JP5349093B2 - プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板位置決め方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents
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Description
2 マスク
10a,10b チャック
11 ベース
12 台
13 Xガイド
14 Xステージ
15 Yガイド
16 Yステージ
17 θステージ
19 チャック支持台
20 マスクホルダ
30 レーザー測長系制御装置
31 レーザー光源
32a,32b,33 レーザー干渉計
34a,34b,35 バーミラー
36 アーム
40 レーザー変位計制御装置
42,43,44 レーザー変位計
45,46,47 バーミラー
48 アーム
50 ミラーユニット
51 モータ
52 昇降ガイド
53,54 ミラー
70 主制御装置
71,72 入出力インタフェース回路
80a,80b ステージ駆動回路
Claims (8)
- 基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、
X方向(又はY方向)へ移動する第1のステージ、第1のステージに搭載されY方向(又はX方向)へ移動する第2のステージ、及び第2のステージに搭載されθ方向へ回転する第3のステージを有し、前記チャックを搭載して、前記チャックに支持された基板の位置決めを行う移動ステージと、
前記第2のステージに設けられて前記チャックと共にXY方向へ移動し、前記チャックの変位を当該チャックのXY方向への移動による変動なく複数箇所で測定する複数のレーザー変位計と、
前記複数のレーザー変位計の測定結果から、前記チャックのθ方向の傾きを検出する第1の検出手段と、
前記移動ステージを駆動するステージ駆動回路と、
前記第1の検出手段の検出結果に基づき、前記ステージ駆動回路を制御し、前記第3のステージにより前記チャックをθ方向へ回転させて、基板のθ方向の位置決めを行う制御装置とを備えたことを特徴とするプロキシミティ露光装置。 - レーザー光を発生する光源、前記第1のステージに取り付けられた第1の反射手段、前記第2のステージに取り付けられた第2の反射手段、光源からのレーザー光と第1の反射手段により反射されたレーザー光との干渉を測定する第1のレーザー干渉計、及び光源からのレーザー光と第2の反射手段により反射されたレーザー光との干渉を複数箇所で測定する複数の第2のレーザー干渉計を有するレーザー測長系と、
前記レーザー測長系の第1のレーザー干渉計及び複数の第2のレーザー干渉計の測定結果から、前記移動ステージのXY方向の位置を検出する第2の検出手段とを備え、
前記制御装置は、前記第2の検出手段の検出結果に基づき、前記ステージ駆動回路を制御し、前記第1のステージ及び前記第2のステージにより前記チャックをXY方向へ移動させて、基板のXY方向の位置決めを行うことを特徴とする請求項1に記載のプロキシミティ露光装置。 - 前記チャックに取り付けられた第3の反射手段を備え、
前記レーザー測長系は、複数の第2のレーザー干渉計により、光源からのレーザー光と第3の反射手段により反射されたレーザー光との干渉を複数箇所で測定し、
前記第2の検出手段は、前記レーザー測長系の複数の第2のレーザー干渉計の測定結果から、前記チャックの変位を検出し、
前記第1の検出手段は、前記第2の検出手段が検出した前記チャックの変位と前記複数のレーザー変位計の測定結果とから、前記複数のレーザー変位計の測定結果を補正する補正式を作成し、作成した補正式により前記複数のレーザー変位計の測定結果を補正し、補正した前記複数のレーザー変位計の測定結果から、チャックのθ方向の傾きを検出することを特徴とする請求項2に記載のプロキシミティ露光装置。 - 基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法であって、
X方向(又はY方向)へ移動する第1のステージ、第1のステージに搭載されY方向(又はX方向)へ移動する第2のステージ、及び第2のステージに搭載されθ方向へ回転する第3のステージを有する移動ステージにチャックを搭載し、
第2のステージに複数のレーザー変位計を設けて、複数のレーザー変位計をチャックと共にXY方向へ移動し、
複数のレーザー変位計によりチャックの変位をチャックのXY方向への移動による変動なく複数箇所で測定し、
測定結果からチャックのθ方向の傾きを検出し、
検出結果に基づき、第3のステージによりチャックをθ方向へ回転して、基板のθ方向の位置決めを行うことを特徴とするプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法。 - 第1のステージに第1の反射手段を取り付け、
第2のステージに第2の反射手段を取り付け、
第1のレーザー干渉計により、光源からのレーザー光と第1の反射手段により反射されたレーザー光との干渉を測定し、
複数の第2のレーザー干渉計により、光源からのレーザー光と第2の反射手段により反射されたレーザー光との干渉を複数箇所で測定し、
測定結果から移動ステージのXY方向の位置を検出し、
検出結果に基づき、第1のステージ及び第2のステージによりチャックをXY方向へ移動して、基板のXY方向の位置決めを行うことを特徴とする請求項4に記載のプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法。 - チャックに第3の反射手段を取り付け、
複数の第2のレーザー干渉計により、光源からのレーザー光と第3の反射手段により反射されたレーザー光との干渉を複数箇所で測定し、
測定結果からチャックの変位を検出し、
検出結果と複数のレーザー変位計の測定結果とから、複数のレーザー変位計の測定結果を補正する補正式を作成し、
作成した補正式により複数のレーザー変位計の測定結果を補正し、
補正した複数のレーザー変位計の測定結果から、チャックのθ方向の傾きを検出することを特徴とする請求項5に記載のプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法。 - 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
- 請求項4乃至請求項6のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置の基板位置決め方法を用いて基板を位置決めして、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
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