JP5349163B2 - 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents
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Description
3 ベース
4 Xガイド
5 Xステージ
6,16 Yガイド
7,17 Yステージ
8 θステージ
10 チャック
11 ゲート
12 基板変位検出用マーク
20 光ビーム照射装置
20a ヘッド部
21 レーザー光源ユニット
22 光ファイバー
23 レンズ
24 ミラー
25 DMD(Digital Micromirror Device)
26 投影レンズ
27 DMD駆動回路
31,33 リニアスケール
32,34 エンコーダ
40 レーザー測長系制御装置
41 レーザー光源
42,44 レーザー干渉計
43,45 バーミラー
50 CCDカメラ
51 基板変位検出回路
60 ステージ駆動回路
70 主制御装置
71 描画制御部
72 メモリ
73 バンド幅設定部
74 中心点座標決定部
75 座標決定部
Claims (4)
- フォトレジストが塗布された基板を搭載するチャックと、
前記チャックを移動するステージと、
前記チャックに搭載された基板へ光ビームを照射する光ビーム照射装置とを備え、
前記ステージにより前記チャックを移動しながら、前記光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査し、前記ステージにより前記チャックを基板の走査方向と直交する方向へ移動して、基板の走査領域を変更し、光ビームによる基板の走査を複数回行って、基板にパターンを描画する露光装置であって、
前記ステージにより移動される前記チャックの上方に、基板の走査領域の幅だけ基板の走査方向と直交する方向に互いにずらして設けられ、基板の表面に基板の走査方向に形成された基板変位検出用マークの画像を取得して、画像信号を出力する複数の画像取得装置と、前記複数の画像取得装置を基板の走査方向と直交する方向へ移動して、前記複数の画像取得装置の内の1つを、基板の表面に形成された基板変位検出用マークの上方へ移動する移動機構と、各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、基板の走査方向と直交する方向の変位を検出する検出回路とを有し、前記チャックに搭載された基板の走査方向と直交する方向の変位を検出する検出手段と、
前記ステージにより前記チャックを移動させながら、前記検出手段の検出結果に基づき、前記ステージにより前記チャックを基板の変位方向と逆方向へ基板の変位量と同じ量だけ移動させる制御手段とを備えたことを特徴とする露光装置。 - フォトレジストが塗布された基板をチャックに搭載し、ステージによりチャックを移動しながら、光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査し、ステージによりチャックを基板の走査方向と直交する方向へ移動して、基板の走査領域を変更し、光ビームによる基板の走査を複数回行って、基板にパターンを描画する露光方法であって、
複数の画像取得装置を、ステージにより移動されるチャックの上方に、基板の走査領域の幅だけ基板の走査方向と直交する方向に互いにずらして設け、
複数の画像取得装置を基板の走査方向と直交する方向へ移動して、複数の画像取得装置の内の1つを、基板の表面に基板の走査方向に形成された基板変位検出用マークの上方へ移動し、
ステージによりチャックを移動しながら、ステージにより移動されるチャックの上方に設けた複数の画像取得装置の内の1つにより、基板の表面に形成された基板変位検出用マークの画像を取得し、
画像取得装置が出力した画像信号を処理して、基板の走査方向と直交する方向の変位を検出し、検出結果に基づき、ステージによりチャックを基板の変位方向と逆方向へ基板の変位量と同じ量だけ移動することを特徴とする露光方法。 - 請求項1に記載の露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
- 請求項2に記載の露光方法を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
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