JP2008065000A - 露光方法および露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ＤＭＤなどの空間変調素子を用いたデジタルの走査露光による描画において、線幅の変動等の無い高画質な画像を露光する。
【解決手段】基板（非露光媒体）と空間変調素子との相対的な走査方向と、画像の上下方向および横方向とを、一致させないで描画を行なうことにより、前記課題を解決する。
【選択図】図９

Description

本発明は、空間変調素子を用いる画像露光の技術分野に関し、特に、液晶表示装置の製造におけるブラックマトリクスの形成等に好適に利用される露光方法および露光装置に関する。

従来より、ＤＭＤ(Digital Micromirror Device ^TM)等の空間（光）変調素子を用いて、画像様に露光を行う露光装置（描画装置）が知られている。
空間変調素子とは、記録する画像（制御信号）に応じて、基板（被露光媒体）への記録光の入射すなわち露光をｏｎ／ｏｆｆする画素を二次元的（あるいは一次元的）に配列してなる素子である。例えば、ＤＭＤであれば、周知のように、反射面の角度を変化させて、光の反射方向を変更するマイクロミラーを、シリコン等の半導体基板上に二次元的に配列したミラーデバイスであり、画像に応じてマイクロミラーの角度を変更することにより、露光をｏｎ／ｏｆｆする。

このような空間変調素子を用いる露光装置として、複数の空間変調素子を一方向に配列し（以下、主走査方向とする）、この主走査方向と直交する副走査方向に（被露光）基板と空間変調素子とを相対的に移動（走査）することで、基板を画像様に露光して描画を行なう装置が知られている。
この装置では、記録光を空間変調素子に入射すると共に、空間変調素子の各画素を描画する画像（制御信号）に応じて変調駆動して、記録光を画像に応じて変調して、基板に入射と共に、空間変調素子（光学系）と基板とを相対的に走査することにより、画像に応じて変調した記録光で基板の全面を二次元的に露光する。

ＤＭＤ等の空間変調素子の画素は、通常、各行の並び方向と各列の並び方向とが直交する、正方格子状に配列される。
また、上述のような走査露光を行なう装置において、空間変調素子は、画素の配列方向を主走査方向および副走査方向に一致させて配置してもよいが、主走査および副走査方向に対して画素の配列方向を傾けて配置することにより、主走査方向の走査線の間隔を密にして、主走査方向の解像度（記録密度）を向上できる。

例えば、特許文献１には、ＤＭＤなどの空間変調素子に光を導く照明システムにおいて、空間変調素子を走査線上への投影に対して傾斜して配置することにより、主走査方向と直交する方向の解像度を向上できることが開示されている。
なお、副走査方向の解像度は、一般的に、走査速度と空間変調素子の変調速度とで決定されるので、走査速度を遅くする、および／または、変調速度を早くすることで、解像度を向上することができる。

特表２００１−５００６２８号公報

ところが、ＤＭＤ等の空間変調素子は、主走査方向および副走査方向共に、画素（基板に入射する各画素の光（光のドット））が離散的である。

そのため、特に前述のように空間変調素子の画素の配列方向を主走査方向および副走査方向に対して傾けて配置した際に、主走査方向（主走査方向に延在する）の直線状の描画パターンを露光する場合には、基板上における各画素による描画点の位置と、所望の描画位置とに微細なズレが生じてしまい、これに起因して、直線のエッジ部が微細な凹凸となる、いわゆるジャギーを有する画像となってしまう。
また、空間変調素子の画素が離散的であるために、副走査方向の直線状の描画パターンを露光する際にも、各画素による描画点の位置と所望の描画位置との微細なズレによって、線幅に誤差を生じてしまい、例えば、副走査方向に直線状のパターンを繰り返す縞模様を形成すると、各線の線幅の違いが生じてしまう。

本発明の目的は、このような問題点を解決することにあり、空間変調素子、特にＤＭＤのような二次元的な空間変調素子、中でも特に二次元空間変調素子を傾けて配置して、基板と空間変調素子とを所定の副走査方向に相対的に走査して、基板を画像様に露光して描画を行なうに際し、副走査方向の直線状の描画パターンを露光した際の線幅の誤差等が少なく、特に、液晶表示装置のブラックマトリクスの露光や、ＴＦＴ、蓄積コンデンサを形成するためのフォトレジストの露光（レジストパターンの形成）等に最適な露光方法、および、この露光方法を実施する露光装置を提供することにある。

前記目的を達成するために、本発明の露光方法は、空間変調素子と基板とを所定の方向に相対的に走査しつつ、記録する画像に応じて前記記録画素を変調して駆動することにより、前記基板を露光して描画を行なうに際し、前記走査方向と前記基板に露光する画像の上下方向および横方向とを一致させないで描画を行なうことを特徴とする露光方法を提供する。
また、本発明の露光方法の別の態様は、空間変調素子と基板とを所定の方向に相対的に走査しつつ、矩形状の表示装置構成部材として記録する画像に応じて前記空間変調素子の画素を変調して駆動することにより、前記基板を露光して描画を行なうに際し、 前記走査方向と前記基板に露光する画像の長手方向および短手方向をと一致させないで描画を行なうことを特徴とする露光方法を提供する。

また、本発明の露光装置は、空間変調素子によって、基板に画像を露光する露光装置であって、所定の走査方向に、前記基板と空間変調素子とを相対的に移動する走査手段と、前記空間変調素子によって露光する画像を基板内で回転する回転手段とを有し、必要に応じて、前記基板に露光する画像の上下方向および横方向と前記走査方向とが一致しないように、前記回転手段が基板に露光する画像を回転して、前記空間変調素子による露光を行なうことを特徴とする露光装置を提供する。
さらに、本発明の露光装置の別の態様は、空間変調素子によって、矩形状の表示装置構成部材として、基板に画像を露光する露光装置であって、所定の走査方向に前記基板と空間変調素子とを相対的に移動する走査手段と、前記空間変調素子によって露光する画像を基板内で回転する回転手段とを有し、必要に応じて、前記基板に露光する画像の長手方向および短手方向と前記走査方向とが一致しないように、前記回転手段が基板に露光する画像を回転して、前記空間変調素子による露光を行なうことを特徴とする露光装置を提供する。

このような本発明の露光装置において、カラー液晶表示装置のブラックマトリクスパターンの露光、カラー液晶表示装置の透明電極層を作成するためのレジスト層の露光、カラー液晶表示装置のＴＦＴ層を作成するためのレジスト層の露光、カラー液晶表示装置の蓄積コンデンサ層を作成するためのレジスト層の露光のいずれかを行なう際に、前記回転手段が画像の回転を行うのが好ましく、また、前記走査方向と基板の辺とが一致する状態で基板を装填する第１装填位置と、前記走査方向と基板の辺とが一致しない状態で基板を装填する第２装填位置とが設定されており、この第２装填位置に基板が装填された際に、前記回転手段が基板に露光する画像を回転して、前記空間変調素子による露光を行なうのが好ましい。

また、このような本発明の露光方法および露光装置において、前記空間変調素子が、正方格子状に画素が配列された二次元空間変調素子であるのが好ましく、また、前記走査方向と直交する方向に対して、前記画素の配列が角度を有するよう前記空間変調素子が配置されるのが好ましい。
また、前記基板の辺と走査方向とが一致しない状態で、前記基板と空間変調素子とを相対的に走査し、かつ、前記画像の上下方向および横方向と前記基板の辺とが平行となるように画像を回転して露光を行なうことにより、前記走査方向と前記基板に露光する画像の上下方向および横方向とが一致しないように描画を行なうのが好ましく、もしくは、前記基板の辺と前記走査方向とを一致させた状態で、前記基板と空間変調素子とを相対的に走査し、かつ、前記画像の上下方向および横方向と前記基板の辺とが角度を有するように画像を回転して露光を行なうことにより、前記走査方向と前記基板に露光する画像の上下方向および横方向とが一致しないように描画を行なうのが好ましい。
また、前記画像がＲ，ＧおよびＢのサブピクセルを有するカラー表示装置の製造に対応するものであり、前記基板上における前記走査方向と直交する方向の露光のピッチをＰｘ； 基板に露光する画像の上下方向と前記走査方向とが成す角度をθ； 基板に露光する画像の上下方向のサブピクセルの長さをｈ； とした際に、式「ｈ×ｓｉｎ（θ）＞Ｐｘ」を満たすのが好ましく、また、液晶表示装置のブラックマトリクスパターンの露光、液晶表示装置の透明電極層を作成するためのレジスト層の露光、液晶表示装置のＴＦＴ層を作成するためのレジスト層の露光、液晶表示装置の蓄積コンデンサ層を作成するためのレジスト層の露光の１以上を行なうのが好ましい。

空間変調素子と基板（被露光媒体）とを相対的に走査する画像露光では、通常、この相対的な走査方向と、基板の辺とを位置させ、かつ、相対的な走査方向と、画像の上下方向もしくは横方向とを一致させて露光を行なう。
これに対し、本発明においては、相対的な走査方向と画像の上下方向および横方向とが一致しないようにして、基板を露光して描画を行なう。言い換えれば、相対的な走査方向および走査方向と直交する方向に対して、画像の上下方向および横方向が角度を有する状態で、画像を記録する。
そのため、本発明によれば、画像の上下方向や横方向（上下方向や横方向に延在する）の直線状の描画パターンを形成する際に、この画像の上下方向および横方向と、走査方向とが一致しないので、空間変調素子の画素が離散していることに起因する前記線幅の誤差を生じることがない。

従って、本発明を例えば、液晶表示装置（液晶ディスプレイ）の製造におけるブラックマトリクスの形成や、表示画素（透明電極）、ＴＦＴ、蓄積コンデンサを形成するためのフォトレジストの露光等に利用することにより、ブラックマトリクスの線幅の変動に起因する周期的なスジ状のムラや開口率の変動に起因する中間色の色味変動（グレーバランスのズレ）、表示画素の開口率の低下、ＴＦＴのチャネル寸法の変動に起因する部分的な階調変動や中間色の色味変動、蓄積コンデンサの容量変動に起因する縦縞や横縞の視認を防止することができ、高画質な画像が表示できる液晶表示装置を製造できる。

以下、本発明の露光方法および露光装置について、添付の図面に示される好適実施例を基に、詳細に説明する。

図１に、本発明の露光方法を実施する本発明の露光装置の一例の概念図を示す。
図１に示す露光装置１０は、平面状の上面を有する移動ステージ１２に基板Ｓ（被露光媒体）を載置して、基板Ｓを画像様に露光して描画する、いわゆるフラットベットタイプの露光装置で、基本的に、前記移動ステージ１２に加え、定盤１４と、ゲート１６と、スキャナ１８とを有して構成される。

なお、本発明において、露光による描画の対象となる基板Ｓには、特に限定は無く、フォトレジストが塗布された板材、ＰＳ版などの各種の感光材料等、露光による描画が可能なものが、各種、利用可能であるが、好ましくは、液晶表示装置、特にカラー液晶表示装置の（以下、ＬＣＤとする）のブラックマトリクス（以下、ＢＭとする）となるフォトレジスト層を形成された基板Ｓ、ＬＣＤの透明電極画素を作成するためのレジスト層が形成された基板Ｓ、ＬＣＤのＴＦＴ層を作成するためのレジスト層が形成された基板Ｓ、および、ＬＣＤの蓄積コンデンサを作成するためのレジスト層が形成された基板Ｓは、好適に例示される。
すなわち、本発明は、ＬＣＤのＢＭとなるフォトレジスト（感光材料）の露光、ＬＣＤの透明電極画素層、ＴＦＴ層、および蓄積コンデンサ層を作成するためのエッチングマスクを形成するためのフォトレジストの露光に、好適に利用される。

移動ステージ１２は、基板Ｓを上面に載置／保持して、公知の手段で、所定の副走査方向（図中矢印ｙ方向）に移動（基板Ｓを走査搬送）する。
図示例の露光装置１０においては、空間（光）変調素子を用いて記録光を変調して、所定の露光位置に入射させるスキャナ１８を固定して、基板Ｓを載置する移動ステージ１２を副走査方向に移動することにより、基板Ｓと空間変調素子（空間変調素子によって変調した記録光を出射する光学系）とを相対的に走査する。すなわち、本例においては、この副走査方向が空間変調素子と基板Ｓとの相対的な走査方向となる。

なお、本発明は、これに限定はされず、基板Ｓを保持するステージ１２を固定して、スキャナ１８（図示例においては、スキャナ１８を保持するゲート１６）を移動することにより、基板Ｓと空間変調素子とを相対的に走査してもよい。
また、基板Ｓの走査搬送は、移動ステージ１２を移動する方法に限定はされず、搬送ローラ対を用いる方法や、基板Ｓを巻き掛けて保持するドラムを利用する方法等、公知のシート状物の走査搬送方法が、全て利用可能である。

移動ステージ１２は、定盤１４上に装填される。
定盤１４は、複数の脚部２４によって支持された、高度な寸法精度および平面性（特に、移動ステージ１２を載置する上面）を有する定盤（いわゆる光学定盤）である。
定盤１４の上面には、長尺なガイドレール２０が長手方向を副走査方向に一致して配置される。図示例において、ガイドレール２０は、副走査方向と直交する主走査方向（図中矢印ｘ方向）に離間して、２本が配置される。
移動ステージ１２は、この２本のガイドレール２０に係合して定盤１４上の所定位置に載置され、公知の移動方法で副走査方向に移動（往復移動）される。

定盤１４の副走査方向の略中央部には、２本のガイドレール２０を主走査方向に跨ぐように、ゲート１６が固定される。
このゲート１６の副走査方向の一方の側面にはカメラ２２が、他方の側面にはスキャナ１８が固定される。

カメラ２２は、基板Ｓに形成されるアライメントマークを検出するためのカメラで、例えば、ＣＣＤセンサを用いてアライメントマークを撮像して検出する。
図示例の露光装置１０においては、主走査方向に離間した所定の位置に２台のカメラ２２が配置される。

スキャナ１８は、空間変調素子であるＤＭＤ(Digital Micromirror Device ^TM)を用いて基板Ｓを描画パターンに応じて画像様に露光して描画する、露光ヘッド２６を位置決めして保持する。
図示例の露光装置１０においては、スキャナ１８は、計１０個の露光ヘッド２６（２６ａ〜２６ｊ）を保持しており、各露光ヘッド２６を主走査方向および副走査方向に千鳥格子状に配列して、５個を主走査方向に配列してなる露光ヘッド２６の列を、副走査方向に並べて２列有する。

図２に示すように、露光ヘッド２６は、集光ロッド３０、ＤＭＤ３２、第１結像光学レンズ３４および３８、第２結像光学レンズ４０および４２、マイクロレンズアレイ４６、マイクロアパーチャアレイ４８および５０等を有して構成されるものである。

図２に示すように、露光装置１０には、光源ユニット５４が設けられる。光源ユニット５４は、複数の半導体レーザから出射したレーザ光を合波して、このレーザ光を、光ファイバ５６によって各露光ヘッド２６の集光ロッド３０に、集光レンズ５７を介して導入する。

集光ロッド３０に導入されたレーザ光Ｌは、コリメートレンズ５９を経て、反射ミラー５８によって所定の方向に反射され、ＤＭＤ３２の全面（全てのマイクロミラー６４）に照射される。

図３に模式的に示すように、ＤＭＤ３２は、ＳＲＡＭセル（メモリセル）６２上に、個々の画素（ピクセル）を形成するマイクロミラー（微小ミラー）６４が、多数、二次元的に格子状に配列されてなる二次元空間（光）変調素子である。
各画素を構成するマイクロミラー６４は、裏面（光反射面の逆面）の中央において支柱で支えられており、表面には、アルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。
ＤＭＤ３２は、ＳＲＡＭセル６２にデジタル信号（画像信号）が書き込まれると、図４に模式的に示すように、支柱に支えられたマイクロミラー６４が、対角線を中心として±α°（例えば、±１２°）の範囲で傾斜される。なお、図４において、（Ａ）はマイクロミラーがｏｎ（基板Ｓを露光）状態である＋α°傾斜した状態を示し、（Ｂ）はマイクロミラー６４がｏｆｆ（基板Ｓを非露光）状態である−α°傾斜した状態を示す。

ＤＭＤ３６には、制御ユニット６８が接続されている。
制御ユニット６８は、基板Ｓに記録する画像に応じた画像データに応じて、ＤＭＤ３２のマイクロミラー６４の傾きを、各マイクロミラー６４（すなわちＤＭＤ３２の各画素）毎に独立にｏｎ状態またはｏｆｆ状態に制御する。これにより、ＤＭＤ３２に入射したレーザ光Ｌは、入射したマイクロミラー６４の傾きに応じて反射され、個々のマイクロミラー６４を単位として記録する画像に応じて各画素毎に変調されたレーザ光Ｌとされる。
ｏｎ状態のマイクロミラー６４によるレーザ光Ｌの射出方向には、このレーザ光Ｌを基板Ｓに導く、後述する光学系が配置されている。他方、ｏｆｆ状態のマイクロミラー６４によるレーザ光Ｌの射出方向には、図示しない光吸収体が配置され、露光に寄与しないレーザ光Ｌは、此処で遮光／吸収される。

従って、ＤＭＤ３２に入射したレーザ光Ｌは、制御ユニット６８に入力された画像データに応じて、ＤＭＤ３２の個々のマイクロミラー６４すなわち画素を単位として、ｏｎまたはｏｆｆが制御され、ｏｎ状態のマイクロミラー６４に反射されて基板Ｓに入射したレーザ光によって、基板Ｓがドット状に露光されることにより、画像データに応じた画像が基板Ｓに記録（描画）される。

ｏｎ状態のマイクロミラー６４によって反射されたレーザ光Ｌの射出先には、レーザ光Ｌを適正に基板Ｓに結像するための光学系が配置されている。
すなわち、ｏｎ状態のマイクロミラー６４によって反射されたレーザ光Ｌの光路には、レーザ光Ｌの進行方向にしたがって、拡大光学系である第１結像レンズ３４および３８、ＤＭＤ３２の各マイクロミラー６４に対応する多数のレンズを配列してなるマイクロレンズアレー４６、および、ズーム光学系である第２結像光学レンズ４０および４２が配置されている。また、マイクロレンズアレイ４６の前後（レーザ光Ｌ進行方向の直上下流）には、迷光を除去すると共に、レーザ光Ｌを所定の径に調整するためのマイクロアパーチャアレイ４８および５０が配置されている。

前述のように、スキャナ１８は、計１０個の露光ヘッド２６（２６ａ〜２６ｊ）を保持しており、図５に示すように、５個を主走査方向に配列してなる露光ヘッド２６の列を、副走査方向に並べて２列有している。また、両露光ヘッド２６の列は、主走査方向に、若干、ズレており、各露光ヘッド２６は千鳥格子状に配列されている。
各露光ヘッド２６が有するＤＭＤ３２は、基板Ｓに記録する画像（画素）の高密度化を図るために、図６および図７に示すように、マイクロミラー６４（すなわち画素）の配列方向を、副走査方向および主走査方向（ｙ方向およびｘ方向）に対して、所定の角度だけ傾けて配置されている。これに伴い、基板Ｓ上に照射されるＤＭＤ３２の各マイクロミラー６４によるレーザ光Ｌの照射位置（記録位置）の配列も、副走査方向および主走査方向に対して、前記所定角度だけ傾いて形成される。なお、図６においては、作用を分かり易くするために、各マイクロミラー６４を、基板Ｓに入射するレーザ光Ｌに対応する円で示している。

これにより、主走査方向に対する、ＤＭＤ３２の各マイクロミラー６４によるレーザ光の照射位置の間隔（主走査方向の記録ピッチＰｘ）が狭くなり、主走査方向の解像度（記録密度）を向上することができる。
副走査方向の記録ピッチは、基板Ｓの走査速度すなわち移動ステージ１２の移動速度、および／または、ＤＭＤ３２の駆動速度（変調速度）を調整することで、調整可能であるのは、前述のとおりである。

なお、図６に示す例においては、ＤＭＤ３２の各マイクロミラー６４に反射されて基板Ｓに入射するレーザ光が、主走査方向に重ならないように、ＤＭＤ３２を傾けているが、本発明は、これに限定はされない。
すなわち、より大きな角度でＤＭＤ３２を傾けて、各マイクロミラー６４に反射されて基板Ｓに入射するレーザ光を主走査方向で重ねて、同じ位置を異なるマイクロミラー６４で露光する、いわゆる多重露光を行なうようにしてもよい。

また、図７に示すように、各露光ヘッド２６（２６ａ〜２６ｊ）による基板Ｓ上における露光エリア７０（７０ａ〜７０ｊ）は、各露光エリア７０間に未露光の領域が生じないように、主走査方向で隣り合う露光ヘッド２６は、その露光エリア７０の一部が主走査方向に互いに重なるように設定される。

図８に示すように、露光装置１０は、移動ステージ１２の位置を検出するためのエンコーダ７２を有している。
また、前述のように、ＤＭＤ３２には、制御ユニット６８が接続される。制御ユニット６８は、露光装置１０全体の動作を制御するものであって、エンコーダ７２から出力される移動ステージ１２の位置を示す位置データに基づいて同期信号を生成する同期信号生成部７４と、生成された同期信号に基づいて移動ステージを副走査方向に移動させるステージ駆動部７６と、基板Ｓに記録する画像データを記憶する画像データ記憶部７８と、同期信号および画像データに基づいてＤＭＤ３２のＳＲＡＭセル６２を変調制御し、記録する画像に応じてマイクロミラー６４を変調駆動させるＤＭＤ変調部８０を有している。
また、制御ユニット６８は、必要に応じて、画像データ記憶部７８が記憶した画像データを基板Ｓ面内で回転して、マイクロミラー６４を変調駆動させるＤＭＤ変調部８０に供給する、画像回転部８２を有している。

以下、露光装置１０で基板Ｓを露光して描画を行なう際における基本的な作用を説明する。
露光装置１０において、基板Ｓが移動ステージ１２の所定位置に載置され、指示が出されると、例えば吸着によって移動ステージ１２上に基板Ｓを固定する。なお、この状態では、移動ステージ１２は、副走査方向のいずれか一方の端部（例えば、カメラ２２側の端部）に移動している。
次いで、制御ユニット６８のステージ駆動部７６が、同期信号生成部７４が生成した同期信号に応じて、移動ステージ１２の移動駆動源を駆動して、移動ステージ１２を副走査方向に所定の速度で移動する。移動ステージ１２がゲート１６を通過する際に、カメラ２２によって基板Ｓのアライメントマークが撮影される。カメラによる撮影データは、制御ユニット６８に送られ、制御ユニット６８は、移動ステージ１２の位置およびカメラ２２による撮影位置（主走査方向および副走査方向の位置）を用いて、アライメントマークの位置を検出する。

移動ステージ１２が、副走査方向の端部まで移動して、全てのアライメントマークの撮影が終了したら、制御ユニット６８は、次いで、アライメントマークの位置データに基づいて、基板Ｓへの画像の記録位置等を補正する位置補正データを算出する。

位置補正データを算出したら、制御ユニット６８は、同期信号生成部７４が生成した同期信号に応じて、ステージ駆動部７６が、副走査方向の逆端側に向けて所定速度での移動ステージ１２の移動を開始させ、スキャナ１８（各露光ユニット２６）による基板Ｓへの露光（描画）を開始する。
これにより、光源ユニット５４から射出されたレーザ光Ｌが、光ファイバ５６を介して各露光ユニット２６の集光ロッド３０に導入され、ミラー５８で反射されてＤＭＤ３２に入射する。

一方、制御ユニット６８においては、ＤＭＤ変調部８０が画像データ記憶部７８から画像データを読み出す。
ＤＭＤ変調部８０は、画像データ、同期信号生成部７４が生成する同期信号、および、先に算出した位置補正データに応じて、ＤＭＤ３２のＳＲＡＭセル６２を変調制御し、記録する画像に応じてマイクロミラー６４を変調駆動させる。これにより、ＤＭＤ３２の各マイクロミラー６４（各画素）が、記録する画像に応じて変調駆動され、ｏｎ／ｏｆｆ制御される。

ＤＭＤ３２のｏｎ状態のマイクロミラー６４によって反射されたレーザ光は、第１結像光学レンズ３４および３８によって拡大された後、マイクロアパーチャアレイ４８−マイクロレンズアレイ４６−マイクロアパーチャアレイ５０の順で通過して、ＤＭＤ３２の個々のマイクロミラー６４に対応するレーザ光Ｌ毎に、迷光を除去されると共に所定のビーム径に調整され、さらに、第２結像光学レンズ４０および４２によって、基板Ｓヘの露光（描画する画像）に対応する倍率に応じて拡大／縮小されて、基板Ｓに照射される。
ここで、前述のように、基板Ｓを載置する移動ステージ１２は、副走査方向に所定の速度で移動しているので、基板Ｓは、画像データに応じて変調されたレーザ光Ｌによって、副走査方向に、順次、露光され、基板Ｓには、画像データに応じた画像が、副走査方向に、順次、描画される。また、露光ヘッド２６は、１０個が主走査方向に配列されているので、基板Ｓは、画像データに応じて変調されたレーザ光Ｌによって、二次元的に走査露光され、全面に画像を描画される。

ここで、通常、基板Ｓは長方形等の矩形であり、長辺および短辺のいずれかを副走査方向に一致して（平行にして）、移動ステージ１２に載置される。また、基板Ｓヘの画像の露光も、画像の上下方向および横方向（画像の辺）が、副走査方向および主走査方向に一致（すなわち基板Ｓの辺と平行）するよう行なわれる。

これに対し、本発明の露光装置１０においては、副走査方向（および主走査方向）と基板Ｓの辺（辺の延在方向）とを一致して移動ステージ１２に基板Ｓを載置する第１載置位置と、図９に模式的に示すように、副走査方向に対して、基板Ｓの対向する２辺が所定の角度を有する状態で移動ステージ１２に基板Ｓを載置（以下、「基板Ｓを傾けて載置」とする）する、第２載置位置とが設定されている。

露光装置１０においては、通常は、第１載置位置に基板Ｓを載置して、描画する画像の上下方向および横方向が、主走査方向および副走査方向と一致する通常の露光（描画）を行なう。

これに対し、ＬＣＤのＢＭを形成するためのフォトレジストの露光（以下、ＢＭの露光とする）、ＬＣＤの透明電極層を作成するためのマスクとなるフォトレジストの露光（以下、透明電極の露光とする）、ＬＣＤのＴＦＴ層を作成するためのマスクとなるフォトレジストの露光（以下、ＴＦＴの露光とする）、および、ＬＣＤの蓄積コンデンサ層を作成するためのマスクとなるフォトレジストの露光（以下、蓄積コンデンサの露光とする）を行なう際には、基板Ｓを傾けて載置する第２載置位置に載置して、かつ、図９に示すように、基板Ｓの辺と画像Ｉの上下方向および横方向とが平行となるように、露光を行なう。
すなわち、露光装置１０において、ＢＭの露光、透明電極の露光、ＴＦＴの露光、および、蓄積コンデンサの露光の露光を行なう際には、基板Ｓを傾けて載置し、かつ、この基板の傾きに応じて画像Ｉを回転して、基板Ｓの辺と、画像Ｉの上下方向および横方向とが、すなわち対象となるＬＣＤの（表示）画面の上下方向および横方向とが、平行になるように、画像を露光する。従って、画像ＩすなわちＬＣＤの画面（その上下方向および横方向（すなわち、画像の長手方向および短手方向））は、主走査方向および副走査方向に対しては角度を有する状態となるが、基板Ｓに対しては角度を有さない通常の画像として描画される。

なお、図９においては、１枚の基板Ｓに同じ画像Ｉ（同じ画像データの画像）を、４面、割り付けて露光しているが、本発明は、これに限定はされない。また、画像Ｉの割り付けは、例えば、制御ユニット６８において、公知の方法で行なえばよい。

前述のようにＤＭＤ３２等の空間変調素子を用いた画像露光、特に、空間変調素子の画素（マイクロミラー６４）の配列方向を主走査方向および副走査方向に対して傾けて配置した画像露光では、空間変調素子の画素（基板Ｓに入射する各画素の光（ドット））が離散的で有るが故に、副走査方向と一致する（副走査方向に延在する）、直線状の画像を記録すると、線幅に誤差を生じ、繰り返しの描画パターンでは、線幅の変動（線幅のバラツキ）が生じてしまう。
そのため、主走査方向および副走査方向と、画像の上下方向および横方向とが一致する通常の露光方法で、ＢＭの露光、透明電極の露光、ＴＦＴの露光、蓄積コンデンサの露光のように、主走査方向や副走査方向と一致する直線状のパターンを有し、かつ、この直線状のパターンが主走査方向や副走査方向に周期的に繰り返される画像を露光すると、線幅の違いの影響によって、様々な不都合を生じてしまう。

例えば、ＢＭの露光を行なう際に、図１０（Ａ）に示すように、画面の上下方向を副走査方向（矢印ｙ方向）に一致させると、画面の上下方向のＢＭの遮光部の幅に誤差を生じてしまう。その結果、一例として、ａ〜ｄ示すような間隔の広い部分が、縦筋として認識される。また、１画素（１ピクセル）の中で線幅のバラツキが生じると、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）およびＢ（青）各サブピクセルの開口面積に違いが生じて、その結果、画像の色バランスが崩れてしまい、周期的に色バランスが崩れる等の不都合が生じる。
他方、図１０（Ｂ）に示すように、画面の上下方向を副走査方向と直交してＢＭの露光を行なうと、画面の横方向のＢＭの遮光部の幅に誤差を生じてしまう。その結果、一例として、ａおよびｂ示すような間隔の広い部分が、横筋として認識される。

ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等からなる透明電極の露光を行なう際に、上下方向および横方向の何れかを副走査方向に一致させると、副走査方向と一致するエッチングマスク（レジスト）の線幅が変動して、その結果、副走査方向と一致する直線状の描画パターンの線幅に変動を生じてしまう。透明電極の線幅変動に起因する画質劣化を防ぐためには、ＢＭの窓（各サブピクセルとなる開口）を小さく設計する必要が有るため、開口率の低下が発生する。
例えば、図１１に示すように、画面の横方向を副走査方向と一致して透明電極（点線）の露光を行なった際に、ａおよびｂのような線幅変動が生じた際には、その線幅変動に応じてＢＭ（実線）の窓を小さくして、各画素間を等間隔とする必要があり、開口率が低下してしまう。その結果、より高いバックライト輝度が必要になる等の不都合が生じる。

ＴＦＴの露光を行なう際に、上下方向および横方向の何れかを副走査方向と一致させると、チャネルの寸法を決めるエッチングマスク（レジスト）が部分的に変動してしまう。その結果、トランジスタ閾値にズレが生じ、部分的な液晶の階調変動や無彩色の色味変動が生じる。

ＴＦＴのドレイン／ソース電流は、Gradual Channel近似式によって、非飽和領域は、
Ids:=Cox*μ*(W/L)*[(Vgs-Vth)*Vds-(1/2)*Vds²]
飽和領域は、
Ids:=Cox*μ*(W/L)*(Vgs-Vth)²
上記式において、Ｃｏｘ：単位堆積当たりのゲート絶縁膜容量； μ：移動度； Ｗ：ＴＦＴのチャネル幅； Ｌ：ＴＦＴのチャネル長； Ｖｇｓ：ゲート−ソース間電圧； Ｖｔｆ：ＴＦＴの閾値； Ｖｄｓ：ソース−ドレイン電圧； である。

多くの場合、ＴＦＴのチャネルは矩形であり、また、その長さ（Ｌ）および幅（Ｗ）方向は画面の上下方向（Gate線およびData線）と平行となる。
従って、図１２に示すように、画面の上下方向と副走査方向とが一致する場合には、前記副走査方向の直線の線幅の違いによって、チャネル長Ｌにバラツキが生じてしまい、主走査方向の各サブピクセルでＴＦＴのＶｇｓ／Ｉｄｓ特性が変動してしまう。何れの場合も、ＴＦＴ特性の画面全体での均一性を損ない、表示ムラの原因となる。
なお、図１２において、ＧはGate線、ＤはData線、Ｓはソース、Ｄｒはドレイン、Ｃはチャネル、Ｈはコンタクトホール、である。

また、ＴＦＴの露光において、画面の上下方向と主走査方向もしくは副走査方向とを一致させて露光を行なうと、Gate線およびData線のいずれかの線幅が変動してしまう。
線幅が狭い場合は、配線抵抗が増し、信号伝達時間が長くなり、信号遅延に起因する表示ムラが生じてしまう。また、ムラの無い表示を実現するためには、設計上、全ての配線を幅の変動が有っても十分な太さが確保できる太さにする必要がある。しかしながら、Gate線やData線を太くすると、その分だけ、ＬＣＤの開口率の低下を招き、より高いバックライト輝度が必要になる等の不都合が生じる。

図１３に示すように、ＬＣＤにおいて、１画素を形成するサブピクセルＳｐは、通常、画面の上下方向に長尺な矩形であり、蓄積コンデンサＣｓは、サブピクセルＳｐ内に形成されるサブピクセルと直交する方向に長尺な矩形である。
ここで、蓄積コンデンサの露光を行なう際に、図１３に示すように、副走査方向と画面の横方向とを一致させると、副走査方向と一致する方向のエッチングマスク（レジスト）の線幅が変動して、その結果、蓄積コンデンサの主走査方向の幅が異なってしまい、図中に列ａおよび列ｂで示すように、画面の横方向の各列において、蓄積コンデンサＣｓの上下方向のサイズが異なってしまう。
そのため、横方向の各列で、蓄積コンデンサＣｓの容量不足や容量過大が生じてしまい、その結果、横方向の各列で表示階調濃度が異なってしまい、横縞が視認されてしまう。

これに対し、本発明においては、ＢＭの露光、透明電極の露光、ＴＦＴの露光、および、蓄積コンデンサの露光の露光を行なう際には、基板Ｓを傾けて載置すると共に、描画する画像の上下方向および横方向が、基板Ｓの辺と平行となるように、画像を回転して露光を行なう。すなわち、画像（ＬＣＤの画面）の上下方向および横方向と、露光装置１０における主走査方向および副走査方向とを、一致させることなく、画像（描画パターン）を露光する。
従って、本発明においては、主走査方向および副走査方向に離散するＤＭＤ３２（空間変調素子）の画素（基板Ｓに入射する各画素の光（光のドット）の配列方向と、画像Ｉにおける描画パターンの上下および横方向に繰り返し方向が一致しない。そのため、ＤＭＤ３２の画素の配列と、描画パターンの上下および横方向の繰り返し周期とが一致することが無いので、画素が離散することに起因する線幅の誤差を、大幅に低減できる。

その結果、本発明をＬＣＤの製造における前記各種の露光に利用することにより、前述のような、ＢＭの線幅の違いに起因するスジ状のムラ、透明電極の線幅の変動に起因するＢＭ開口率の低下、チャネル長の変動に起因する表示ムラ、Gate線やData線の線幅の変動、蓄積コンデンサの面積変動に起因する縞の視認などの画質低下が無い、高品質のＬＣＤを製造することができる。

本発明において、基板Ｓを傾ける角度（平面方向の回転角）、すなわち、副走査方向と、基板Ｓの副走査方向の辺（副走査方向に延在する辺）とが成す角度、すなわち、副走査方向と画像の上下方向もしくは方向とが成す角度、特に限定は無く、描画パターン等に応じて、適宜、設定すればよい。
具体的には、線幅の変動、あるいはさらにモアレやビートムラが認識し難い周波数となり、また、不規則に分散するような角度を、適宜、設定すればよい。

一例として、ＬＣＤのように、Ｒ，ＧおよびＢのサブピクセルを有する表示装置を製造するための各種の露光を行なう際には、対応する表示装置において、図１４に示すように、サブピクセルＳｐの上下方向の辺（すなわち画面の上下方向）と副走査方向とが成す角度をθとした際に、サブピクセルＳｐの上下方向の長さｈとｓｉｎθとの積が、基板Ｓ上における主走査方向の画素ピッチＰｘ（図６参照）よりも大きくなる角度θ以上、サブピクセルＳｐの上下方向の辺が副走査方向に対して傾くように、基板Ｓを傾けて載置すればよい。
すなわち、露光のピッチＰｘ、サブピクセルの上下方向すなわち画像の上下方向と副走査方向とが成す角度θ、および、上下方向のサブピクセルの長さｈが、下記式
ｈ×ｓｉｎ（θ）＞Ｐｘ
を満たすように、基板Ｓを傾けて載置すればよい。

前述のように、露光装置１０は、基板Ｓの辺を副走査方向に一致して移動ステージ１２に載置する第１載置位置と、図９に模式的に示すように、副（主）走査方向に対して基板Ｓを傾けて移動ステージ１２に載置する第２載置位置とが設定されている。
露光装置１０においては、基板Ｓが第２載置位置に載置されたら、制御ユニット６８の画像回転部８８は、この第２載置位置における基板Ｓの角度（例えば、副走査方向と、画像の上下方向もしくは横方向とが成す角度）に応じて、画像の上下方向および横方向が、基板Ｓの辺と一致するように、画像データ記憶部７８が記憶した画像データを回転（平面方向で回転）して、ＤＭＤ変調部８０に送る。
露光装置１０において、これにより、図９に示すように、傾けて配置した基板Ｓの辺に対して、画像の上下方向および横方向を一致して画像を露光する。

なお、基板Ｓが第２載置位置に載置されたことの検出は、例えば、前述のカメラ２２によるアライメントマークの検出で行なってもよく、あるいは、オペレータによる入力指示に応じて検出してもよい。
また、画像回転部８２における画像の回転は、画素の並び替え等の公知の方法によればよい。

以上の例では、ＢＭの露光、透明電極の露光、ＴＦＴの露光、および、蓄積コンデンサの露光の露光を行なう際に、基板Ｓを傾けて載置して、かつ、露光する画像を回転して、基板Ｓの辺と画像の上下および横方向とが一致するように露光を行なうことにより、主走査方向および副走査方向に対して角度をつけて画像を露光した。
しかしながら、本発明は、これに限定はされず、同様に、ＢＭの露光、透明電極の露光、ＴＦＴの露光、および、蓄積コンデンサの露光の露光を行なう際に、図１５に模式的に示すように、基板Ｓは通常の露光と同様に辺を副走査方向に一致して（平行にして）、移動ステージ１２に載置し、画像Ｉのみを回転して、画像Ｉの上下方向および横方向、すなわち対象となるＬＣＤの画面の上下および横方向と、主走査方向および副走査方向とが角度を有する状態となるように、露光（描画）を行なってもよい。

この態様においても、離散するＤＭＤ３２（空間変調素子）の画素の配列方向と、画像Ｉにおける描画パターンの上下および横方向に繰り返し方向が一致しないので、画素の配列と、描画パターンの上下および横方向の繰り返し周期とが一致せず、画素が離散することに起因する線幅の誤差を、大幅に低減することができる。

なお、この態様において、露光装置１０における、制御ユニット６８の画像回転部８８による画像の回転は、一例として、オペレータによる入力指示に応じて行なえばよい。
あるいは、制御ユニット６８において画像データを解析して、パターン分析等によって描画する画像がＢＭ、透明電極、ＴＦＴ、および、蓄積コンデンサのいずれかに対応するか否かを判断し、上記４つのいずれかの露光を行なう事を知見したら、自動的に、画像回転部８８による画像の回転を行なうようにしてもよい。

また、画像Ｉの回転量すなわち画像Ｉの上下および横方向と、副走査方向とが成す角度にも、特に限定は無いが、一例として、前記図１４に示した方法に準ずればよい。

以上、本発明の露光方法および露光装置について詳細に説明したが、本発明は、上述の例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良および変更を行なってもよいのは、もちろんである。

例えば、図１に示す露光装置１０は、空間変調素子としてＤＭＤ３２を用いているが、本発明は、これに限定はされず、各種の空間変調素子が利用可能である。
例えば、ＤＭＤのような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を使用することもできる。具体的には、ＭＥＭＳ(Micro Electro Mechanical Systems)タイプの空間変調素子（ＳＬＭ；Special Light Modulator)や、電気光学効果により透過光を変調する光学素子（ＰＬＺＴ素子）や液晶光シャッタ（ＦＬＣ）等の液晶シャッターアレイなど、ＭＥＭＳタイプ以外の空間光変調素子を用いることも可能である。なお、ＭＥＭＳとは、ＩＣ製造プロセスを基盤としてマイクロマシニング技術によるマイクロサイズのセンサ、アクチュエータ、そして制御回路を集積化した微細システムの総称であり、ＭＥＭＳタイプの空間光変調素子とは、静電気力を利用した電気機械動作により駆動される空間光変調素子を意味している。さらに、ＧＬＶ(Grating Light Valve)を複数ならべて二次元上に構成したものを用いることもできる。

また、本発明が対応する露光装置１０の光源も、半導体レーザに限定はされず、露光対象となる基板に応じて、各種の光源が利用可能である。
さらに、以上の例においては、好ましい態様として、空間変調素子として、二次元的な画素の配列を有する二次元空間変調素子を用いているが、本発明は、これに限定はされず、画素の配列を１列のみ有する、一次元的な空間変調素子も利用可能である。

また、以上の例においては、ＢＭの露光、透明電極の露光、ＴＦＴの露光、および、蓄積コンデンサの露光（表示装置構成部材の露光）を行なう際に、画像の上下方向および横方向（長手方向および短手方向）と、副走査方向（および主走査方向）とが一致しないように、露光を行なっている。
しかしながら、本発明は、これらの画像の露光に限定はされず、空間変調素子を用いるデジタルの画像露光、中でも特に図６に示すように二次元空間変調素子を傾けることで主走査方向の解像度を向上したデジタルの画像露光であって、描画する画像の上下方向および／または横方向に一致する（延在する）直線状の描画パターンを有する画像、中でも特に、この描画パターンが上下方向および／または横方向に繰り返される画像であれば、各種の画像の露光に利用可能である。

［実施例１］
長方形のガラス板にＢＭ材料（カラーモザイクＫ膜 富士写真フイルム社製）を積層し、基板Ｓとした。この基板Ｓに、基本的に図１に示される露光装置１０と同様の構成を有する、プリント配線板用のデジタル露光実験機（ＩＮＰＲＥＸ 富士写真フイルム社製）を用いて、３２インチサイズのＬＣＤ用のＢＭ層のパターンを露光した。
なお、ＢＭパターンの露光は、ＬＣＤとした際の画面の横方向と副走査方向（すなわち、上下方向と主走査方向も）とが一致するように行なった。
露光したＢＭ材料を現像し、基板Ｓに形成したＢＭパターンを目視検査した。その結果、表示画面の向きに置いた際に、横方向にスジ状のムラが認められ、このＢＭを組み込んだＬＣＤにおいても、このスジ状のムラが画像の表示品質を劣化させるものであることが、容易に推測できた。

他方、画像を回転して、ＬＣＤとした際の画面の横方向を副走査方向に対して１２°傾けて露光を行なった以外は、先と全く同様にして、基板ＳにＢＭパターンを形成した。
得られたＢＭパターンを目視検査した結果、表示画面の向きに置いた際に、上下方向および横方向共に、スジ状のムラ等は認められず、このＢＭを組み込んだＬＣＤの表示品質を劣化させることは無いことが確認できた。

［実施例２］
３００×４００ｍｍのガラス板を２枚、準備した。
このガラス板に、透明電極層となるＩＴＯ膜をスパッタリングで３０００Å成膜し、その上に、ノボラック系のフォトレジスト（ＦＭＴＲ−２９１３ 富士エレクトリックマテリアルズ社製）を１．５μｍの厚さとなるようにスリットコートし、さらにスピンコートによって一様に塗布した。次いで、１２０℃でプリベークを行なって、フォトレジストを乾燥、硬化してフォトレジスト層を形成し、基板Ｓとした。
この基板Ｓに、実施例１と同じデジタル露光実験機を用いて、１０．４インチのＬＣＤ用の透明電極層を形成するためのパターンを２面露光した。なお、基板の１枚は、ＬＣＤとした際の画面の横方向と副走査方向（すなわち、上下方向と主走査方向も）とが一致するように露光を行い、他の１枚は、画像を回転して、ＬＣＤとした際の画面の横方向を副走査方向に対して１２°傾けて露光を行なった。
次いで、フォトレジストを現像して、塩酸系のウエットエッチング液によってＩＴＯ膜のエッチングを行なって、ＬＣＤの透明電極層となるＩＴＯパターンを形成した。

形成したＩＴＯパターンを光学顕微鏡で観察したところ、画面の横方向と副走査方向とを一致して露光を行なったＩＴＯパターンには、横方向に、約１μｍの周期で、最大で約０．５μｍの凹凸が確認された。
他方、画面の横方向を副走査方向に対して１２°傾けて露光を行なったＩＴＯパターンを同様に観察したところ、凹凸の大きさが最大で約０．３μｍであった。

［実施例３］
実施例２と同様のガラス板を２枚、準備した。
このガラス板に、ＴＦＴ層となるＭｏ合金膜をスパッタリングによって、４０００Å成膜し、その上に、実施例２と同様にしてフォトレジスト層（１．５μｍ）を形成して、基板Ｓとした。
この基板Ｓに、実施例１と同じデジタル露光実験機を用いて、３２インチのＬＣＤ用のＴＦＴ層を形成するためのパターンを６面露光した。なお、基板の１枚は、ＬＣＤとした際の画面の横方向と副走査方向（すなわち、上下方向と主走査方向も）とが一致するように露光を行い、他の１枚は、画像を回転して、ＬＣＤとした際の画面の横方向を副走査方向に対して１２°傾けて露光を行なった。
次いで、フォトレジストを現像して、ドライエッチングの一種である反応性イオンエッチング(Reactive Ion Etching;ＲＩＥ)によってＭｏ合金膜のエッチングを行なって、ＬＣＤのＴＦＴ層を形成した。

形成したＴＦＴ層について、Ｖｇｓ−Ｉｄｓ特性を検査した。
その結果、画面の横方向と副走査方向とを一致して露光を行なったＴＦＴ層では、周期的にＶｇｓ−Ｉｄｓ特性にズレが生じ、ＬＣＤとした際に、明らかに表示ムラとして視認されることが、容易に推測できた。
他方、画面の横方向を副走査方向に対して１２°傾けて露光を行なったＴＦＴ層には、Ｖｇｓ−Ｉｄｓ特性にズレは認められず、ＬＣＤの表示品質を劣化させることは無いことが確認できた。

［実施例４］
実施例２と同様のガラス板を準備した。
このガラス板に、蓄積コンデンサとなるＭｏ合金膜をスパッタリングによって、４０００Å成膜し、その上に、実施例２と同様にしてフォトレジスト層（厚さ１．５μｍ）を形成して、基板Ｓとした。
この基板Ｓに、実施例１と同じデジタル露光実験機を用いて、１０個の蓄積コンデンサを形成するためのパターンを露光した。なお、蓄積コンデンサの内の５個は、ＬＣＤとした際の画面の横方向と副走査方向（すなわち、上下方向と主走査方向も）とが一致するように露光を行い、残りの５個は、画像を回転して、ＬＣＤとした際の画面の横方向を副走査方向に対して１２°傾けた状態として露光を行なった。
次いで、フォトレジストを現像して、ドライエッチングの一種である反応性イオンエッチング(Reactive Ion Etching;ＲＩＥ)によってＭｏ合金膜のエッチングを行なって、１０個の蓄積コンデンサを形成した。

形成した蓄積コンデンサの容量バラツキを検査した。
その結果、画面の横方向と副走査方向とを一致して露光を行なった蓄積コンデンサでは、面積変動が大きく、コンデンサの容量にバラツキが認められたが、画面の横方向を副走査方向に対して１２°傾けて露光を行なった蓄積コンデンサには、面積変動は認められなかった。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。

本発明の露光装置の一例の概略斜視図である。 図１に示す露光装置の露光ユニットの概念図である。 ＤＭＤを説明するための概略斜視図である。 （Ａ）および（Ｂ）は、ＤＭＤの作用を説明するための概念図である。 図１に示す露光装置による露光を説明するための概念図である。 図１に示す露光装置でのＤＭＤの配置を説明するための概念図である。 図１に示す露光装置による露光を説明するための概念図である。 図１に示す露光装置の制御ユニットのブロック図である。 本発明の露光方法を説明するための概念図である。 （Ａ）および（Ｂ）は、従来の露光方法におけるブラックマトリクス層の露光の問題点を説明するための概念図である。 従来の露光方法における透明電極層の露光の問題点を説明するための概念図である。 従来の露光方法におけるＴＦＴ層の露光の問題点を説明するための概念図である。 従来の露光方法における蓄積コンデンサ層の露光の問題点を説明するための概念図である。 本発明の露光方法を説明するための概念図である。 本発明の露光方法の別の説明するための概念図である。

符号の説明

１０ 露光装置
１２ 移動ステージ
１４ 定盤
１６ ゲート
１８ スキャナ
２０ ガイドレール
２２ カメラ
２６ 露光ユニット
３０ 集光ロッド
３２ ＤＭＤ
３４，３８ 第１結像光学レンズ
４０，４２ 第２結像光学レンズ
４６ マイクロレンズアレイ
４８，５０ アパーチャアレイ
５４ 光源ユニット
５６ 光ファイバ
５８ 反射ミラー
６２ ＳＲＡＭセル
６４ マイクロミラー
６８ 制御ユニット
７０ 露光エリア
７２ エンコーダ
７４ 同期信号生成部
７６ ステージ駆動部
７８ 画像データ記憶部
８０ ＤＭＤ駆動部
８２ 画像回転部

Claims (14)

1. 空間変調素子と基板とを所定の方向に相対的に走査しつつ、記録する画像に応じて前記空間変調素子の画素を変調して駆動することにより、前記基板を露光して描画を行なうに際し、
   前記走査方向と前記基板に露光する画像の上下方向および横方向とを一致させないで描画を行なうことを特徴とする露光方法。
2. 前記空間変調素子が、正方格子状に画素が配列された二次元空間変調素子である請求項１に記載の露光方法。
3. 前記走査方向に対して、前記画素の配列が角度を有するよう前記空間変調素子が配置される請求項１または２に記載の露光方法。
4. 前記基板の辺と走査方向とが一致しない状態で、前記基板と空間変調素子とを相対的に走査し、かつ、前記画像の上下方向および横方向と前記基板の辺とが平行となるように画像を回転して露光を行なうことにより、
   前記走査方向と前記基板に露光する画像の上下方向および横方向とが一致しないように描画を行なう求項１〜３のいずれかに記載の露光方法。
5. 前記基板の辺と前記走査方向とを一致させた状態で、前記基板と空間変調素子とを相対的に走査し、かつ、前記画像の上下方向および横方向と前記基板の辺とが角度を有するように画像を回転して露光を行なうことにより、
   前記走査方向と前記基板に露光する画像の上下方向および横方向とが一致しないように描画を行なう求項１〜３のいずれかに記載の露光方法。
6. 前記画像がＲ，ＧおよびＢのサブピクセルを有するカラー表示装置の製造に対応するものであり、
   前記基板上における前記走査方向と直交する方向の露光のピッチをＰｘ； 基板に露光する画像の上下方向と前記走査方向とが成す角度をθ； 基板に露光する画像の上下方向のサブピクセルの長さをｈ； とした際に、下記式
   ｈ×ｓｉｎ（θ）＞Ｐｘ
   を満たす請求項１〜５のいずれかに記載の露光方法。
7. 液晶表示装置のブラックマトリクスパターンの露光、液晶表示装置の透明電極層を作成するためのレジスト層の露光、液晶表示装置のＴＦＴ層を作成するためのレジスト層の露光、液晶表示装置の蓄積コンデンサ層を作成するためのレジスト層の露光の１以上を行なう請求項１〜６のいずれかに記載の露光方法。
8. 空間変調素子によって、基板に画像を露光する露光装置であって、
   所定の走査方向に前記基板と空間変調素子とを相対的に移動する走査手段と、前記空間変調素子によって露光する画像を基板内で回転する回転手段とを有し、
   必要に応じて、前記基板に露光する画像の上下方向および横方向と前記走査方向とが一致しないように、前記回転手段が基板に露光する画像を回転して、前記空間変調素子による露光を行なうことを特徴とする露光装置。
9. 前記空間変調素子が、正方格子状に画素が配列された二次元空間変調素子である請求項８に記載の露光装置。
10. 前記走査方向に対して、前記画素の配列が角度を有するよう前記空間変調素子が配置される請求項８または９に記載の露光装置。
11. カラー液晶表示装置のブラックマトリクスパターンの露光、カラー液晶表示装置の透明電極層を作成するためのレジスト層の露光、カラー液晶表示装置のＴＦＴ層を作成するためのレジスト層の露光、カラー液晶表示装置の蓄積コンデンサ層を作成するためのレジスト層の露光のいずれかを行なう際に、前記回転手段が画像の回転を行う請求項８〜１０のいずれかに記載の露光装置。
12. 前記走査方向と基板の辺とが一致する状態で基板を装填する第１装填位置と、前記走査方向と基板の辺とが一致しない状態で基板を装填する第２装填位置とが設定されており、この第２装填位置に基板が装填された際に、前記回転手段が基板に露光する画像を回転して、前記空間変調素子による露光を行なう請求項８〜１１のいずれかに記載の露光装置。
13. 空間変調素子と基板とを所定の方向に相対的に走査しつつ、矩形状の表示装置構成部材として記録する画像に応じて前記空間変調素子の画素を変調して駆動することにより、前記基板を露光して描画を行なうに際し、
    前記走査方向と前記基板に露光する画像の長手方向および短手方向をと一致させないで描画を行なうことを特徴とする露光方法。
14. 空間変調素子によって、矩形状の表示装置構成部材として、基板に画像を露光する露光装置であって、
    所定の走査方向に前記基板と空間変調素子とを相対的に移動する走査手段と、前記空間変調素子によって露光する画像を基板内で回転する回転手段とを有し、
    必要に応じて、前記基板に露光する画像の長手方向および短手方向と前記走査方向とが一致しないように、前記回転手段が基板に露光する画像を回転して、前記空間変調素子による露光を行なうことを特徴とする露光装置。

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