JP5501273B2 - 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents
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Description
3 ベース
4 Xガイド
5 Xステージ
6 Yガイド
7 Yステージ
8 θステージ
10 チャック
11 ゲート
20 光ビーム照射装置
20a ヘッド部
21 レーザー光源ユニット
22 光ファイバー
23 レンズ
24 ミラー
25 DMD(Digital Micromirror Device)
26 投影レンズ
27 DMD駆動回路
31,33 リニアスケール
32,34 エンコーダ
40 レーザー測長系制御装置
41 レーザー光源
42,44 レーザー干渉計
43,45 バーミラー
60 ステージ駆動回路
70 主制御装置
71 描画制御部
72 メモリ
73 バンド幅設定部
74 中心点座標決定部
75 座標決定部
410 露光間隔タイミング生成回路
411,421,431,441 露光間隔レジスタ
412,432,442,452 演算器
413 カウンタ
414,435,445 比較器
420 基準座標演算回路
422,433,443,453 加算器
430 エンコーダ座標演算回路
434 エンコーダパルス間隔レジスタ
440 描画座標演算回路
444 描画解像度レジスタ
450 描画座標生成回路
451 座標移動間隔レジスタ
Claims (8)
- フォトレジストが塗布された基板を支持するチャックと、
光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置と、
前記チャックと前記光ビーム照射装置とを相対的に移動する移動手段とを備え、
前記移動手段により前記チャックと前記光ビーム照射装置とを相対的に移動し、前記光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光装置であって、
前記移動手段の移動量に応じたパルス信号を出力するエンコーダと、
前記エンコーダのパルス信号から前記移動手段の移動量を検出して、前記チャックと前記光ビーム照射装置との相対的な位置座標を決定し、決定した位置座標に応じた描画データを前記光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画制御手段とを備え、
前記描画制御手段は、描画データの解像度よりも細かな解像度で基準座標を設定し、目標とする基準露光間隔に対して、描画データの解像度で決まる露光間隔及び前記エンコーダのパルス信号の周期で決まる露光間隔を、基準座標上で演算して、前記チャックと前記光ビーム照射装置との相対的な位置座標を決定する座標決定手段を有することを特徴とする露光装置。 - 前記座標決定手段は、目標とする基準露光間隔に応じ、基準座標の解像度を変更して、基準露光間隔と演算上の露光間隔とのずれを小さくすることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記座標決定手段は、
基準座標上で、目標とする基準露光間隔を積算して、基準積算移動量を算出する第1の演算回路と、
基準座標上で、前記移動手段の積算移動量を算出し、算出した積算移動量と基準積算移動量との差が前記エンコーダのパルス信号の間隔より小さくなる様に、エンコーダのパルス信号の周期で決まる露光間隔を補正する第2の演算回路と、
基準座標上で、前記移動手段の積算移動量を算出し、算出した積算移動量と基準積算移動量との差が描画データの解像度より小さくなる様に、描画データの解像度で決まる露光間隔を補正する第3の演算回路とを有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の露光装置。 - フォトレジストが塗布された基板をチャックで支持し、
チャックと、光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置とを、相対的に移動し、
光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光方法であって、
チャックと光ビーム照射装置との相対的な移動量に応じたパルス信号を出力するエンコーダを設け、
エンコーダのパルス信号からチャックと光ビーム照射装置との相対的な移動量を検出し、
描画データの解像度よりも細かな解像度で基準座標を設定し、目標とする基準露光間隔に対して、描画データの解像度で決まる露光間隔及びエンコーダのパルス信号の周期で決まる露光間隔を、基準座標上で演算して、チャックと光ビーム照射装置との相対的な位置座標を決定し、
決定した位置座標に応じた描画データを光ビーム照射装置の駆動回路へ供給することを特徴とする露光方法。 - 目標とする基準露光間隔に応じ、基準座標の解像度を変更して、基準露光間隔と演算上の露光間隔とのずれを小さくすることを特徴とする請求項4に記載の露光方法。
- 基準座標上で、目標とする基準露光間隔を積算して、基準積算移動量を算出し、
基準座標上で、チャックと光ビーム照射装置との相対的な積算移動量を算出して、算出した積算移動量と基準積算移動量との差がエンコーダのパルス信号の間隔より小さくなる様に、エンコーダのパルス信号の周期で決まる露光間隔を補正し、
基準座標上で、チャックと光ビーム照射装置との相対的な積算移動量を算出して、算出した積算移動量と基準積算移動量との差が描画データの解像度より小さくなる様に、描画データの解像度で決まる露光間隔を補正することを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の露光方法。 - 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
- 請求項4乃至請求項6のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
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JP2011050028A JP5501273B2 (ja) | 2011-03-08 | 2011-03-08 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
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