JP5633021B2 - アライメント方法、アライメント装置及び露光装置 - Google Patents
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Description
先ず、所定のカラーレジストを塗布したカラーフィルタ基板8が搬送手段1上の所定位置に位置決めして載置され、図1に示す矢印A方向に一定速度で搬送される。
3…マスクステージ
4…撮像手段
6…アライメント装置
7…ピクセル(パターン)
8…カラーフィルタ基板(被露光体)
11…フォトマスク
12…露光用光源(光源)
20…受光素子
21…アライメント機構
24…画像処理部
25…演算部
26…テンプレート
Claims (11)
- 所定のパターンをマトリクス状に備え一方向に搬送中の被露光体に対してフォトマスクを位置合わせするアライメント方法であって、
前記被露光体の搬送方向と交差する方向に複数の受光素子を一直線状に並べて有する撮像手段により所定の時間間隔で撮像された複数の画像を逐次処理して前記受光素子の並び方向における輝度変化の位置を検出する段階と、
前記被露光体が所定距離だけ移動する間に前記受光素子の並び方向における同じ位置で検出される前記輝度変化の回数を被露光体の搬送方向に積算し、前記被露光体の搬送方向と交差する方向に複数のエッジ数データを得る段階と、
前記パターンと同形状のパターンにおいて、前記被露光体の搬送方向に平行なエッジに対応して一組の単位エッジ数データが予め設定されたテンプレートを前記算出された複数のエッジ数データにて前記被露光体の搬送方向と交差する方向の一方端から他方端に向かって移動しながら前記算出された複数のエッジ数データとの類似度を求める相関演算を行い、前記テンプレートに合致した複数組のエッジ数データにて各組のエッジ数データの同方向の中心位置に類似度を示す複数の相関値データを得る段階と、
前記複数の相関値データにて所定の閾値を超えた複数の相関値データの位置から複数のパターンの位置を特定する段階と、
前記特定された複数のパターンの位置から前記撮像手段に予め設定されたターゲット位置に近接したパターンの位置を選択する段階と、
前記選択されたパターンの位置と前記撮像手段のターゲット位置との位置ずれ量を算出する段階と、
前記位置ずれ量が所定値となるように少なくとも前記フォトマスクを前記被露光体の搬送方向と交差する方向に相対移動して前記フォトマスクと前記被露光体との位置合わせをする段階と、
を実行することを特徴とするアライメント方法。 - 前記複数のパターンの位置を特定した後、前記撮像手段に予め設定されたターゲット位置に近接したパターンの位置を選択する段階に替えて、前記複数のパターンの近接ペアの中点位置を演算する段階と、該複数の中点位置から前記撮像手段に予め設定されたターゲット位置に近接した中点位置を選択する段階とを実行し、
前記位置ずれ量を算出する段階においては、前記選択された中点位置と前記撮像手段のターゲット位置との位置ずれ量を算出する、
ことを特徴とする請求項1記載のアライメント方法。 - 前記輝度変化の位置を検出する段階においては、明から暗及び暗から明への輝度変化の位置を検出し、
前記複数のエッジ数データを得る段階においては、明から暗及び暗から明への輝度変化の回数を夫々積算して各エッジ数データを得、
前記複数の相関値データを得る段階においては、前記算出された各エッジ数データに対して相関演算して明から暗への輝度変化に対応する相関値データ及び暗から明への輝度変化に対応する相関値データを求めた後、該相関値データにおける近接ペアを平均して複数の平均化相関値データを得、
前記複数のパターンの位置を特定する段階においては、前記複数の平均化相関値データにて所定の閾値を超えた複数の平均化相関値データの位置から複数のパターンの位置を特定する、
ことを特徴とする請求項1又は2記載のアライメント方法。 - 前記撮像手段は、落射照明により前記被露光体のパターンを撮像することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のアライメント方法。
- 前記被露光体は、配線パターンを形成したTFT基板であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のアライメント方法。
- 所定のパターンをマトリクス状に備え一方向に搬送中の被露光体に対してフォトマスクを位置合わせするアライメント装置であって、
前記被露光体の搬送方向と交差する方向に複数の受光素子を一直線状に並べて有する撮像手段により所定の時間間隔で撮像された複数の画像を逐次処理して前記受光素子の並び方向における輝度変化の位置を検出し、前記被露光体が所定距離だけ移動する間に前記受光素子の並び方向における同じ位置で検出される前記輝度変化の回数を被露光体の搬送方向に積算し、前記被露光体の搬送方向と交差する方向に複数のエッジ数データを得、前記パターンと同形状のパターンにおいて、前記被露光体の搬送方向に平行なエッジに対応して一組の単位エッジ数データが予め設定されたテンプレートを前記算出された複数のエッジ数データにて前記被露光体の搬送方向と交差する方向の一方端から他方端に向かって移動しながら前記算出された複数のエッジ数データとの類似度を求める相関演算を行い、前記テンプレートに合致した複数組のエッジ数データにて各組のエッジ数データの同方向の中心位置に類似度を示す複数の相関値データを得、該複数の相関値データにて所定の閾値を超えた複数の相関値データの位置から複数のパターンの位置を特定する画像処理部と、
前記特定された複数のパターンの位置から前記撮像手段に予め設定されたターゲット位置に近接したパターンの位置を選択し、該選択されたパターンの位置と前記撮像手段のターゲット位置との位置ずれ量を算出する演算部と、
前記位置ずれ量が所定値となるように少なくとも前記フォトマスクを前記被露光体の搬送方向と交差する方向に相対移動して前記フォトマスクと前記被露光体との位置合わせをするアライメント機構と、
を備えたことを特徴とするアライメント装置。 - 前記演算部は、前記特定された複数のパターンの近接ペアの中点位置を演算し、該複数の中点位置から前記撮像手段に予め設定されたターゲット位置に近接した中点位置を選択し、該選択された中点位置と前記撮像手段のターゲット位置との位置ずれ量を算出することを特徴とする請求項6記載のアライメント装置。
- 前記画像処理部は、明から暗及び暗から明への輝度変化の位置を検出し、該明から暗及び暗から明への輝度変化の回数を夫々積算して各エッジ数データを得た後、該算出された各エッジ数データに対して相関演算して明から暗への輝度変化に対応する複数の相関値データ及び暗から明への輝度変化に対応する複数の相関値データを求め、さらに、該複数の相関値データにおける近接ペアを平均して複数の平均化相関値データを得、その後、該複数の平均化相関値データにて所定の閾値を超えた複数の平均化相関値データの位置から複数のパターンの位置を特定することを特徴とする請求項6又は7記載のアライメント装置。
- 所定のパターンをマトリクス状に備え一方向に搬送中の被露光体に対してフォトマスクを位置合わせして露光する露光装置であって、
紫外線を放射する光源と、
前記搬送中の被露光体の面に近接対向させて前記フォトマスクを保持するマスクステージと、
前記被露光体の搬送方向と交差する方向に複数の受光素子を一直線状に並べて有し、前記フォトマスクによる露光位置の搬送方向手前側の位置を撮像する撮像手段と、
前記撮像手段により所定の時間間隔で撮像された複数の画像を逐次処理して前記受光素子の並び方向における輝度変化の位置を検出し、前記被露光体が所定距離だけ移動する間に前記受光素子の並び方向における同じ位置で検出される前記輝度変化の回数を被露光体の搬送方向に積算し、前記被露光体の搬送方向と交差する方向に複数のエッジ数データを得、前記パターンと同形状のパターンにおいて、前記被露光体の搬送方向に平行なエッジに対応して一組の単位エッジ数データが予め設定されたテンプレートを前記算出された複数のエッジ数データにて前記被露光体の搬送方向と交差する方向の一方端から他方端に向かって移動しながら前記算出された複数のエッジ数データとの類似度を求める相関演算を行い、前記テンプレートに合致した複数組のエッジ数データにて各組のエッジ数データの同方向の中心位置に類似度を示す複数の相関値データを得、該複数の相関値データにて所定の閾値を超えた複数の相関値データの位置から複数のパターンの位置を特定し、該特定された複数のパターンの位置から前記撮像手段に予め設定されたターゲット位置に近接したパターンの位置を選択し、該選択されたパターンの位置と前記撮像手段のターゲット位置との位置ずれ量を算出し、該位置ずれ量が所定値となるように少なくとも前記マスクステージを前記被露光体の搬送方向と交差する方向に相対移動して前記フォトマスクと前記被露光体との位置合わせをするアライメント装置と、
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記アライメント装置は、前記複数のパターンの位置を特定した後、該複数のパターンの近接ペアの中点位置を演算し、該複数の中点位置から前記撮像手段に予め設定されたターゲット位置に近接した中点位置を選択し、該選択された中点位置と前記撮像手段のターゲット位置との位置ずれ量を算出することを特徴とする請求項9記載の露光装置。
- 前記アライメント装置は、明から暗及び暗から明への輝度変化の位置を検出し、該明から暗及び暗から明への輝度変化の回数を夫々積算して各エッジ数データを得た後、該算出された各エッジ数データに対して相関演算して明から暗への輝度変化に対応する複数の相関値データ及び暗から明への輝度変化に対応する複数の相関値データを求め、さらに、該複数の相関値データにおける近接ペアを平均して複数の平均化相関値データを得、その後、該複数の平均化相関値データにて所定の閾値を超えた複数の平均化相関値データの位置から複数のパターンの位置を特定することを特徴とする請求項9又は10記載の露光装置。
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