JP5219982B2 - 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、フォトレジストが塗布された基板へ光ビームを照射し、光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光装置、露光方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に係り、特に複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器を用い、各ミラーの角度を変更して基板へ照射する光ビームを変調する露光装置、露光方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。

表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、従来、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがあった。

近年、フォトレジストが塗布された基板へ光ビームを照射し、光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光装置が開発されている。光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを直接描画するため、高価なマスクが不要となる。また、描画データ及び走査のプログラムを変更することにより、様々な種類の表示用パネル基板に対応することができる。この様な露光装置として、例えば、特許文献１、特許文献２、及び特許文献３に記載のものがある。

特開２００３−３３２２２１号公報 特開２００５−３５３９２７号公報 特開２００７−２１９０１１号公報

光ビームにより基板にパターンを描画する際、光ビームの変調には、ＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｍｉｃｒｏｍｉｒｒｏｒ Ｄｅｖｉｃｅ）が用いられる。ＤＭＤは、光ビームを反射する複数の微小なミラーを直交する二方向に配列して構成され、各ミラーの角度を変更することにより、基板へ照射する光ビームを変調する。現在市販されているＤＭＤは、各ミラーの寸法が１０〜１５μｍ角程度であり、隣接するミラー間には１μｍ程度の隙間が設けられている。ＤＭＤを光ビームによる基板の走査方向と平行に配置すると、各ミラーの配列方向（直交する二方向）が基板の走査方向と平行及び垂直になるので、隣接するミラー間の隙間と基板とが相対的に平行に移動し、この隙間に対応する箇所ではパターンの描画ができない。そのため、ＤＭＤは、特許文献１〜３に記載の様に、光ビームによる基板の走査方向に対して傾けて使用される。

ＤＭＤにより変調された光ビームは、光ビーム照射装置の照射光学系を含むヘッド部から、基板へ照射される。ＤＭＤの各ミラーに対応する各光ビーム照射領域は、ミラーの形状と同じ正方形であり、基板に描画されるパターンは、微小な正方形のドットを並べたものとなる。そのため、基板に描画するパターンのエッジ（縁）が平面形状で見て斜線で構成されているとき、そのエッジでは描画されるパターンが階段状に変化し、エッジが滑らかにならないという問題がある。また、ＤＭＤは、光ビームによる基板の走査方向に対して傾けて使用されるため、ＤＭＤの傾きが大きいと、走査方向に平行な線で構成されたエッジ及び走査方向に垂直な線で構成されたエッジであっても、それらのエッジでは描画されるパターンが階段状に変化し、エッジが滑らかにならないという問題がある。

本発明の課題は、パターンのエッジを滑らかに描画して、描画品質を向上させることである。また、本発明の課題は、高品質な表示用パネル基板を製造することである。

本発明の露光装置は、フォトレジストが塗布された基板を支持するチャックと、複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を含むヘッド部を有する光ビーム照射装置と、チャックと光ビーム照射装置とを相対的に移動する移動手段とを備え、移動手段によりチャックと光ビーム照射装置とを相対的に移動し、光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光装置であって、光ビーム照射装置を、光ビームによる基板の走査方向に複数備え、走査方向の各光ビーム照射装置の空間的光変調器が、走査方向に対して互いに異なる角度に傾いて配置され、基板に描画するパターンのエッジを構成する線の角度に応じて、走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の１つ又は２つ以上が、パターンのエッジの描画に用いられるものである。

また、本発明の露光方法は、フォトレジストが塗布された基板をチャックで支持し、チャックと、複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を含むヘッド部を有する光ビーム照射装置とを、相対的に移動し、光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光方法であって、光ビーム照射装置を、光ビームによる基板の走査方向に複数設け、走査方向の各光ビーム照射装置の空間的光変調器を、走査方向に対して互いに異なる角度に傾けて配置し、基板に描画するパターンのエッジを構成する線の角度に応じて、走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の１つ又は２つ以上を用いて、パターンのエッジを描画するものである。

パターンのエッジを構成する線の角度が、走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の１つの空間的光変調器の角度と同じ又はそれに近いときは、その光ビーム照射装置を用いてパターンのエッジを描画すると、パターンのエッジが滑らかに描画される。また、パターンのエッジを構成する線の角度が、走査方向の複数の光ビーム照射装置のいずれの空間的光変調器の角度とも大きく異なるときは、走査方向の複数の光ビーム照射装置を用いてパターンのエッジを描画すると、互いに異なった傾きの光ビーム照射領域が重なり合って、１つの光ビーム照射装置だけを用いるときよりもパターンのエッジが滑らかに描画される。

さらに、本発明の露光装置は、各光ビーム照射装置を搭載して回転し、各光ビーム照射装置の空間的光変調器を走査方向に対して傾ける複数のステージを備えたものである。また、本発明の露光方法は、各光ビーム照射装置を搭載して回転する複数のステージを設け、各ステージにより各光ビーム照射装置を回転させて、各光ビーム照射装置の空間的光変調器を走査方向に対して傾けるものである。各光ビーム照射装置を搭載して回転する複数のステージを設け、各ステージにより各光ビーム照射装置を回転させることにより、各光ビーム照射装置の空間的光変調器を走査方向に対して所望の角度に傾けることができる。

さらに、本発明の露光装置は、走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の１つの空間的光変調器が、走査方向に対してミラーの１ピッチ分だけ傾いて配置され、走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の他の１つの空間的光変調器が、基板に描画するパターンのエッジを構成する斜線の中で最も多い斜線の角度に傾いて配置されたものである。また、本発明の露光方法は、走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の１つの空間的光変調器を、走査方向に対してミラーの１ピッチ分だけ傾けて配置し、走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の他の１つの空間的光変調器を、基板に描画するパターンのエッジを構成する斜線の中で最も多い斜線の角度に傾けて配置するものである。

走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の１つの空間的光変調器を、走査方向に対してミラーの１ピッチ分だけ傾けて配置すると、直交する二方向の内の走査方向に近い方向に配列された複数のミラーのいずれかが、隣接するミラー間の隙間に対応する箇所をカバーするので、パターンの描画を隙間無く行うことができる。そして、空間的光変調器が走査方向に対して最も平行に近くなるので、この空間的光変調器を用いて、走査方向に平行な線で構成されたエッジ及び走査方向に垂直な線で構成されたエッジを滑らかに描画することができる。一方、走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の他の１つの空間的光変調器を、基板に描画するパターンのエッジを構成する斜線の中で最も多い斜線の角度に傾けて配置すると、この空間的光変調器を用いて、最も多い斜線で構成されたエッジを滑らかに描画することができる。

本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかの露光装置又は露光方法を用いて基板の露光を行うものである。上記の露光装置又は露光方法を用いることにより、パターンのエッジが滑らかに描画され、描画品質が向上するので、高品質な表示用パネル基板が製造される。

本発明の露光装置及び露光方法によれば、光ビーム照射装置を、光ビームによる基板の走査方向に複数設け、走査方向の各光ビーム照射装置の空間的光変調器を、走査方向に対して互いに異なる角度に傾けて配置し、基板に描画するパターンのエッジを構成する線の角度に応じて、走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の１つ又は２つ以上を用いて、パターンのエッジを描画することにより、パターンのエッジを滑らかに描画して、描画品質を向上させることができる。

さらに、本発明の露光装置及び露光方法によれば、各光ビーム照射装置を搭載して回転する複数のステージを設け、各ステージにより各光ビーム照射装置を回転させることにより、各光ビーム照射装置の空間的光変調器を走査方向に対して所望の角度に傾けることができる。

さらに、本発明の露光装置及び露光方法によれば、走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の１つの空間的光変調器を、走査方向に対してミラーの１ピッチ分だけ傾けて配置し、走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の他の１つの空間的光変調器を、基板に描画するパターンのエッジを構成する斜線の中で最も多い斜線の角度に傾けて配置することにより、走査方向に平行な線で構成されたエッジ及び走査方向に垂直な線で構成されたエッジ、並びに最も多い斜線で構成されたエッジを滑らかに描画することができる。

本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、パターンのエッジを滑らかに描画して、描画品質を向上させることができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。

本発明の一実施の形態による露光装置の概略構成を示す図である。 本発明の一実施の形態による露光装置の側面図である。 本発明の一実施の形態による露光装置の正面図である。 光ビーム照射装置の概略構成を示す図である。 ゲートに搭載された光ビーム照射装置の上面図である。 ゲートに搭載された光ビーム照射装置の側面図である。 ＤＭＤの走査方向に対する傾きを説明する図である。 レーザー測長系の動作を説明する図である。 描画制御部の概略構成を示す図である。 光ビームにより描画するパターンの一例を示す図である。 光ビームにより描画するパターンの一例を示す図である。 光ビームにより描画するパターンの一例を示す図である。 光ビームにより描画するパターンの一例を示す図である。 光ビームにより描画するパターンの一例を示す図である。 光ビームによる基板の走査を説明する図である。 光ビームによる基板の走査を説明する図である。 光ビームによる基板の走査を説明する図である。 光ビームによる基板の走査を説明する図である。 液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。 液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。

図１は、本発明の一実施の形態による露光装置の概略構成を示す図である。また、図２は本発明の一実施の形態による露光装置の側面図、図３は本発明の一実施の形態による露光装置の正面図である。露光装置は、ベース３、Ｘガイド４、Ｘステージ５、Ｙガイド６，１６、Ｙステージ７，１７、θステージ８，１８、チャック１０、ゲート１１、光ビーム照射装置２０、リニアスケール３１，３３、エンコーダ３２，３４、レーザー測長系、レーザー測長系制御装置４０、ステージ駆動回路６０、及び主制御装置７０を含んで構成されている。なお、図２及び図３では、レーザー測長系のレーザー光源４１、レーザー測長系制御装置４０、ステージ駆動回路６０、及び主制御装置７０が省略されている。露光装置は、これらの他に、基板１をチャック１０へ搬入し、また基板１をチャック１０から搬出する基板搬送ロボット、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。

なお、以下に説明する実施の形態におけるＸＹ方向は例示であって、Ｘ方向とＹ方向とを入れ替えてもよい。

図１及び図２において、チャック１０は、基板１の受け渡しを行う受け渡し位置にある。受け渡し位置において、図示しない基板搬送ロボットにより基板１がチャック１０へ搬入され、また図示しない基板搬送ロボットにより基板１がチャック１０から搬出される。チャック１０は、基板１の裏面を真空吸着して支持する。基板１の表面には、フォトレジストが塗布されている。

基板１の露光を行う露光位置の上空に、ベース３をまたいでゲート１１が設けられている。ゲート１１には、複数の光ビーム照射装置２０が搭載されている。図４は、光ビーム照射装置の概略構成を示す図である。光ビーム照射装置２０は、光ファイバー２２、レンズ２３、ミラー２４、ＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｍｉｃｒｏｍｉｒｒｏｒ Ｄｅｖｉｃｅ）２５、投影レンズ２６、及びＤＭＤ駆動回路２７を含んで構成されている。光ファイバー２２は、レーザー光源ユニット２１から発生された紫外光の光ビームを、光ビーム照射装置２０内へ導入する。光ファイバー２２から射出された光ビームは、レンズ２３及びミラー２４を介して、ＤＭＤ２５へ照射される。ＤＭＤ２５は、光ビームを反射する複数の微小なミラーを直交する二方向に配列して構成された空間的光変調器であり、各ミラーの角度を変更して光ビームを変調する。ＤＭＤ２５により変調された光ビームは、投影レンズ２６を含むヘッド部２０ａから照射される。ＤＭＤ駆動回路２７は、主制御装置７０から供給された描画データに基づいて、ＤＭＤ２５の各ミラーの角度を変更する。

図５は、ゲートに搭載された光ビーム照射装置の上面図である。また、図６は、ゲートに搭載された光ビーム照射装置の側面図である。なお、本実施の形態では、光ビーム照射装置２０からの光ビームによる基板１の走査方向（Ｘ方向）に２つの光ビーム照射装置２０が設けられているが、走査方向に３つ以上の光ビーム照射装置２０を設けてもよい。また、本実施の形態では、走査方向に２つ設けられた光ビーム照射装置２０を１組としたとき、走査方向と直交する方向（Ｙ方向）に８組の光ビーム照射装置２０が設けられているが、走査方向と直交する方向に７組以下又は９組以上の光ビーム照射装置を設けてもよい。

図５において、ゲート１１の上面には、Ｙ方向へ伸びる２対のＹガイド１６が設けられている。各Ｙガイド１６には、Ｙステージ１７がそれぞれ搭載されており、各Ｙステージ１７は、各Ｙガイド１６に沿ってＹ方向へ移動する。各Ｙステージ１７には、ボールねじ及びモータや、リニアモータ等の図示しない駆動機構が設けられており、各駆動機構は、図１のステージ駆動回路６０により駆動される。図６において、各Ｙステージ１７には、図面奥行き方向に８つのθステージ１８がそれぞれ搭載されており、各θステージ１８には、光ビーム照射装置２０がそれぞれ搭載されている。各θステージ１８は、後述するモータ及びエンコーダを備え、主制御装置７０の制御により、図５に示すθ方向へ回転して、各光ビーム照射装置２０をθ方向へ回転させる。

図５において、ゲート１１の上面の中央付近には、開口１１ａが形成されている。図５及び図６において、図面左側に配置された８つの光ビーム照射装置２０の各ヘッド部２０ａは、各光ビーム照射装置２０の本体の底面から下方へ伸びて、ゲート１１の外側にそれぞれ位置している。一方、図面右側に配置された８つの光ビーム照射装置２０の各ヘッド部２０ａは、各光ビーム照射装置２０の本体の底面から下方へ伸びて、開口１１ａ内にそれぞれ挿入されている。開口１１ａは、図面右側に配置された８つの光ビーム照射装置２０を回転させたとき、それらのヘッド部２０ａがゲート１１に接触しない広さとなっている。

図１の主制御装置７０は、図５の図面左側に配置された８つの光ビーム照射装置２０を搭載した各θステージ１８をそれぞれ制御して、各θステージ１８に搭載された光ビーム照射装置２０を同じ角度だけ回転させる。また、主制御装置７０は、図５の図面右側に配置された８つの光ビーム照射装置２０を搭載した各θステージ１８をそれぞれ制御して、各θステージ１８に搭載された光ビーム照射装置２０を同じ角度だけ回転させる。このとき、主制御装置７０は、図５の図面左側に配置された８つの光ビーム照射装置２０と、図５の図面右側に配置された８つの光ビーム照射装置２０とを、互いに異なる角度回転させる。そして、主制御装置７０は、図５の図面左側に配置された８つの光ビーム照射装置２０の各ヘッド部２０ａの中心と、図５の図面右側に配置された８つの光ビーム照射装置２０の各ヘッド部２０ａの中心とがＹ方向においてそれぞれ一致する様に、ステージ駆動回路６０により一方又は両方のＹステージ１７を移動させる。

各θステージ１８により各光ビーム照射装置２０を回転させることにより、各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ２５が、走査方向に対して傾いて配置される。そして、走査方向に複数設けられた光ビーム照射装置２０を互いに異なる角度回転させることにより、走査方向の各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ２５が、走査方向に対して互いに異なる角度に傾いて配置される。

図７は、ＤＭＤの走査方向に対する傾きを説明する図である。図７（ａ）は、図５の図面左側に配置された各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ２５を示し、図７（ｂ）は、図５の図面右側に配置された各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ２５を示す。ＤＭＤ２５のミラー部２５ａには、例えば、一辺が１０〜１５μｍの正方形のミラーが、ＤＭＤ２５の長辺方向に１０２４個、ＤＭＤ２５の短辺方向に２５６個配列されている。一例として、ミラーの寸法が１０μｍ、隣接するミラー間の隙間が１μｍのとき、ミラーのピッチ（各ミラーの中心間の距離）は、１１μｍとなる。図７（ａ）において、図５の図面左側に配置された各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ２５は、走査方向に対して角度θ１だけ傾いて配置されている。一方、図７（ｂ）において、図５の図面右側に配置された各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ２５は、走査方向に対して角度θ２（θ２＞θ１）だけ傾いて配置されている。

図２及び図３において、チャック１０は、θステージ８に搭載されており、θステージ８の下にはＹステージ７及びＸステージ５が設けられている。Ｘステージ５は、ベース３に設けられたＸガイド４に搭載され、Ｘガイド４に沿ってＸ方向へ移動する。Ｙステージ７は、Ｘステージ５に設けられたＹガイド６に搭載され、Ｙガイド６に沿ってＹ方向へ移動する。θステージ８は、Ｙステージ７に搭載され、θ方向へ回転する。Ｘステージ５、Ｙステージ７、及びθステージ８には、ボールねじ及びモータや、リニアモータ等の図示しない駆動機構が設けられており、各駆動機構は、図１のステージ駆動回路６０により駆動される。

θステージ８のθ方向への回転により、チャック１０に搭載された基板１は、直交する二辺がＸ方向及びＹ方向へ向く様に回転される。Ｘステージ５のＸ方向への移動により、チャック１０は、受け渡し位置と露光位置との間を移動される。露光位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動により、各光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームが、基板１をＸ方向へ走査する。また、Ｙステージ７のＹ方向への移動により、各光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームによる基板１の走査領域が、Ｙ方向へ移動される。図１において、主制御装置７０は、ステージ駆動回路６０を制御して、θステージ８のθ方向へ回転、Ｘステージ５のＸ方向への移動、及びＹステージ７のＹ方向への移動を行う。

なお、本実施の形態では、Ｘステージ５によりチャック１０をＸ方向へ移動することによって、光ビーム照射装置２０からの光ビームによる基板１の走査を行っているが、光ビーム照射装置２０を移動することにより、光ビーム照射装置２０からの光ビームによる基板１の走査を行ってもよい。また、本実施の形態では、Ｙステージ７によりチャック１０をＹ方向へ移動することによって、光ビーム照射装置２０からの光ビームによる基板１の走査領域を変更しているが、光ビーム照射装置２０を移動することにより、光ビーム照射装置２０からの光ビームによる基板１の走査領域を変更してもよい。

図１及び図２において、ベース３には、Ｘ方向へ伸びるリニアスケール３１が設置されている。リニアスケール３１には、Ｘステージ５のＸ方向への移動量を検出するための目盛が付けられている。また、Ｘステージ５には、Ｙ方向へ伸びるリニアスケール３３が設置されている。リニアスケール３３には、Ｙステージ７のＹ方向への移動量を検出するための目盛が付けられている。

図１及び図３において、Ｘステージ５の一側面には、リニアスケール３１に対向して、エンコーダ３２が取り付けられている。エンコーダ３２は、リニアスケール３１の目盛を検出して、パルス信号を主制御装置７０へ出力する。また、図１及び図２において、Ｙステージ７の一側面には、リニアスケール３３に対向して、エンコーダ３４が取り付けられている。エンコーダ３４は、リニアスケール３３の目盛を検出して、パルス信号を主制御装置７０へ出力する。主制御装置７０は、エンコーダ３２のパルス信号をカウントして、Ｘステージ５のＸ方向への移動量を検出し、エンコーダ３４のパルス信号をカウントして、Ｙステージ７のＹ方向への移動量を検出する。

図８は、レーザー測長系の動作を説明する図である。なお、図８においては、図１に示したゲート１１、及び光ビーム照射装置２０が省略されている。レーザー測長系は、公知のレーザー干渉式の測長系であって、レーザー光源４１、レーザー干渉計４２，４４、及びバーミラー４３，４５を含んで構成されている。バーミラー４３は、チャック１０のＹ方向へ伸びる一側面に取り付けられている。また、バーミラー４５は、チャック１０のＸ方向へ伸びる一側面に取り付けられている。

レーザー干渉計４２は、レーザー光源４１からのレーザー光をバーミラー４３へ照射し、バーミラー４３により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光源４１からのレーザー光とバーミラー４３により反射されたレーザー光との干渉を測定する。この測定は、Ｙ方向の２箇所で行う。レーザー測長系制御装置４０は、主制御装置７０の制御により、レーザー干渉計４２の測定結果から、Ｘステージ５により移動されるチャック１０のＸ方向の位置及び回転を検出する。

一方、レーザー干渉計４４は、レーザー光源４１からのレーザー光をバーミラー４５へ照射し、バーミラー４５により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光源４１からのレーザー光とバーミラー４５により反射されたレーザー光との干渉を測定する。レーザー測長系制御装置４０は、主制御装置７０の制御により、レーザー干渉計４４の測定結果から、Ｘステージ５により移動されるチャック１０のＹ方向の位置を検出する。

図４において、主制御装置７０は、光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ描画データを供給する描画制御部を有する。図９は、描画制御部の概略構成を示す図である。描画制御部７１は、メモリ７２，７６、バンド幅設定部７３、中心点座標決定部７４、座標決定部７５、及び描画データ作成部７７を含んで構成されている。

各θステージ１８は、モータ１８ａ及びエンコーダ１８ｂをそれぞれ備えている。モータ１８ａは、主制御装置７０により駆動され、θステージ１８をθ方向へ回転させる。エンコーダ１８ｂは、モータ１８ａの回転量を検出して、モータ１８ａの回転量に応じたパルス信号を主制御装置７０へ出力する。なお、図６の図面奥行き方向に８つのθステージ１８がそれぞれ設けられているが、図９では、８つのθステージ１８をそれぞれまとめて１つのθステージ１８として示している。

また、θステージ１８は、モータを用いずに、手動で回転させる構成としてもよい。その場合、図９のエンコーダ１８ｂの代わりに、θステージ１８の回転量を示すデータを入力する入力装置が設けられる。

メモリ７６には、設計値マップが格納されている。設計値マップには、描画データがＸＹ座標で示されている。描画データ作成部７７は、各θステージ１８のエンコーダ１８ｂからのパルス信号をカウントして、各θステージ１８の回転量を検出し、各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ２５の走査方向に対する傾きを検出する。そして、描画データ作成部７７は、検出した傾きに基づき、メモリ７６に格納された設計値マップから、各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ供給する描画データを作成する。メモリ７２は、描画データ作成部７７が作成した描画データを、そのＸＹ座標をアドレスとして記憶する。メモリ７２には、図５の図面左側に配置された各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ供給する描画データＡを記憶する領域と、図５の図面右側に配置された各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ供給する描画データＢを記憶する領域とが設けられている。

バンド幅設定部７３は、メモリ７２から読み出す描画データのＹ座標の範囲を決定することにより、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射される光ビームのＹ方向のバンド幅を設定する。

レーザー測長系制御装置４０は、露光位置における基板１の露光を開始する前のチャック１０のＸＹ方向の位置を検出する。中心点座標決定部７４は、レーザー測長系制御装置４０が検出したチャック１０のＸＹ方向の位置から、基板１の露光を開始する前のチャック１０の中心点のＸＹ座標を決定する。図１において、光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１の走査を行う際、主制御装置７０は、ステージ駆動回路６０を制御して、Ｘステージ５によりチャック１０をＸ方向へ移動させる。基板１の走査領域を移動する際、主制御装置７０は、ステージ駆動回路６０を制御して、Ｙステージ７によりチャック１０をＹ方向へ移動させる。図９において、中心点座標決定部７４は、エンコーダ３２，３４からのパルス信号をカウントして、Ｘステージ５のＸ方向への移動量及びＹステージ７のＹ方向への移動量を検出し、チャック１０の中心点のＸＹ座標を決定する。

座標決定部７５は、中心点座標決定部７４が決定したチャック１０の中心点のＸＹ座標に基づき、各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ供給する描画データのＸＹ座標を決定する。メモリ７２は、座標決定部７５が決定したＸＹ座標をアドレスとして入力し、入力したＸＹ座標のアドレスに記憶された描画データを、各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ出力する。

以下、本発明の一実施の形態による露光方法について説明する。本実施の形態では、図７（ａ）において、図５の図面左側に配置された各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ２５を、走査方向に対してミラーの１ピッチ分だけ傾けて配置する。また、本実施の形態では、図７（ｂ）において、図５の図面右側に配置された各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ２５を、基板１に描画するパターンのエッジを構成する斜線の中で最も多い斜線の角度に傾けて配置する。

図１０〜図１４は、光ビームにより描画するパターンの一例を示す図である。図１０〜図１４において、灰色で塗りつぶした正方形の部分は、ＤＭＤ２５の各ミラーに対応する各光ビーム照射領域２６ａを示している。図１０は、走査方向に平行な線で構成されたエッジ及び走査方向に垂直な線で構成されたエッジを含むパターン２ａの例を示す。本実施の形態では、図５の図面左側に配置された光ビーム照射装置２０を用いて、走査方向に平行な線で構成されたエッジ及び走査方向に垂直な線で構成されたエッジを含むパターン２ａを描画する。図５の図面左側に配置された光ビーム照射装置２０のＤＭＤ２５を、走査方向に対してミラーの１ピッチ分だけ傾けて配置すると、直交する二方向の内の走査方向に近い方向に配列された複数のミラーのいずれかが、隣接するミラー間の隙間に対応する箇所をカバーするので、パターンの描画を隙間無く行うことができる。そして、ＤＭＤ２５が走査方向に対して最も平行に近くなるので、このＤＭＤ２５を用いて、走査方向に平行な線で構成されたエッジ及び走査方向に垂直な線で構成されたエッジを滑らかに描画することができる。

なお、図１０に示した例では、図５の図面左側に配置された光ビーム照射装置２０を用いてパターン２ａ全体を描画しているが、図５の図面左側に配置された光ビーム照射装置２０を用いてパターン２ａのエッジのみを描画し、図５の図面右側に配置された光ビーム照射装置を用いてパターン２ａの残りの部分を描画してもよい。

また、描画するパターンのエッジが、走査方向に平行な線及び走査方向に垂直な線で構成されている場合に限らず、それらに近い角度の斜線で構成されている場合も、図５の図面左側に配置された光ビーム照射装置２０を用いてパターンのエッジを描画すると、図５の図面右側に配置された光ビーム照射装置２０を用いる場合に比べて、パターンのエッジを滑らかに描画することができる。

図１１は、基板１に描画するパターンのエッジを構成する斜線の中で最も多い斜線で構成されたエッジを含むパターン２ｂの例である。本実施の形態では、図５の図面右側に配置された光ビーム照射装置２０を用いて、基板１に描画するパターンのエッジを構成する斜線の中で最も多い斜線で構成されたエッジを含むパターン２ｂを描画する。図５の図面右側に配置された光ビーム照射装置２０のＤＭＤ２５を、基板１に描画するパターンのエッジを構成する斜線の中で最も多い斜線の角度に傾けて配置すると、このＤＭＤ２５を用いて、最も多い斜線で構成されたエッジを滑らかに描画することができる。

なお、図１１に示した例では、図５の図面右側に配置された光ビーム照射装置２０を用いてパターン２ｂ全体を描画しているが、図５の図面右側に配置された光ビーム照射装置２０を用いてパターン２ｂのエッジのみを描画し、図５の図面左側に配置された光ビーム照射装置を用いてパターン２ｂの残りの部分を描画してもよい。

また、描画するパターンのエッジが、最も多い斜線で構成されている場合に限らず、それに近い角度の斜線で構成されている場合も、図５の図面右側に配置された光ビーム照射装置２０を用いてパターンのエッジを描画すると、図５の図面左側に配置された光ビーム照射装置２０を用いる場合に比べて、パターンのエッジを滑らかに描画することができる。

図１２〜図１４は、基板１に描画するパターンのエッジを構成する斜線の中で最も多い斜線の角度と大きく異なる角度の斜線で構成されたエッジを含むパターン２ｃの例である。本実施の形態では、図５の図面左側に配置された光ビーム照射装置２０及び図５の図面右側に配置された光ビーム照射装置２０の両方を用いて、基板１に描画するパターンのエッジを構成する斜線の中で最も多い斜線の角度と大きく異なる角度の斜線で構成されたエッジを含むパターン２ｃを描画する。図１２の光ビーム照射領域２６ａは、図５の図面左側に配置された光ビーム照射装置２０を用いて描画する部分を示している。また、図１３の光ビーム照射領域２６ａは、図５の図面右側に配置された光ビーム照射装置２０を用いて描画する部分を示している。そして、図１４は、両者を重ね合わせて描画したパターンを示している。パターンのエッジを構成する斜線の角度が、基板１に描画するパターンのエッジを構成する斜線の中で最も多い斜線の角度と大きく異なるときは、図５の図面左側に配置された光ビーム照射装置２０及び図５の図面右側に配置された光ビーム照射装置２０の両方を用いてパターンのエッジを描画すると、図１４に示す様に、互いに異なった傾きの光ビーム照射領域２６ａが重なり合って、一方の光ビーム照射装置２０だけを用いるときよりもパターンのエッジが滑らかに描画される。

なお、図１２〜図１４に示した例では、図５の図面左側に配置された光ビーム照射装置２０及び図５の図面右側に配置された光ビーム照射装置２０の両方を用いてパターン２ｃ全体を描画しているが、図５の図面左側に配置された光ビーム照射装置２０及び図５の図面右側に配置された光ビーム照射装置２０の両方を用いてパターン２ｃのエッジのみを描画し、一方の光ビーム照射装置を用いてパターン２ｃの残りの部分を描画してもよい。

図１５〜図１８は、光ビームによる基板の走査を説明する図である。図１５〜図１８は、走査方向に２つ設けられた光ビーム照射装置２０を１組としたとき、８組の光ビーム照射装置２０を用い、基板１のＸ方向の走査を４回行って、基板１全体を走査する例を示している。図１５〜図１８においては、各光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａが破線で示されている。各光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームは、Ｙ方向にバンド幅Ｗを有し、Ｘステージ５のＸ方向への移動によって、基板１を矢印で示す方向へ走査する。

図１５は、１回目の走査を示し、Ｘ方向への１回目の走査により、図１５に灰色で示す走査領域でパターンの描画が行われる。１回目の走査が終了すると、Ｙステージ７のＹ方向への移動により、基板１がＹ方向へバンド幅Ｗと同じ距離だけ移動される。図１６は、２回目の走査を示し、Ｘ方向への２回目の走査により、図１６に灰色で示す走査領域でパターンの描画が行われる。２回目の走査が終了すると、Ｙステージ７のＹ方向への移動により、基板１がＹ方向へバンド幅Ｗと同じ距離だけ移動される。図１７は、３回目の走査を示し、Ｘ方向への３回目の走査により、図１７に灰色で示す走査領域でパターンの描画が行われる。３回目の走査が終了すると、Ｙステージ７のＹ方向への移動により、基板１がＹ方向へバンド幅Ｗと同じ距離だけ移動される。図１８は、４回目の走査を示し、Ｘ方向への４回目の走査により、図１８に灰色で示す走査領域でパターンの描画が行われ、基板１全体の走査が終了する。

複数組の光ビーム照射装置２０からの複数組の光ビームにより基板１の走査を並行して行うことにより、基板１全体の走査に掛かる時間を短くすることができ、タクトタイムを短縮することができる。

なお、図１５〜図１８では、基板１のＸ方向の走査を４回行って、基板１全体を走査する例を示したが、走査の回数はこれに限らず、基板１のＸ方向の走査を３回以下又は５回以上行って、基板１全体を走査してもよい。

以上説明した実施の形態によれば、光ビーム照射装置２０を、光ビームによる基板１の走査方向に複数設け、走査方向の各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ２５を、走査方向に対して互いに異なる角度に傾けて配置し、基板１に描画するパターンのエッジを構成する線の角度に応じて、走査方向の複数の光ビーム照射装置２０の内の１つ又は２つ以上を用いて、パターンのエッジを描画することにより、パターンのエッジを滑らかに描画して、描画品質を向上させることができる。

さらに、各光ビーム照射装置２０を搭載して回転する複数のθステージ１８を設け、各θステージ１８により各光ビーム照射装置２０を回転させることにより、各光ビーム照射装置２０のＤＭＤ２５を走査方向に対して所望の角度に傾けることができる。

さらに、走査方向の複数の光ビーム照射装置２０の内の１つのＤＭＤ２５を、走査方向に対してミラーの１ピッチ分だけ傾けて配置し、走査方向の複数の光ビーム照射装置２０の内の他の１つのＤＭＤ２５を、基板１に描画するパターンのエッジを構成する斜線の中で最も多い斜線の角度に傾けて配置することにより、走査方向に平行な線で構成されたエッジ及び走査方向に垂直な線で構成されたエッジ、並びに最も多い斜線で構成されたエッジを滑らかに描画することができる。

本発明の露光装置又は露光方法を用いて基板の露光を行うことにより、パターンのエッジを滑らかに描画して、描画品質を向上させることができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。

例えば、図１９は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等によりフォトレジストを塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、露光装置を用いて、フォトレジスト膜にパターンを形成する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にＴＦＴアレイが形成される。

また、図２０は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法や顔料分散法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。

図１９に示したＴＦＴ基板の製造工程では、露光工程（ステップ１０３）において、図２０に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の露光処理において、本発明の露光装置又は露光方法を適用することができる。

１ 基板
２ａ，２ｂ，２ｃ パターン
３ ベース
４ Ｘガイド
５ Ｘステージ
６，１６ Ｙガイド
７，１７ Ｙステージ
８，１８ θステージ
１０ チャック
１１ ゲート
１１ａ 開口
２０ 光ビーム照射装置
２０ａ ヘッド部
２１ レーザー光源ユニット
２２ 光ファイバー
２３ レンズ
２４ ミラー
２５ ＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｍｉｃｒｏｍｉｒｒｏｒ Ｄｅｖｉｃｅ）
２５ａ ミラー部
２６ 投影レンズ
２６ａ 光ビーム照射領域
２７ ＤＭＤ駆動回路
３１，３３ リニアスケール
３２，３４ エンコーダ
４０ レーザー測長系制御装置
４１ レーザー光源
４２，４４ レーザー干渉計
４３，４５ バーミラー
６０ ステージ駆動回路
７０ 主制御装置
７１ 描画制御部
７２，７６ メモリ
７３ バンド幅設定部
７４ 中心点座標決定部
７５ 座標決定部
７７ 描画データ作成部

Claims (8)

1. フォトレジストが塗布された基板を支持するチャックと、
   複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を含むヘッド部を有する光ビーム照射装置と、
   前記チャックと前記光ビーム照射装置とを相対的に移動する移動手段とを備え、
   前記移動手段により前記チャックと前記光ビーム照射装置とを相対的に移動し、前記光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光装置であって、
   前記光ビーム照射装置を、光ビームによる基板の走査方向に複数備え、
   走査方向の各光ビーム照射装置の空間的光変調器は、走査方向に対して互いに異なる角度に傾いて配置され、
   基板に描画するパターンのエッジを構成する線の角度に応じて、走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の１つ又は２つ以上が、パターンのエッジの描画に用いられることを特徴とする露光装置。
2. 各光ビーム照射装置を搭載して回転し、各光ビーム照射装置の空間的光変調器を走査方向に対して傾ける複数のステージを備えたことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の１つの空間的光変調器は、走査方向に対してミラーの１ピッチ分だけ傾いて配置され、
   走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の他の１つの空間的光変調器は、基板に描画するパターンのエッジを構成する斜線の中で最も多い斜線の角度に傾いて配置されたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の露光装置。
4. フォトレジストが塗布された基板をチャックで支持し、
   チャックと、複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を含むヘッド部を有する光ビーム照射装置とを、相対的に移動し、
   光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光方法であって、
   光ビーム照射装置を、光ビームによる基板の走査方向に複数設け、
   走査方向の各光ビーム照射装置の空間的光変調器を、走査方向に対して互いに異なる角度に傾けて配置し、
   基板に描画するパターンのエッジを構成する線の角度に応じて、走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の１つ又は２つ以上を用いて、パターンのエッジを描画することを特徴とする露光方法。
5. 各光ビーム照射装置を搭載して回転する複数のステージを設け、
   各ステージにより各光ビーム照射装置を回転させて、各光ビーム照射装置の空間的光変調器を走査方向に対して傾けることを特徴とする請求項４に記載の露光方法。
6. 走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の１つの空間的光変調器を、走査方向に対してミラーの１ピッチ分だけ傾けて配置し、
   走査方向の複数の光ビーム照射装置の内の他の１つの空間的光変調器を、基板に描画するパターンのエッジを構成する斜線の中で最も多い斜線の角度に傾けて配置することを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の露光方法。
7. 請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
8. 請求項４乃至請求項６のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。

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