JP2011107570A - 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents
露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011107570A JP2011107570A JP2009264731A JP2009264731A JP2011107570A JP 2011107570 A JP2011107570 A JP 2011107570A JP 2009264731 A JP2009264731 A JP 2009264731A JP 2009264731 A JP2009264731 A JP 2009264731A JP 2011107570 A JP2011107570 A JP 2011107570A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light beam
- beam irradiation
- substrate
- scanning direction
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】光ビーム照射装置20を、光ビームによる基板1の走査方向に複数設け、走査方向の各光ビーム照射装置20の空間的光変調器(DMD25)を、走査方向に対して互いに異なる角度に傾けて配置し、基板1に描画するパターンのエッジを構成する線の角度に応じて、走査方向の複数の光ビーム照射装置20の内の1つ又は2つ以上を用いて、パターンのエッジを描画する。パターンのエッジを構成する線の角度が、走査方向の複数の光ビーム照射装置20のいずれの空間的光変調器(DMD25)の角度とも大きく異なるときは、走査方向の複数の光ビーム照射装置20を用いてパターンのエッジを描画すると、互いに異なった傾きの光ビーム照射領域が重なり合って、1つの光ビーム照射装置20だけを用いるときよりもパターンのエッジが滑らかに描画される。
【選択図】図5
Description
2a,2b,2c パターン
3 ベース
4 Xガイド
5 Xステージ
6,16 Yガイド
7,17 Yステージ
8,18 θステージ
10 チャック
11 ゲート
11a 開口
20 光ビーム照射装置
20a ヘッド部
21 レーザー光源ユニット
22 光ファイバー
23 レンズ
24 ミラー
25 DMD(Digital Micromirror Device)
25a ミラー部
26 投影レンズ
26a 光ビーム照射領域
27 DMD駆動回路
31,33 リニアスケール
32,34 エンコーダ
40 レーザー測長系制御装置
41 レーザー光源
42,44 レーザー干渉計
43,45 バーミラー
60 ステージ駆動回路
70 主制御装置
71 描画制御部
72,76 メモリ
73 バンド幅設定部
74 中心点座標決定部
75 座標決定部
77 描画データ作成部
Claims (8)
- フォトレジストが塗布された基板を支持するチャックと、
複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を含むヘッド部を有する光ビーム照射装置と、
前記チャックと前記光ビーム照射装置とを相対的に移動する移動手段とを備え、
前記移動手段により前記チャックと前記光ビーム照射装置とを相対的に移動し、前記光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光装置であって、
前記光ビーム照射装置を、光ビームによる基板の走査方向に複数備え、
走査方向の各光ビーム照射装置の空間的光変調器は、走査方向に対して互いに異なる角度に傾いて配置され、
基板に描画するパターンのエッジを構成する線の角度に応じて、走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の1つ又は2つ以上が、パターンのエッジの描画に用いられることを特徴とする露光装置。 - 各光ビーム照射装置を搭載して回転し、各光ビーム照射装置の空間的光変調器を走査方向に対して傾ける複数のステージを備えたことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の1つの空間的光変調器は、走査方向に対してミラーの1ピッチ分だけ傾いて配置され、
走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の他の1つの空間的光変調器は、基板に描画するパターンのエッジを構成する斜線の中で最も多い斜線の角度に傾いて配置されたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の露光装置。 - フォトレジストが塗布された基板をチャックで支持し、
チャックと、複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を含むヘッド部を有する光ビーム照射装置とを、相対的に移動し、
光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光方法であって、
光ビーム照射装置を、光ビームによる基板の走査方向に複数設け、
走査方向の各光ビーム照射装置の空間的光変調器を、走査方向に対して互いに異なる角度に傾けて配置し、
基板に描画するパターンのエッジを構成する線の角度に応じて、走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の1つ又は2つ以上を用いて、パターンのエッジを描画することを特徴とする露光方法。 - 各光ビーム照射装置を搭載して回転する複数のステージを設け、
各ステージにより各光ビーム照射装置を回転させて、各光ビーム照射装置の空間的光変調器を走査方向に対して傾けることを特徴とする請求項4に記載の露光方法。 - 走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の1つの空間的光変調器を、走査方向に対してミラーの1ピッチ分だけ傾けて配置し、
走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の他の1つの空間的光変調器を、基板に描画するパターンのエッジを構成する斜線の中で最も多い斜線の角度に傾けて配置することを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の露光方法。 - 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
- 請求項4乃至請求項6のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009264731A JP5219982B2 (ja) | 2009-11-20 | 2009-11-20 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009264731A JP5219982B2 (ja) | 2009-11-20 | 2009-11-20 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011107570A true JP2011107570A (ja) | 2011-06-02 |
JP5219982B2 JP5219982B2 (ja) | 2013-06-26 |
Family
ID=44231083
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009264731A Expired - Fee Related JP5219982B2 (ja) | 2009-11-20 | 2009-11-20 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5219982B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101429406B1 (ko) * | 2013-10-25 | 2014-08-13 | 인하대학교 산학협력단 | 노광 장치 및 이를 이용한 노광 방법 |
JP2014168040A (ja) * | 2013-01-30 | 2014-09-11 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン形成方法及び装置、露光装置並びに表示用パネル製造方法 |
KR101862506B1 (ko) | 2017-01-24 | 2018-05-29 | 인하대학교 산학협력단 | 노광 방법 |
JP7562001B2 (ja) | 2021-01-07 | 2024-10-04 | 江蘇迪盛智能科技有限公司 | リソグラフィシステムの走査方法及びリソグラフィシステム |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11320968A (ja) * | 1998-05-13 | 1999-11-24 | Ricoh Microelectronics Co Ltd | 光像形成方法及びその装置、画像形成装置並びにリソグラフィ用露光装置 |
JP2004009595A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光ヘッド及び露光装置 |
JP2007219011A (ja) * | 2006-02-14 | 2007-08-30 | Hitachi Via Mechanics Ltd | マスクレス露光装置及びその露光方法 |
JP2008065000A (ja) * | 2006-09-06 | 2008-03-21 | Fujifilm Corp | 露光方法および露光装置 |
JP2008112093A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-05-15 | Nano System Solutions:Kk | 露光方法及び露光装置 |
JP2009514012A (ja) * | 2005-10-26 | 2009-04-02 | マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット | 書込み装置および方法 |
-
2009
- 2009-11-20 JP JP2009264731A patent/JP5219982B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11320968A (ja) * | 1998-05-13 | 1999-11-24 | Ricoh Microelectronics Co Ltd | 光像形成方法及びその装置、画像形成装置並びにリソグラフィ用露光装置 |
JP2004009595A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光ヘッド及び露光装置 |
JP2009514012A (ja) * | 2005-10-26 | 2009-04-02 | マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット | 書込み装置および方法 |
JP2007219011A (ja) * | 2006-02-14 | 2007-08-30 | Hitachi Via Mechanics Ltd | マスクレス露光装置及びその露光方法 |
JP2008065000A (ja) * | 2006-09-06 | 2008-03-21 | Fujifilm Corp | 露光方法および露光装置 |
JP2008112093A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-05-15 | Nano System Solutions:Kk | 露光方法及び露光装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014168040A (ja) * | 2013-01-30 | 2014-09-11 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン形成方法及び装置、露光装置並びに表示用パネル製造方法 |
KR101429406B1 (ko) * | 2013-10-25 | 2014-08-13 | 인하대학교 산학협력단 | 노광 장치 및 이를 이용한 노광 방법 |
KR101862506B1 (ko) | 2017-01-24 | 2018-05-29 | 인하대학교 산학협력단 | 노광 방법 |
JP7562001B2 (ja) | 2021-01-07 | 2024-10-04 | 江蘇迪盛智能科技有限公司 | リソグラフィシステムの走査方法及びリソグラフィシステム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5219982B2 (ja) | 2013-06-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2013178445A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2010191127A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5219982B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2010060990A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2012242630A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法、並びに露光装置の検査方法 | |
JP5611016B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5280305B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5433524B2 (ja) | 露光装置及び露光方法並びに表示用パネル基板製造装置及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5473880B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2013195778A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2011007974A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5355245B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2011123383A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5305967B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5416867B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5467975B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5456607B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5349163B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5253037B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5430335B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2013054262A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2011150053A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2011180297A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2012008243A (ja) | 露光装置及び露光方法並びに表示用パネル基板製造装置及び表示用パネル基板製造方法 | |
JP5636315B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120229 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130305 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130305 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160315 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |