JP4744954B2 - 基板製造方法および露光装置 - Google Patents
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Description
fst+gs+ht=e … (2)
(但し、a,b,c,d,e,f,g,hは定数)
次に、求められたtおよびsの値を利用して、矩形画像ABCDを歪んだ方形領域A´B´C´D´と同様に内分することによって、方形領域内の点X´に対応する矩形画像ABCD内の点Xを求める。その点Xに位置する画素の値を、方形領域内の点X´に位置する画素の値に決定する。方形領域A´B´C´D´の境界線上および内部にあるすべての座標点について同様の処理を行えば、方形領域A´B´C´D´を構成するすべての画素の値が決定される。これにより、方形領域A´B´C´D´の形状および大きさに合った画像が得られる。
Y=dx+ey+f …(3)
カラーフィルター基板から読取られたマークやブラックマトリクスパターンの座標と、それらのマークやパターンが本来あるべき位置の座標(形成されたときの座標)を式(3)に代入すると、6個の式が得られる。この6個の式からなる連立方程式を解くことにより、a,b,c,d,eおよびfの値が求まる。このa,b,c,d,eおよびfの値が設定された式(3)に基づいて、各画素の座標を置き換える。これにより、読取られたマークやパターンにより特定される三角形の領域に合った形状のビットマップ画像が得られる。
Y=exy+fx+gy+h …(4)
カラーフィルター基板から読取られたマークやブラックマトリクスパターンの座標と、それらのマークやパターンが本来あるべき位置の座標を式(4)に代入すると、8個の式が得られる。この8個の式からなる連立方程式を解くことにより、a,b,c,d,e、f、gおよびhの値が求まる。このa,b,c,d,e、f、gおよびhの値が設定された式(4)に基づいて、各画素の座標を置き換える。これにより、読み取られたマークやパターンにより特定される方形領域に合った形状の画像が得られる。
7 透明基板、 8 ブラックマトリクスパターン、 9 R画素パターン、
10 G画素パターン、 11 B画素パターン、 12 スペーサ、 13 保護膜、
14 透明電極、 15 配向制御部材、 16a〜16d 基準点、
17 実際の位置
20 設置台、 21 ガイド、 22 ステージ、 23 基板、 24 支柱、
25 スキャナ、 26 支持体、 27 低倍率カメラ、 28 高倍率カメラ、
29 ゲート、 31 露光装置、
51 ゲート電極パターン、 52 ソース、 53 ドレイン、 54 コンタクトホール、 57 チャネル部
Claims (6)
- 所定の構造部材を備えた基板を製造する方法であって、少なくとも1種の構造部材を形成する工程において、
低倍率撮影により識別可能な第1パターンと高倍率撮影によってのみ識別可能な第2パターンとが形成された基板を、仮座標系が定義されたステージ上に設置し、
前記ステージ上で定義された仮座標系に基づいて設定された所定の位置で、前記基板を低倍率で撮影し、
該撮影により得られた低倍率撮影画像から前記第1パターンを識別し、
該第1パターンが識別された位置に基づいて前記ステージ上に本座標系を定義し、
前記仮座標系に基づいて前記基板上に設定された複数の基準点の、前記本座標系における位置座標を算出し、
算出された位置座標が示す位置で前記基板を高倍率で撮影し、
該撮影により得られた高倍率撮影画像から前記第2パターンの形状および/または色を識別することによって前記基準点の前記基板上の実際の位置を特定し、
前記構造部材のパターンを表す画像であって前記複数の基準点により特定される領域に記録する領域画像を、前記識別により特定された位置の情報に基づいて補正し、
補正した領域画像を構成する各画素の値に基づいて、基板を走査する光ビームをオン/オフ制御することにより前記基板上に画像を記録し、
前記基板を記録された画像形状に加工することにより該基板上に前記構造部材を形成することを特徴とする基板製造方法。 - 前記第2パターンは、前記基板を構成する構造部材の1種であって前記工程よりも前の工程で形成された構造部材のパターンであることを特徴とする請求項1記載の基板製造方法。
- 前記領域画像の補正において、
前記複数の基準点により特定される領域が歪んだ方形領域であるときに、前記領域画像を前記歪んだ方形領域に合うように歪ませることを特徴とする請求項1または2記載の基板製造方法。 - 露光対象の基板を設置し得るステージと、
供給された画像を構成する各画素の値に基づいてオン/オフ制御される光ビームで前記ステージに設置された基板を走査することにより、前記基板に前記画像を記録する記録手段と、
前記ステージの上方に該ステージに対し相対的に移動し得る状態で設置され且つ高倍率で基板を撮影し得る少なくとも1つの高倍率カメラと、
前記ステージの上方に該ステージに対し相対的に移動し得る状態で設置され且つ低倍率で基板を撮影し得る少なくとも1つの低倍率カメラと、
前記高倍率カメラおよび低倍率カメラによる撮影を制御する撮影制御手段と、
前記記録手段による記録位置の調整を行う記録位置制御手段とを備え、
前記記録位置制御手段が、
前記ステージ上に、低倍率撮影により識別可能な第1パターンと高倍率撮影によってのみ識別可能な第2パターンとが形成された基板が設置されたときに、
前記撮影制御手段に対し、前記ステージ上で定義された仮座標系に基づいて設定された所定の位置で前記基板を低倍率カメラにより撮影するよう指示し、
該指示に基づく撮影により得られた低倍率撮影画像から前記第1パターンを識別し、
該第1パターンが識別された位置に基づいて前記ステージ上に本座標系を定義し、
前記仮座標系に基づいて前記基板上に設定された複数の基準点の、前記本座標系における位置座標を算出し、
前記ステージおよび/または前記撮影制御手段に対し、前記算出された位置座標が示す位置の上方に前記高倍率カメラを相対移動するよう指示し、
前記撮影制御手段に対し、前記相対移動された高倍率カメラにより前記基板を高倍率で撮影するよう指示し、
該指示に基づく撮影により得られた高倍率撮影画像から前記第2パターンの形状および/または色を識別することによって前記基準点の前記基板上の実際の位置を特定し、
前記基板上に形成する構造部材のパターンを表す画像であって前記複数の基準点により特定される領域に記録する領域画像を、前記識別により特定された位置の情報に基づいて補正し、
補正された領域画像により構成される画像を前記記録手段に供給することにより、前記画像の記録位置を調整する手段であることを特徴とする露光装置。 - 複数の高倍率カメラおよび/または複数の低倍率カメラを備え、
前記撮影制御手段は、複数の高倍率カメラによる撮影および/または複数の低倍率カメラによる撮影を制御することを特徴とする請求項4記載の露光装置。 - 前記記録位置制御手段が、前記領域画像の補正において、
前記複数の基準点により特定される領域が歪んだ方形領域であるときに、前記領域画像を前記歪んだ方形領域に合うように歪ませることを特徴とする請求項4または5記載の露光装置。
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