JP5355245B2 - 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents
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Description
1a 位置検出用マーク(アライメントマーク)
3 ベース
4 Xガイド
5 Xステージ
6 Yガイド
7 Yステージ
8 θステージ
10 チャック
10a 位置検出用マーク
11 ゲート
20 光ビーム照射装置
20a ヘッド部
21 レーザー光源ユニット
22 光ファイバー
23 レンズ
24 ミラー
25 DMD(Digital Micromirror Device)
26 投影レンズ
27 DMD駆動回路
31,33 リニアスケール
32,34 エンコーダ
40 レーザー測長系制御装置
41 レーザー光源
42,44 レーザー干渉計
43,45 バーミラー
50 画像処理装置
51 カメラユニット
51a CCDカメラ
51b レンズ
53 トップフレーム
54 Yガイド
55 Yステージ
56 Xガイド
57 Xステージ
58,59 リブ
60 ステージ駆動回路
70 主制御装置
71 描画制御部
72 メモリ
73 バンド幅設定部
74 中心点座標決定部
75 座標決定部
81,86,96 モータ
82,87,97 軸継手
83,88,98 軸受
84a,89a,99a ボールねじ
84b,89b,99b ナット
90 Zベース
91 Zガイド
92 Zステージ
93 リブ
94 取り付けベース
95 モータ台
Claims (8)
- 下地パターンが形成され、下地パターンの上にフォトレジストが塗布された基板を搭載するチャックと、
前記チャックを移動するステージと、
前記チャックに搭載された基板へ光ビームを照射する光ビーム照射装置とを備え、
前記ステージにより前記チャックを移動しながら、前記光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、下地パターンが形成された基板上にパターンを描画する露光装置であって、
基板の下地パターンに設けられた複数の位置検出用マークの画像を取得して、画像信号を出力する複数の画像取得装置と、
各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、位置検出用マークの位置を検出する画像処理装置と、
各画像取得装置を移動する複数の移動機構と、
前記チャックの位置を検出する位置検出手段と、
前記チャックに設けられた位置検出用マークと、
前記ステージ及び前記複数の移動機構を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記ステージにより前記チャックを移動して、各画像取得装置により前記チャックの位置検出用マークの画像を取得させ、前記位置検出手段が検出した前記チャックの位置及び前記画像処理装置が検出した前記チャックの位置検出用マークの位置から、各画像取得装置の位置ずれを検出して、各移動機構により各画像取得装置の位置ずれを修正し、各画像取得装置が基板の下地パターンの位置検出用マークの画像を取得したとき、前記画像処理装置が検出した基板の下地パターンの位置検出用マークの位置に応じて、前記ステージにより前記チャックを移動して、前記光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査する前の基板の位置決めを行うことを特徴とする露光装置。 - 前記位置検出手段は、レーザー光を発生する光源と、前記チャックに取り付けられたミラーと、光源からのレーザー光とミラーにより反射されたレーザー光との干渉を測定する干渉計とを含むレーザー測長系を有することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記チャックの位置検出用マークは、基板の下地パターンの位置検出用マークと同じ高さに設けられたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の露光装置。
- 下地パターンが形成され、下地パターンの上にフォトレジストが塗布された基板をチャックに搭載し、ステージによりチャックを移動しながら、光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、下地パターンが形成された基板上にパターンを描画する露光方法であって、
基板の下地パターンに設けられた複数の位置検出用マークの画像を取得して、画像信号を出力する複数の画像取得装置と、各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、位置検出用マークの位置を検出する画像処理装置と、各画像取得装置を移動する複数の移動機構とを設け、
チャックに位置検出用マークを設け、
チャックの位置を検出しながら、ステージによりチャックを移動して、各画像取得装置によりチャックの位置検出用マークの画像を取得し、
検出したチャックの位置及び画像処理装置が検出したチャックの位置検出用マークの位置から、各画像取得装置の位置ずれを検出して、各移動機構により各画像取得装置の位置ずれを修正し、
各画像取得装置により基板の下地パターンの位置検出用マークの画像を取得し、画像処理装置が検出した基板の下地パターンの位置検出用マークの位置に応じて、ステージによりチャックを移動して、光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査する前の基板の位置決めを行うことを特徴とする露光方法。 - レーザー光を発生する光源と、チャックに取り付けられたミラーと、光源からのレーザー光とミラーにより反射されたレーザー光との干渉を測定する干渉計とを含むレーザー測長系を用いて、チャックの位置を検出することを特徴とする請求項4に記載の露光方法。
- チャックの位置検出用マークを、基板の下地パターンの位置検出用マークと同じ高さに設けることを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の露光方法。
- 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
- 請求項4乃至請求項6のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
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