JP4675505B2 - 塗布装置、塗布方法及び表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は基板に液状体としてのシール材を塗布するための塗布装置、塗布方法及び表示装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
たとえば、液晶表示装置に用いられるガラス基板やプリント基板などにおいては、ペースト状の接着剤や樹脂などの液状体を塗布することが要求されることがあり、そのような場合には塗布装置が用いられる。
【0003】
上記塗布装置は塗布ノズルを有し、この塗布ノズルには液状体が所定の圧力で供給される。したがって、塗布ノズルを上記基板に対して相対的に走査させることで、その基板に液状体を所定の形状で塗布することができる。
【0004】
上記塗布装置には上記基板がロボットなどによって供給されるXYテーブルが設けられている。したがって、基板をXYテーブル上に供給した後、このXYテーブルを予め設定された液状体の塗布形状に応じてXY方向に駆動すれば、上記塗布ノズルによって液状体を基板に塗布することができる。
【0005】
基板がXY方向及びθ方向に高精度に位置決めされてXYテーブル上に供給されれば、XYテーブルを予め設定された塗布データに基づき駆動することで、液状体を上記基板に高精度に塗布することが可能となる。
【0006】
しかしながら、ロボットによってXYテーブル上に供給される基板はXY方向及びθ方向において、設定された位置からずれて供給されることがある。そのため、基板をXYテーブルに供給したならば、その基板を撮像して画像処理によって位置ずれ量を算出し、そのずれ量を補正しなければ、基板に液状体を所定の塗布形状で精度よく塗布することができないことになる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
基板を、塗布ノズルに対してXY方向及びθ方向に高精度に位置決めする場合、従来は図7に示す構成が採用されていた。同図において50は架台で、この架台50上にはY方向に駆動されるY可動体51を有するYガイド体52が設けられている。このYガイド体52上にはXガイド体53が設けられている。このXガイド体53によってX方向に駆動されX可動体54にはθテーブル55が設けられている。このθテーブル55上には載置テーブル56が設けられ、この載置テーブル56上に被塗布物となる基板Sが位置決め載置される。それによって、上記基板SをXY方向及びθ方向に位置決めができるようにしている。
【0008】
ところで、最近では基板が大型化しているため、その大型化に応じてθテーブルも大きくしなければならない。しかしながら、θテーブルを大きくすると、このθテーブルの剛性が著しく低下することになるので、機械的精度が低下し、基板を高精度に位置決めできないということがあったり、θテーブルのコストが大幅に上昇するということがあった。
【0009】
また、基板が大型化すると、その基板には複数の塗布ノズルによって液状体を同時に塗布することで、複数のパターンを同時に形成するということが行なわれている。そのような場合、XYテーブルをθテーブルによってθ方向に駆動できるようにしただけでは、複数の塗布ノズルをXYテーブル上の基板に対してそれぞれ別々に位置決めすることができない。そのため、複数の塗布ノズルを用いた場合、これら複数の塗布ノズルによって基板に所定のパターンを同時に、しかも高精度に塗布することができないということもある。
【0010】
図8は基板Wが角度θで傾斜してXYテーブルTに供給されたときに、その角度θを補正せずにシール剤を塗布して複数のパターンPを形成した場合で、その場合には各塗布パターンPが基板に対して角度θでずれてしまうことになる。
【0011】
この発明は、θテーブルを用いずに、XYテーブルに供給された基板に対して複数の塗布ノズルにより液状体を高精度に塗布できるようにした液状体の塗布装置、塗布方法及び表示装置の製造方法を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明は、被塗布物が載置可能に設けられるXYテーブルと、
このXYテーブル上に載置される前記被塗布物に対して対向配置されるように設けられる複数の吐出口をそれぞれ少なくとも1つずつ有する複数の塗布ノズルと、
前記被塗布物が有するパターンを撮像し、この撮像に基づいて前記XYテーブルに対する前記被塗布物の傾き角度を認識する認識手段と、
前記複数の塗布ノズルのそれぞれを少なくとも前記XYテーブル表面に対して平行移動可能とする複数の駆動手段と、
認識された前記被塗布物の傾き角度に基づき、前記複数の塗布ノズルのそれぞれの吐出口の相対位置を前記駆動手段によって決定し、前記複数の吐出口と前記被塗布物との相対的な傾きを維持しつつ、前記被塗布物と前記吐出口とを相対移動させることにより前記被塗布物上への塗布を行なわせる制御手段と
を具備することを特徴とする塗布装置にある。
【0017】
請求項2の発明は、XYテーブル上に配置された被塗布物の傾き角度を認識する認識工程と、
この認識工程において認識された被塗布物の傾きに基づいて、この被塗布物に対向して配置される吐出口を有する複数の塗布ノズルを駆動し、前記複数の吐出口の所定の配列状態の前記被塗布物との相対的な傾きを調整する位置調整工程と、
前記相対的な傾きを保ちながら前記被塗布物と前記吐出口とを相対移動させることにより前記基板上への塗布を行う塗布工程と
を具備することを特徴とする塗布方法にある。
【0018】
請求項3の発明は、請求項1に記載の塗布装置を用いて、被塗布物となる透光性配線基板上にシール材を塗布する工程を備えることを特徴とする表示装置の製造方法にある。
【0019】
請求項4の発明は、請求項2に記載の塗布方法を用いて、被塗布物となる透光性配線基板上にシール材を塗布する工程を備えることを特徴とする表示装置の製造方法にある。
【0020】
この発明によれば、基板をXYテーブルによってXY方向に駆動できるようにするとともに、n個の塗布ノズルのうち、(n−1)個の塗布ノズルをXY方向に駆動できるようにしたから、XYテーブルに供給される基板の位置がずれていても、そのずれ量に応じてn個の塗布ノズルを基板に対してそれぞれ位置決めしたのち、基板を上記ずれ量に応じて補正された塗布データに基づき駆動することで、複数の塗布ノズルによって基板に液状体を塗布することができる。
【0021】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の一実施の形態を図面を参照して説明する。
【0022】
図1はこの発明の塗布装置を示し、この塗布装置は架台1を備えている。この架台1上にはYガイド体2が設けられている。このYガイド体2にはXガイド体3が水平面上のY方向に沿って駆動可能に設けられている。このXガイド体3上にはXYテーブル4が水平面上のX方向に沿って駆動可能に設けられている。つまり、XYテーブル4はXY方向に駆動可能となっている。なお、図1におけるX、Y方向は同図に矢印で示す方向である。
【0023】
上記XYテーブル4上には、図1に鎖線で示す、たとえば液晶表示装置に用いられる被塗布物としての矩形状の基板5が図示しないロボットによって供給される。この基板5にはn個、この実施の形態では後述する3つの塗布ノズル26によって液状体である、ペースト状のシール剤が所定のパターンで塗布されるようになっている。
【0024】
上記架台1の前後方向後端側には、幅方向全長にわたって取付け体6が設けられている。この取付け体6の前面には、長手方向中央部に取付け部7が設けられ、この取付け部7の一側には第1のX駆動機構11、他側には第2のX駆動機構12が設けられている。
【0025】
上記第1のX駆動機構11には第1のディスペンサヘッド10Aが設けられ、上記取付部7には第2のディスペンサヘッド10B、上記第2のX駆動機構12には第3のディスペンサヘッド10Cがそれぞれ設けられている。
【0026】
各ディスペンサヘッド10A〜10Cは以下のごとく構成されている。すなわち、図2に示すように、上記第1、第2のX駆動機構11,12にはそれぞれ駆動手段となるX駆動源13によってX方向に駆動される第1、第2のX可動体14,15が設けられている。各X可動体14,15にはそれぞれ第1、第2のY可動体16,17が設けられている。各Y可動体16,17は上記第1、第2のX可動体14、15に設けられた駆動手段であれるY駆動源18によって同図に矢印で示すY方向(図1のY方向と同じ方向)に数mmの範囲で駆動されるようになっている。
【0027】
上記取付け体6に設けられた取付け部7には上記各Y可動体16,17と同じ形状の支持体21が設けられている。上記一対のY可動体15,16及び支持体21にはそれぞれZ駆動源22によってZ方向に駆動される矩形板状の第1乃至第3のZ可動体23〜25が設けられている。
【0028】
各Z可動体23〜25には図1に示すように塗布ノズル26と変位センサ27が設けられている。つまり、各塗布ノズル26と変位センサ27とはX、Y、Z方向に駆動されるようになっており、X駆動源13、Y駆動源18及びZ駆動源21はノズル駆動手段を構成している。
【0029】
また、第1、第2のY可動体16,17には、このY可動体16,17と一体的にY方向に変位する取付け板28が設けられている。各取付け板28にはそれぞれ撮像カメラ29a,29bが視野方向をZ方向下方に向けて設けられている。撮像カメラ29a,29bによって撮像された部位は、架台1の上面側方に設置されたモニタ31に写し出される。
【0030】
上記架台1の側方には制御装置32が配置されている。この制御装置32は、図3に示すようにデータ入力部33を有する。このデータ入力部33は、基板5に塗布されるシール剤の塗布形状をX、Y、Zの三次元情報として塗布データ補正演算処理部34に入力するとともに、基板5がXYテーブル4上にXY及びθ方向に誤差のない状態で供給されたときの基板5の四隅部に設けられた4つの位置合わせマーク5a(図4に示す)のそれぞれのXY座標が入力される。
【0031】
上記塗布データ補正演算処理部34には位置検出部35が接続されている。この位置検出部35には上記第1のディスペンサヘッド10Aに設けられた第1の撮像カメラ29aと、上記第3のディスペンサヘッド10Cに設けられた第2の撮像カメラ29bからの撮像信号が入力される。
【0032】
第1の撮像カメラ29aは、図4に示すように、XYテーブル4上に供給された基板5の幅方向(X方向)一端側の前後方向両端部に設けられた2つの位置合わせマーク5aを撮像し、第2の撮像カメラ29bは基板5の幅方向他端側の前後方向(Y方向)両端部に設けられた2つの位置合わせマーク5aを撮像する。なお、この位置合わせマークは、基板5上の配線パターンや基板5の角部などに設けられた所定のパターンで代用することができる。
【0033】
図5のフローチャートに示すように、上記塗布データ補正演算処理部34では、データ入力部33から入力された位置合わせマーク5aのXY座標と、第1、第2のカメラ29a、29bによって撮像された位置合わせマーク5aのXY座標が比較認識され、それによってXYテーブル4上に供給された基板5のXY方向とθ方向のずれ量とを算出する。
【0034】
上記塗布データ補正演算処理部34で算出された基板5のXY方向とθ方向のずれ量は、ノズル初期位置補正演算処理部36に入力される。このノズル初期位置補正演算処理部36では、基板5のずれ量に基づき、各ディスペンサヘッド10A〜10Cにそれぞれ設けられた3つの塗布ノズル26の初期位置、つまりシール剤を塗布し始めるときの最初のXY座標(初期位置)を算出する。
【0035】
このノズル初期位置補正演算処理部36が算出した3つの塗布ノズル26の初期位置に基づき、XYテーブル4を駆動制御するXYテーブル制御部37と、第1、第3のディスペンサヘッド10A、10Cの塗布ノズル26をXY方向に駆動するディスペンサヘッド制御部38とに駆動信号が出力される。
【0036】
それによって、まずXYテーブル制御部37がXYテーブル4によって基板5をXY方向に駆動し、図6(a)に示すように第2のディスペンサヘッド10Bの塗布ノズル26の中心がこの塗布ノズル26によって基板5に塗布されるシール剤の塗布パターンP2 の初期位置X2 に一致するよう、この基板5を位置決めする。この状態を図6(a)に示す。
【0037】
第2のディスペンサヘッド10Bの塗布ノズル26を塗布パターンP2 の初期位置X2 に位置決めすると、第1、第3のディスペンサヘッド10A,10Cの塗布ノズル26の中心位置は、それぞれの塗布パターンP1 、P3 の初期位置X1 、X3 に対して、第2のディスペンサヘッド10Bの塗布ノズル26を位置決めしたときのXY方向の移動量と、XYテーブル4上に供給されたときの基板5のXY方向のずれ量とを加算した分だけXY方向にずれていることになる。
【0038】
したがって、ディスペンサヘッド制御部38は、それらの誤差に応じて第1のディスペンサヘッド10Aの塗布ノズル26と、第3のディスペンサヘッド10Cの塗布ノズル26とをXY方向に駆動すれば、図6(b)に示すように、これら塗布ノズル26の中心をそれぞれシール剤を塗布するときの初期位置X1 、X3 に位置決めすることができる。
【0039】
さらに、ディスペンサヘッド制御部38は、3つのディスペンサヘッド10A〜10Cの塗布ノズル26をZ方向に駆動し、基板5の板面との間隔を所定の値に設定する。それによって、各塗布ノズル26から基板5に供給されるシール剤の塗布量が設定される。
【0040】
このようにして、3つの塗布ノズル26が各塗布パターンP1 〜P3 の初期位置X1 〜X3 に位置決めされたなら、XYテーブル制御部37によってXYテーブル4を、上記塗布データ補正演算処理部34によって補正されたシール剤の塗布パターンP1 〜P3 に応じてXY方向に駆動する。それと同時に、塗布ノズル吐出制御部39によって各塗布ノズル26にシール剤が所定の圧力で供給される。
【0041】
それによって、基板5には、3つの塗布ノズル26によって同時にシール剤を同じパターンで塗布することができる。
【0042】
すなわち、3つの塗布ノズル26のうち、第1、第3のディスペンサヘッド10A,10Cに設けられた2つの塗布ノズル26をXY方向に駆動できるようにしたことで、XYテーブル4をXY方向に移動させて第2のディスペンサヘッド10Bを初期位置X2 に位置決めした後、第1、第3のディスペンサヘッド10A,10Cに設けられた各塗布ノズル26をXY方向に駆動することで、それぞれの塗布ノズル26を初期位置X1 、X2 に位置決めすることができる。
【0043】
したがって、3つの塗布ノズル26を初期位置X1 〜X3 に決めしたならば、XYテーブル4に供給されたときの基板5の位置ずれ量に応じた補正を行ないながら、このXYテーブル4をシール剤の塗布パターンP1 〜P3 に応じてXY方向に駆動すれば、3つの塗布ノズル26によって基板5のシール剤を同時に同じ形状で塗布することができる。
【0044】
すなわち、従来のようにθテーブルを用いて基板5をθ方向に位置決め制御しなくても、XYテーブル4に供給された基板5のθ方向のずれを補正してシール剤を塗布することが可能となる。
【0045】
上記一実施の形態では、ディスペンサヘッドを3つ備えた塗布装置について説明したが、ディスペンサヘッドの数は2つ或いは4つ以上の複数nであって、(n−1)個のディスペンサヘッドの塗布ノズルがXYZ方向に駆動することができ、1つのディスペンサヘッドがZ方向だけに駆動できる構成であればよい。
【0046】
[実施の形態の効果]
この発明の実施の形態に示す塗布装置によれば、塗布ノズルの吐出口の配置を基板の配置状態に応じて変更することが可能になるため、XYテーブル上に配置された基板の傾きに応じて、吐出口の配列を傾けることができるようになり、基板と基板上に塗布されるパターンとの位置関係をθ軸なしに補正可能となる。
【0047】
これによって、XYテーブル上に基板を配置する際に、基板とXYテーブルとの位置を厳密に決める必要をなくすことができる。基板を回転させる必要をなくすことができるので、装置の構成を簡素にすることができるようになるとともに、位置決め工程の削減、及びXYテーブルの軽量化に伴う高速動作も実現されるため、高スループットの塗布装置及び塗布方法を提供することを可能とする。
【0048】
【発明の効果】
以上のようにこの発明によれば、基板をXYテーブルによってXY方向に駆動できるようにするとともに、n個の塗布ノズルのうち、(n−1)個の塗布ノズルをXY方向に駆動できるようにした。
【0049】
そのため、XYテーブルに供給される基板の位置がずれていても、そのずれ量に応じてn個の塗布ノズルを基板に対してそれぞれ位置決めしたのち、基板を上記ずれ量に応じて補正された塗布データに基づき駆動することで、複数の塗布ノズルによって基板に液状体を塗布することができる。つまり、基板のθ方向のずれ量を、従来のようにθテーブルを用いることなく、補正して液状体を塗布することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施の形態の塗布装置の概略構成を示す斜視図。
【図2】第1乃至第3のディスペンサヘッドの構成を省略して示す斜視図。
【図3】制御装置の構成図。
【図4】基板に形成された位置合わせマークを説明するための図。
【図5】基板のXYθ方向の位置ずれ補正を説明するフローチャート。
【図6】シール剤を塗布するに際し、3つの塗布ノズルを各塗布パターンの初期位置に位置決めする手順の説明図。
【図7】従来のXYθテーブルの概略的構造を示す断面図。
【図8】XYテーブルに供給された基板のθ方向の傾きを補正せずにシール剤を塗布したときの説明図。
【符号の説明】
4…XYテーブル
5…基板
26…塗布ノズル
29a…第1の撮像カメラ
29b…第2の撮像カメラ
32…制御装置
33…データ入力部
34…塗布データ補正演算処理部
35…位置検出部
36…ノズル初期位置補正演算部
37…XYテーブル制御部
38…ディスペンサヘッド制御部
Claims (4)
- 被塗布物が載置可能に設けられるXYテーブルと、
このXYテーブル上に載置される前記被塗布物に対して対向配置されるように設けられる複数の吐出口をそれぞれ少なくとも1つずつ有する複数の塗布ノズルと、
前記被塗布物が有するパターンを撮像し、この撮像に基づいて前記XYテーブルに対する前記被塗布物の傾き角度を認識する認識手段と、
前記複数の塗布ノズルのそれぞれを少なくとも前記XYテーブル表面に対して平行移動可能とする複数の駆動手段と、
認識された前記被塗布物の傾き角度に基づき、前記複数の塗布ノズルのそれぞれの吐出口の相対位置を前記駆動手段によって決定し、前記複数の吐出口と前記被塗布物との相対的な傾きを維持しつつ、前記被塗布物と前記吐出口とを相対移動させることにより前記被塗布物上への塗布を行なわせる制御手段と
を具備することを特徴とする塗布装置。 - XYテーブル上に配置された被塗布物の傾き角度を認識する認識工程と、
この認識工程において認識された被塗布物の傾きに基づいて、この被塗布物に対向して配置される吐出口を有する複数の塗布ノズルを駆動し、前記複数の吐出口の所定の配列状態の前記被塗布物との相対的な傾きを調整する位置調整工程と、
前記相対的な傾きを保ちながら前記被塗布物と前記吐出口とを相対移動させることにより前記基板上への塗布を行う塗布工程と
を具備することを特徴とする塗布方法。 - 請求項1に記載の塗布装置を用いて、被塗布物となる透光性配線基板上にシール材を塗布する工程を備えることを特徴とする表示装置の製造方法。
- 請求項2に記載の塗布方法を用いて、被塗布物となる透光性配線基板上にシール材を塗布する工程を備えることを特徴とする表示装置の製造方法。
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