此在本发明中，也能够采用该方式。

此外，本发明的描绘方法基描绘装置，不只是用于上述的曝光装置，例如也能够用于喷墨打印机或喷墨方式的打印方法。即，在通过排出的液滴的喷点进行描绘的装置中，也能够应用本实施方式的校准方法。

此外，在本实施方式中，也可以在1块基板上分配不同的种类的图像地进行描绘。在本实施方式中，采用描绘位置信息12c进行图像的分配，由于相对于基准标记12a的图像分配位置的设定的自由度高，因此能够进行如此的异种图像的分配。此外，由于图像分配的自由度高，因此能够采用有效利用基板面的图像的分配方法。即，在基于基准标记12a位置进行区域划分的情况下，在未被利用的区域(例如，基板端部的区域)，也能够分摊描绘图像。此外，也能够采用在基于基准标记12a位置区分的区域，只设置1个比其小的、用描绘位置信息12c表示的区域的方式。在此种情况下，由于也能够调整图像分配位置，所以能够实现所要求的图形配置。此外，在本实施方式中，在一边向一方向输送基板，一边进行校准计测的情况下，有时也在设置基准标记12a的位置出现制约，但即使在该情况下，由于能够基于描绘位置信息12c进行图像的分配，所以也能够实现所要求的图形配置。反过来讲，在确定基准标记12a的位置时，还能够减小来自所要求的图形配置的制约。

此外，在本实施方式中，由于能够按每个图像单独设定基准标记位置信息12b和描绘位置信息12c的相对的位置关系，即，由于能够按规定的图像和该规定的图像以外的图像设定不同的相对的位置关系，所以能够更加减小基准标记12a的配置位置的制约。另外，对于部分图像，也可以设定共通或类似的相对的位置关系。

Claims (26)

1.一种描绘方法，分别在描绘对象的规定位置上配置至少2个图像进行描绘，其特征在于：

对预先设置在表示预先设定的多个基准标记位置信息的所述描绘对象上的位置上的多个基准标记进行检测，取得表示该基准标记的位置的检测位置信息；

基于共通的所述基准标记的所述检测位置信息，单独修正表示所述描绘对象上的所述至少2个图像的各自配置位置的、与所述基准标记位置信息具有相对的位置关系的所述每个图像的描绘位置信息；

基于该修正的各描绘位置信息，配置所述至少2个布线图像，在所述描绘对象上描绘。

2.如权利要求1所述的描绘方法，其特征在于：基于所述共通的基准标记的检测位置信息和所述基准标记位置信息的偏移，单独修正所述每个图像的描绘位置信息。

3.如权利要求1所述的描绘方法，其特征在于：基于所述共通的基准标记的检测位置信息和所述相对的位置关系，单独修正所述每个图像的描绘位置信息。

4.一种描绘方法，分别在描绘对象的规定位置上配置至少2个图像进行描绘，其特征在于：

对预先设置在表示预先设定的多个基准标记位置信息的所述描绘对象上的位置上的多个基准标记进行检测，取得表示该基准标记的位置的检测位置信息；

在由所述多个基准标记位置信息决定的区域的范围内，基于所述检测位置信息，单独修正以至少配置2个所述图像的方式按所述每个图像决定的描绘位置信息；

基于该修正的各描绘位置信息，配置所述至少2个布线图像，在所述描绘对象上描绘。

5.如权利要求4所述的描绘方法，其特征在于：基于所述检测位置信息和所述基准标记位置信息的偏移，单独修正所述每个图像的描绘位置信息。

6.如权利要求4所述的描绘方法，其特征在于：基于所述检测位置信息和所述相对的位置关系，单独修正所述每个图像的描绘位置信息。

7.一种描绘方法，分别在描绘对象的规定位置上配置至少2个图像进行描绘，其特征在于：

对预先设置在表示预先设定的多个基准标记位置信息的所述描绘对象上的位置上的多个基准标记进行检测，取得表示该基准标记的位置的检测位置信息；

基于所述检测位置信息和按每个所述图像分别单独设定的所述相对的位置关系，单独修正表示所述描绘对象上的所述至少2个图像的各自配置位置的、与所述基准标记位置信息具有相对的位置关系的所述每个图像的描绘位置信息；

基于该修正的各描绘位置信息，配置所述至少1个布线图像，在所述描绘对象上描绘。

8.一种描绘方法，分别在描绘对象的规定位置上配置至少2个图像进行描绘，其特征在于：

对预先设置在表示预先设定的多个基准标记位置信息的所述描绘对象上的位置上的多个基准标记进行检测，取得表示该基准标记的位置的检测位置信息；

基于所述检测位置信息，修正表示所述描绘对象上的所述图像的配置位置的、与所述基准标记位置信息具有相对的位置关系的至少2个描绘位置信息；

基于该修正的至少2个描绘位置信息，在所述描绘对象上描绘修正了包括倾斜及伸缩的至少一方的配置位置的所述图像。

9.如权利要求8所述的描绘方法，其特征在于：根据所述检测位置信息和所述基准标记位置信息的偏移，修正所述每个图像的至少2个描绘位置信息。

10.如权利要求8所述的描绘方法，其特征在于：根据所述检测位置信息和所述相对的位置关系，修正所述每个图像的至少2个描绘位置信息。

11.如权利要求8～10中任何一项所述的描绘方法，其特征在于：所述相对的位置关系，按所述每个图像分别单独设定。

12.如权利要求1～11中任何一项所述的描绘方法，其特征在于：

按所述每个描绘位置信息，设定表示所述基准标记位置信息和所述各描绘位置信息的相对的位置关系的函数；

基于所述各函数和所述检测位置信息，进行所述修正。

13.如权利要求1～12中任何一项所述的描绘方法，其特征在于：

基于所述修正的各描绘位置信息，修正表示包括所述图像的规定区域的图像数据，生成修正过的图像数据；

基于该修正过的图像数据进行所述描绘。

14.一种描绘装置，分别在描绘对象的规定位置上配置至少2个图像进行描绘，其特征在于，具备：

检测位置信息取得机构，对预先设置在表示预先设定的多个基准标记位置信息的所述描绘对象上的位置上的多个基准标记进行检测，取得表示该基准标记的位置的检测位置信息；

描绘位置修正机构，基于共通的所述基准标记的所述检测位置信息，单独修正表示所述描绘对象上的所述至少2个图像的各自配置位置的、与所述基准标记位置信息具有相对的位置关系的所述每个图像的描绘位置信息；

描绘机构，在所述描绘对象上描绘基于利用该描绘位置修正机构修正的各描绘位置信息配置的所述至少2个图像。

15.如权利要求14所述的描绘装置，其特征在于：所述描绘位置修正机构，基于所述共通的基准标记的检测位置信息和所述基准标记位置信息的偏移，单独修正所述每个图像的描绘位置信息。

16.如权利要求14所述的描绘装置，其特征在于：所述描绘位置修正机构，基于所述共通的基准标记的检测位置信息和所述相对的位置关系，单独修正所述每个图像的描绘位置信息。

17.一种描绘装置，分别在描绘对象的规定位置上配置至少2个图像进行描绘，其特征在于，具备：

检测位置信息取得机构，对预先设置在表示预先设定的多个基准标记位置信息的所述描绘对象上的位置上的多个基准标记进行检测，取得表示该基准标记的位置的检测位置信息；

描绘位置修正机构，基于所述检测位置信息，单独修正以在根据所述多个基准标记位置信息决定的区域的范围内，至少配置2个所述图像的方式，按所述每个图像决定的描绘位置信息；

描绘机构，在所述描绘对象上，描绘基于利用该描绘位置修正机构修正的各描绘位置信息配置的所述至少2个图像。

18.如权利要求17所述的描绘装置，其特征在于：所述描绘位置修正机构，基于所述检测位置信息和所述基准标记位置信息的偏移，单独修正所述每个图像的描绘位置信息。

19.如权利要求17所述的描绘装置，其特征在于：所述描绘位置修正机构，基于所述检测位置信息和所述相对的位置关系，单独修正所述每个图像的描绘位置信息。

20.一种描绘装置，分别在描绘对象的规定位置上配置至少2个图像进行描绘，其特征在于，具备：

检测位置信息取得机构，对预先设置在表示预先设定的多个基准标记位置信息的所述描绘对象上的位置上的多个基准标记进行检测，取得表示该基准标记的位置的检测位置信息；

描绘位置修正机构，对应所述检测位置信息和按所述每个图像分别单独设定的所述相对的位置关系，单独修正表示所述描绘对象上的所述至少2个图像的各自配置位置的、与所述基准标记位置信息具有相对的位置关系的所述每个图像的描绘位置信息；

描绘机构，在所述描绘对象上，描绘基于利用该描绘位置修正机构修正的各描绘位置信息配置的所述至少2个图像。

21.一种描绘装置，分别在描绘对象的规定位置上配置至少2个图像进行描绘，其特征在于，具备：

检测位置信息取得机构，对预先设置在表示预先设定的多个基准标记位置信息的所述描绘对象上的位置上的多个基准标记进行检测，取得表示该基准标记的位置的检测位置信息；

描绘位置修正机构，基于所述检测位置信息，修正表示所述描绘对象上的所述图像的配置位置的、与所述基准标记位置信息具有相对的位置关系的至少2个描绘位置信息；

描绘机构，基于利用该描绘位置修正机构修正的至少2个描绘位置信息，在所述描绘对象上描绘修正了包括倾斜及伸缩的至少一方的配置位置的所述图像。

22.如权利要求21所述的描绘装置，其特征在于：所述描绘位置修正机构，基于所述检测位置信息和所述基准标记位置信息的偏移，修正所述每个图像的至少2个描绘位置信息。

23.如权利要求21所述的描绘装置，其特征在于：所述描绘位置修正机构，基于所述检测位置信息和所述相对的位置关系，修正所述每个图像的至少2个描绘位置信息。

24.如权利要求21～23中任何一项所述的描绘装置，其特征在于：所述相对的位置关系，按每个所述图像分别设定。

25.如权利要求14～24中任何一项所述的描绘装置，其特征在于：所述描绘位置修正机构，按每个所述描绘位置信息，设定表示所述基准标记位置信息和所述各描绘位置信息的相对的位置关系的函数，同时基于所述各函数和所述检测位置信息，进行所述修正。

26.如权利要求14～25中任何一项所述的描绘装置，其特征在于：

还具有图像数据修正机构，该图像数据修正机构基于所述修正的各描绘位置信息修正表示包括所述图像的规定区域的图像数据，生成修正过的图像数据，

所述描绘机构，采用所述修正过的图像数据，进行所述描绘。

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