TWI475337B - 對位方法、對位裝置及曝光裝置 - Google Patents

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Description

對位方法、對位裝置及曝光裝置
本發明係關於一種針對具備了矩陣狀般特定圖樣並朝一方向搬送中的被曝光體，來進行光罩之位置對準的對位方法，詳細說明，係關於一種即使針對複雜圖形之圖樣仍可進行高精度位置對準的對位方法、對位裝置及曝光裝置。
習知此類對位方法係藉由具有沿彩色濾光片(color filter)基板搬送方向的垂直方向呈一直線狀般排列之複數個感光元件的攝影機構，針對彩色濾光片基板(被曝光體)上所形成之矩形複數個像素(pixel)進行攝影，並根據該攝影圖像之輝度情報來檢測出該彩色濾光片基板之左端像素的左側緣部位置，以算出該左端像素的左側緣部位置與攝影機構預先設定好的基準位置(目標位置)之間的位置偏差量，而補正該位置偏差量般地，沿彩色濾光片基板搬送方向之垂直方向來移動光罩，以進行光罩與彩色濾光片基板之間的位置對準(例如，參考日本專利特開2008-76709號公報)。
但是，前述習知對位方法中，由於會檢測出當輝度從黑暗變成明亮之位置，再以該位置作為基準來進行被曝光體圖樣與光罩開口部之間的位置對準，因此對於矩形之單純圖形的圖樣，要檢測出圖樣緣部所設定之基準位置是容易的且位置對準亦較容易，但是對於例如TFT基板般於像素內具有配線圖樣之複雜圖形的圖樣或藉由經由落射照明所獲得之複雜線畫圖形的圖樣，要檢測出圖樣緣部所設定之基準位置則有困難，且位置對準亦非容易。因此，要高精度地進行被曝光體圖樣與光罩開口部之間的位置對準是有困難的。
於是，本發明之目的係提供一種對應於前述問題點，針對複雜圖形之圖樣仍可進行光罩之高精度位置對準的對位方法、對位裝置及曝光裝置。
為達成上述目的，本發明之對位方法，係針對具有矩陣狀特定圖樣且沿一方向搬送中的被曝光體來進行光罩之位置對準，其特徵在於係實施下述步驟：藉由具有沿著一直線狀般排列在該被曝光體搬送方向的交叉方向之複數個感光元件的攝影機構，來對以一定之時間間隔所拍攝而成的複數個圖像逐次進行處理，以檢測出於該感光元件排列方向上之輝度變化位置；在該被曝光體移動一定距離之期間內，將該感光元件之排列方向上之相同位置處所檢測出的該輝度變化次數沿著被曝光體搬送方向累積計算，以獲得對應於該所檢測出之輝度變化位置而排列之複數個邊緣個數的資料；將針對與該圖樣相同形狀的圖樣而預先設定有單位邊緣個數資料之模板，一邊從該所算出之複數個邊緣個數資料之排列方向的一端朝向另一端移動，並一邊針對該所算出之複數個邊緣個數資料來進行相關計算，以獲得複數個相關值資料；由該複數個相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料，來特定出複數圖樣的位置；由該被特定出之複數圖樣的位置來選出接近至該攝影機構所預先設定之目標位置的圖樣位置；計算出該被選出之圖樣位置與該攝影機構的目標位置之間的位置偏差量；以及使得該位置偏差量達預設值般地來至少讓該光罩沿著該被曝光體搬送方向之交叉方向而相對移動，以進行該光罩與該被曝光體之間的位置對準。
藉由上述結構，則能夠一邊將具有矩陣狀特定圖樣的被曝光體往一方向搬送，一邊藉由具有沿著一直線狀般排列在被曝光體搬送方向的交叉方向之複數個感光元件的攝影機構，來對以一定之時間間隔所拍攝而成的複數個圖像逐次進行處理，以檢測出於該感光元件排列方向上之輝度變化位置；在被曝光體移動一定距離之期間內，將該感光元件之排列方向上之相同位置處所檢測出的輝度變化次數沿著被曝光體搬送方向累積計算，以獲得對應於該所檢測出之輝度變化位置而排列之複數個邊緣個數的資料；將針對與該圖樣相同形狀的圖樣而預先設定有單位邊緣個數資料之模板，一邊從該所算出之複數個邊緣個數資料之排列方向的一端朝向另一端移動，並一邊針對所算出之複數個邊緣個數資料來進行相關計算，以獲得複數個相關值資料；由該複數個相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料，來特定出複數圖樣的位置；由該被特定出之複數圖樣的位置來選出接近至攝影機構所預先設定之目標位置的圖樣位置；計算出該被選出之圖樣位置與攝影機構的目標位置之間的位置偏差量；以及使得該位置偏差量達預設值般地來至少讓光罩沿著被曝光體搬送方向之交叉方向而相對移動，以進行光罩與被曝光體之間的位置對準。藉此，即便被曝光體所形成之圖樣的圖形很複雜，或經由落射照明所獲得之圖樣為複雜的線畫圖形，仍可針對移動中之被曝光體的攝影圖像逐次地進行處理，而容易地檢測出排列在被曝光體搬送方向的交叉方向之複數圖樣的位置。因此，依所檢測出之圖樣的位置作為基準，而讓光罩追隨著朝搬送方向之交叉方向邊搖晃邊搬送的被曝光體之移動，故可相對於被曝光體之圖樣而高精度地對光罩之開口部進行位置對準。又，相較於二次元圖像的圖樣匹配法，能夠縮小電路規模，且能以高速來進行圖像處理。因此，可縮短曝光步驟的時間。
又，在特定出該複數圖樣的位置之後，取代了選出接近至該攝影機構所預先設定之目標位置的圖樣位置的步驟，而實施下述步驟：計算出該複數圖樣之鄰近線對的中點位置，以及由該複數個中點位置來選出接近至該攝影機構所預先設定之目標位置的中點位置；其中於計算出該位置偏差量的步驟中，係計算出該被選出之中點位置與該攝影機構之目標位置之間的位置偏差量。藉此，在特定出複數圖樣的位置之後，計算該特定出之複數圖樣之鄰近線對的中點位置，並由該複數個中點位置來選出接近至攝影機構所預先設定之目標位置的中點位置，以計算出該被選出之中點位置與攝影機構之目標位置之間的位置偏差量。因此，能夠檢測出所特定之複數圖樣之鄰近線對的中點位置，並以該中點位置為基準來進行被曝光體與光罩之間的位置對準。
再者，於檢測出該輝度變化位置之步驟中，係檢測出由亮轉暗以及由暗轉亮的輝度變化位置；於獲得該複數個邊緣個數資料之步驟中，係分別累積計算由亮轉暗以及由暗轉亮的輝度變化次數，以獲得各邊緣個數之資料；於獲得該複數個相關值資料之步驟中，係針對該所算出之各邊緣個數的資料來進行相關計算，而求得對應於由亮轉暗的輝度變化之複數個相關值資料以及對應於由暗轉亮的輝度變化之複數個相關值資料後，將該複數個相關值資料中的鄰近線對平均以獲得平均化相關值資料；於特定出該複數圖樣的位置之步驟中，係由該平均化相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料，來特定出複數圖樣的位置。藉此，在檢測出由亮轉暗以及由暗轉亮的輝度變化位置，並分別累積計算上述明到暗以及由暗轉亮的輝度變化次數，以獲得各邊緣個數之資料後，針對該所算出之各邊緣個數的資料來進行相關計算，而求得對應於由亮轉暗的輝度變化之複數個相關值資料以及對應於由暗轉亮的輝度變化之複數個相關值資料，更進一步地，將該複數個相關值資料中的鄰近線對平均以獲得平均化相關值資料，之後，由該平均化相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料，來特定出複數圖樣的位置。因此，能夠更高精度地進行圖樣位置之特定。藉此，能夠更加提高被曝光體與光罩的對位精度。
又再者，該攝影機構係經由落射照明來拍攝該被曝光體的圖樣。藉此，可利用攝影機構並經由落射照明來拍攝被曝光體的圖樣。因此，可容易地進行由不透明基板所構成之被曝光體圖樣的位置檢測出。
然後，該被曝光體為形成有導線圖樣的TFT基板。藉此，會檢測出形成有導線圖樣之TFT基板圖樣的位置。因此，針對像素內具有導線圖樣之TFT基板亦可高精度地進行光罩之開口部的位置對準。
又，本發明之對位裝置，係針對具有矩陣狀特定圖樣且沿一方向搬送中的被曝光體來進行光罩之位置對準，其特徵在於具備有：圖像處理部，係藉由具有沿著一直線狀般排列在該被曝光體搬送方向的交叉方向之複數個感光元件的攝影機構，來對以一定之時間間隔所拍攝而成的複數個圖像逐次進行處理，以檢測出於該感光元件排列方向上之輝度變化位置，在該被曝光體移動一定距離之期間內，將該感光元件之排列方向上之相同位置處所檢測出的該輝度變化次數沿著被曝光體搬送方向累積計算，以獲得對應於該所檢測出之輝度變化位置而排列之複數個邊緣個數的資料，將針對與該圖樣相同形狀的圖樣而預先設定有單位邊緣個數資料之模板，一邊從該所算出之複數個邊緣個數資料之排列方向的一端朝向另一端移動，並一邊針對該所算出之複數個邊緣個數資料來進行相關計算，以獲得複數個相關值資料，並由該複數個相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料，來特定出複數圖樣的位置；演算部，係由該被特定出之複數圖樣的位置來選出接近至該攝影機構所預先設定之目標位置的圖樣位置，並計算出該被選出之圖樣位置與該攝影機構的目標位置之間的位置偏差量；以及對位機構，係使得該位置偏差量達預設值般地來至少讓該光罩沿著該被曝光體搬送方向之交叉方向而相對移動，以進行該光罩與該被曝光體之間的位置對準。
藉由上述結構，則能夠藉由具有沿著一直線狀般排列在具有矩陣狀特定圖樣且沿一方向搬送中的被曝光體搬送方向的交叉方向之複數個感光元件的攝影機構，來對以一定之時間間隔所拍攝而成的複數個圖像逐次進行處理，以檢測出於該感光元件排列方向上之輝度變化位置；在被曝光體移動一定距離之期間內，將該感光元件之排列方向上之相同位置處所檢測出的輝度變化次數沿著被曝光體搬送方向累積計算，以獲得對應於該所檢測出之輝度變化位置而排列之複數個邊緣個數的資料；將針對與該圖樣相同形狀的圖樣而預先設定有單位邊緣個數資料之模板，一邊從該所算出之複數個邊緣個數資料之排列方向的一端朝向另一端移動，並一邊針對所算出之複數個邊緣個數資料來進行相關計算，以獲得複數個相關值資料；並由該複數個相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料，來特定出複數圖樣的位置；由利用演算部所特定出之複數圖樣的位置來選出接近至攝影機構所預先設定之目標位置的圖樣位置，並計算出該被選出之圖樣位置與攝影機構的目標位置之間的位置偏差量；利用對位機構來使得該位置偏差量達預設值般地來至少讓光罩沿著被曝光體搬送方向之交叉方向而相對移動，以進行光罩與該被曝光體之間的位置對準。藉此，即便被曝光體所形成之圖樣的圖形很複雜，或經由落射照明所獲得之圖樣為複雜的線畫圖形，仍可針對移動中之被曝光體的攝影圖像逐次地進行處理，而容易地檢測出排列在被曝光體搬送方向的交叉方向之複數圖樣的位置。因此，依所檢測出之圖樣的位置作為基準，而讓光罩追隨著朝搬送方向之交叉方向邊搖晃邊搬送的被曝光體之移動，故可相對於被曝光體之圖樣而高精度地對光罩之開口部進行位置對準。又，相較於二次元圖像的圖樣匹配法，能夠縮小電路規模，且能以高速來進行圖像處理。因此，可縮短曝光步驟的時間。
再者，該演算部係計算出該被特定出之複數圖樣之鄰近線對的中點位置，且由該複數個中點位置中，選出接近至該攝影機構所預先設定之目標位置的中點位置，再計算出該被選出之中點位置與該攝影機構之目標位置之間的位置偏差量。藉此，能夠利用演算部來計算出被特定出之複數圖樣之鄰近線對的中點位置，且由該複數個中點位置中，選出接近至攝影機構所預先設定之目標位置的中點位置，再計算出該被選出之中點位置與攝影機構之目標位置之間的位置偏差量。因此，能夠檢測出被特定出之複數圖樣之鄰近線對的中點位置，並以該中點位置為基準來進行被曝光體與光罩之間的位置對準。
然後，該圖像處理部係在檢測出由亮轉暗以及由暗轉亮的輝度變化位置，並分別累積計算該由亮轉暗以及由暗轉亮的輝度變化次數來獲得各邊緣個數之資料後，針對該所算出之各邊緣個數的資料進行相關計算，來求得對應於由亮轉暗的輝度變化之複數個相關值資料以及對應於由暗轉亮的輝度變化之複數個相關值資料，更進一步地，將該複數個相關值資料中的鄰近線對平均以獲得平均化相關值資料，之後再由該平均化相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料，來特定出複數個圖樣的位置。藉此，能夠利用圖像處理部來檢測出由亮轉暗以及由暗轉亮的輝度變化位置，並分別累積計算該由亮轉暗以及由暗轉亮的輝度變化次數來獲得各邊緣個數之資料後，針對該所算出之各邊緣個數的資料進行相關計算，來求得對應於由亮轉暗的輝度變化之複數個相關值資料以及對應於由暗轉亮的輝度變化之複數個相關值資料，更進一步地，將該複數個相關值資料中的鄰近線對平均以獲得平均化相關值資料，之後再由該平均化相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料，來特定出複數個圖樣的位置。因此，能夠更高精度地進行圖樣位置的特定。從而能夠更加提高被曝光體與光罩的對位精度。
又，本發明之曝光裝置係針對具有矩陣狀特定圖樣且沿一方向搬送中的被曝光體來進行光罩之位置對準與曝光，其特徵在於具備有：光源，係放射出紫外線；遮罩台座，係接近並面向該搬送中之被曝光體的面而保持有該光罩；攝影機構，係具有沿該被曝光體搬送方向之交叉方向而呈一直線狀般排列之複數個感光元件，且針對該光罩之曝光位置而拍攝沿著該搬送方向之相反方向遠離一定距離的位置；以及對位裝置，係針對藉由該攝影機構而以一定之時間間隔所拍攝而成的複數個圖像逐次進行處理，以檢測出於該感光元件排列方向上之輝度變化位置，在該被曝光體移動一定距離之期間內，將該感光元件之排列方向上之相同位置處所檢測出的該輝度變化次數沿著被曝光體搬送方向累積計算，以獲得對應於該所檢測出之輝度變化位置而排列之複數個邊緣個數的資料，將針對與該圖樣相同形狀的圖樣而預先設定有單位邊緣個數資料之模板，一邊從該所算出之複數個邊緣個數資料之排列方向的一端朝向另一端移動，並一邊針對該所算出之複數個邊緣個數資料來進行相關計算，以獲得複數個相關值資料，由該複數個相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料，來特定出複數個圖樣的位置，由該被特定出之複數個圖樣的位置來選出接近至該攝影機構所預先設定之目標位置的圖樣位置，計算出該被選出之圖樣位置與該攝影機構的目標位置之間的位置偏差量，使得該位置偏差量達預設值般地來至少讓該遮罩台座沿著該被曝光體搬送方向之交叉方向而相對移動，以進行該光罩與該被曝光體之間的位置對準。
藉由上述結構，則能夠一邊將具有矩陣狀特定圖樣的被曝光體沿一方向搬送，一邊藉由具有沿著一直線狀般排列在被曝光體搬送方向的交叉方向之複數個感光元件的攝影機構，來對以一定之時間間隔所拍攝而成的複數個圖像逐次進行處理，以檢測出於該感光元件排列方向上之輝度變化位置；在被曝光體移動一定距離之期間內，將該感光元件之排列方向上之相同位置處所檢測出的輝度變化次數沿著被曝光體搬送方向累積計算，以獲得對應於該所檢測出之輝度變化位置而排列之複數個邊緣個數的資料；將針對與該圖樣相同形狀的圖樣而預先設定有單位邊緣個數資料之模板，一邊從該所算出之複數個邊緣個數資料之排列方向的一端朝向另一端移動，並一邊針對所算出之複數個邊緣個數資料來進行相關計算，以獲得複數個相關值資料；並由該複數個相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料，來特定出複數圖樣的位置；由該特定出之複數圖樣的位置來選出接近至攝影機構所預先設定之目標位置的圖樣位置，並計算出該被選出之圖樣位置與該攝影機構的目標位置之間的位置偏差量；使得該位置偏移量達預設值般地來至少讓將接近並面向搬送中之被曝光體的面而保持有光罩之遮罩台座沿著被曝光體搬送方向之交叉方向而相對移動，以進行光罩與被曝光體之間的位置對準，並從光源放射出紫外線來對被曝光體進行曝光。藉此，即便被曝光體所形成之圖樣的圖形很複雜，仍可針對移動中之被曝光體的攝影圖像逐次地進行處理，而容易地檢測出排列在被曝光體搬送方向的交叉方向之複數圖樣的位置。因此，依所檢測出之圖樣的位置作為基準，能夠讓光罩追隨著朝搬送方向之交叉方向邊搖晃邊搬送的被曝光體之移動，並能夠相對於被曝光體之圖樣而高精度地對光罩之開口部進行位置對準來曝光。又，相較於二次元圖像的圖樣匹配法，能夠縮小電路規模，且能以高速來進行圖像處理。因此，可縮短曝光步驟的時間。
再者，該對位裝置係在特定出該複數個圖樣的位置之後，計算出該複數個圖樣之鄰近線對的中點位置，且由該複數個中點位置中，選出接近至該攝影機構所預先設定之目標位置的中點位置，再計算出該被選出之中點位置與該攝影機構之目標位置之間的位置偏差量。藉此，能夠利用對位裝置而在特定出複數個圖樣的位置之後，計算出該複數個圖樣之鄰近線對的中點位置，且由該複數個中點位置中，選出接近至該攝影機構所預先設定之目標位置的中點位置，再計算出該被選出之中點位置與攝影機構之目標位置之間的位置偏差量。因此，能夠檢測出被特定出之複數圖樣之鄰近線對的中點位置，並以該中點位置為基準來進行被曝光體與光罩之間的位置對準。
然後，該對位裝置係在檢測出由亮轉暗以及由暗轉亮的輝度變化位置，並分別累積計算該由亮轉暗以及由暗轉亮的輝度變化次數來獲得各邊緣個數之資料後，針對該所算出之各邊緣個數的資料進行相關計算，來求得對應於由亮轉暗的輝度變化之複數個相關值資料以及對應於由暗轉亮的輝度變化之複數個相關值資料，更進一步地，將該複數個相關值資料中的鄰近線對平均以獲得平均化相關值資料，之後再由該平均化相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料，來特定出複數個圖樣的位置。藉此，能夠利用對位裝置而在檢測出由亮轉暗以及由暗轉亮的輝度變化位置，並分別累積計算該由亮轉暗以及由暗轉亮的輝度變化次數來獲得各邊緣個數之資料後，針對該所算出之各邊緣個數的資料進行相關計算，來求得對應於由亮轉暗的輝度變化之複數個相關值資料以及對應於由暗轉亮的輝度變化之複數個相關值資料，更進一步地，將該複數個相關值資料中的鄰近線對平均以獲得平均化相關值資料，之後再由該平均化相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料，來特定出複數個圖樣的位置。因此，能夠更高精度地進行圖樣位置的特定。從而能夠更加提高被曝光體與光罩的對位精度。
以下，根據添附圖式來詳細說明本發明之實施形態。圖1係本發明曝光裝置之實施形態的正面圖。該曝光裝置係針對具有矩陣狀特定圖樣且沿一方向搬送中的被曝光體來進行光罩之位置對準並曝光，且具備了搬送機構1、曝光光學系統2、遮罩台座3、攝影機構4、照明用光源5及對位裝置6。
另外，於此處係說明被曝光體為如圖2所示般例如形成有矩陣狀般地塊狀矩陣(block matrix)的矩形像素7(圖樣)之彩色濾光片基板8，且如圖2所示朝箭頭A方向進行搬送之情況。
該搬送機構1係於上方面處載置彩色濾光片基板8並朝圖1中箭頭A方向進行搬送，將於上方面具有噴氣用之複數個噴出孔與吸氣用之複數個吸引孔的複數個單元台座9沿彩色濾光片基板8搬送方向(以下稱作「基板搬送方向」)排列設置，藉由氣體之噴出與吸氣間的平衡來讓彩色濾光片基板8於複數個單元台座9上浮起特定距離之狀態下，由搬送滾筒10來支撐彩色濾光片基板8兩端緣部以進行搬送。
於該搬送機構1上方設置有曝光光學系統2。該曝光光學系統2係將均勻光源光線L1照射至後述光罩11，且從光線路徑之上游往下游依序具備有曝光用光源12、圖像積光器(photo integrator)13及集光透鏡(Condenser Lens)14。
此處，曝光用光源12會放射出紫外線，可為雷射振盪器或氙閃光燈等。又，圖像積光器13能將從曝光用光源12所放射出之光源光線L1於橫剖面內形成均勻之輝度分佈，可為蠅眼透鏡(fly's-eye lens)或柱狀透鏡(rod lens)、抑或光導管(light pipe)等。然後，集光透鏡14能讓光源光線L1形成平行光線而照射至光罩11。
該搬送機構1與曝光光學系統2之間處設置有遮罩台座3。該遮罩台座3係與搬送中之彩色濾光片基板8之面呈平行般面向地接近該面而保持有光罩11，且於中央部形成開口15以保持光罩11之緣部的結構。
如圖3所示，該光罩11中，形狀與該像素7約略相同的開口部(以下稱作「遮罩圖樣16」)會與平行於箭頭A(基板搬送方向)之中心線具有一定之位置關係，且係以該像素7於圖2中箭頭A之交叉(垂直)方向之配列間距的3倍間距來排列有複數個般而形成。又，於遮罩圖樣16列的側邊處，相距一定距離而形成有平行於遮罩圖樣16列之細長狀觀看窗17，透過該觀看窗17並藉由後述的攝影機構4則可對彩色濾光片基板8表面進行攝影。然後，如圖3所示，使得遮罩圖樣16列之側能位於箭頭A所示基板搬送方向前方側般地而被保持於遮罩台座3處。另外，本實施形態中，遮罩圖樣16於基板搬送方向(箭頭A方向)之交叉方向的寬度尺寸係與像素7於相同方向上之排列間距相等。
更具體說明，光罩11係於透明玻璃基板18之一面處形成有鉻(Cr)遮光膜19且於該遮光膜19處形成有該遮罩圖樣16及觀看窗17，於玻璃基板18之另一面則對應於遮罩圖樣16列而形成有反射防止膜，並對應於觀看窗17而形成有能讓可見光穿透且能反射紫外線的濾光膜(filter)。然後，如圖1所示，將形成有遮光膜19之面作為下方側而保持於遮罩台座3。
該搬送機構1的上方設置有攝影機構4。該攝影機構4會在與光罩11曝光位置之基板搬送方向的相反方向相距一定距離之位置處，針對彩色濾光片基板8所形成之複數個像素7進行攝影，如圖3所示，係於基板搬送方向(箭頭A方向)之交叉方向呈一直線狀排列而具有複數個感光元件20的線性CCD(感測器)。又，在線性感光部的特定位置(圖3中的中心位置)處，預先設定有作為進行彩色濾光片基板8與光罩11之位置對準目標的目標位置T。然後，於本實施形態中，攝影機構4係使得該目標位置T能如圖3所示般地與平行於基板搬送方向(箭頭A)之光罩11中心線形成一致而加以設置。
從該搬送機構1朝向攝影機構4之光線路徑因半透鏡27而被分支之光線路徑上係設置有照明用光源5。該照明用光源5會穿過光罩11之觀看窗17而使得照明光線L2照射至彩色濾光片基板8，藉由彩色濾光片基板8之反射光則攝影機構4可拍攝彩色濾光片基板8的像素7，而為主要地放射可見光之鹵素燈等。
與該遮罩台座3及攝影機構4成為一體般地，且能於彩色濾光片基板8面之平行面內沿基板搬送方向之交叉方向進行移動般地設置有對位裝置6。該對位裝置6會針對藉由攝影機構4以一定時間間隔所拍攝而成的複數個一維圖像逐次進行處理，以檢測出於攝影機構4之感光元件20之排列方向上由亮轉暗及由暗轉亮變化的輝度變化之位置，在彩色濾光片基板8移動一定距離之期間內，將感光元件20之排列方向上之相同位置處所檢測出的該輝度變化之次數沿基板搬送方向累積計算以獲得對應於由亮轉暗及由暗轉亮變化的輝度變化位置之複數個邊緣個數(edge number)之資料(參照圖6(c))，針對與彩色濾光片基板8的像素7相同形狀的圖樣，將預先設定有單位邊緣個數資料之模板26(參照同圖(d))，從該所算出之複數個邊緣個數資料之排列方向的一端朝向另一端邊移動邊針對該所算出之複數個邊緣個數資料來進行相關計算，以求得對應於由亮轉暗的輝度變化之複數個第1相關值資料(參照同圖(e)之實線)，同時，在求得對應於由暗轉亮的輝度變化之複數個第2相關值資料(參照同圖(e)之虛線)後，利用上述複數個第1及第2相關值資料來將鄰近線對平均以求得平均化相關值資料(參照同圖(f))，更進一步地由該平均化相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料來特定出複數個像素7的位置，並計算出該被特定出之複數個像素7之鄰近線對的中點位置，而由該複數個中點位置選出接近至攝影機構4所預先設定之目標位置T的中點位置，以計算出該被選出之中點位置與攝影機構4之目標位置T之間的位置偏差量，而使得該位置偏差量達預設值般地來讓光罩11沿基板搬送方向之交叉方向而相對移動，以進行光罩11與彩色濾光片基板8之間的位置對準(alignment)。如圖4所示，該對位裝置6具備有對位機構21、位置偏差量檢測出部22及對位機構驅動控制器23。另外，本實施形態中，由於遮罩圖樣16於基板搬送方向之交叉方向的寬度尺寸係與像素7於相同方向上之排列間距相等，因此藉由該對位，便可讓遮罩圖樣16之平行於基板搬送方向(箭頭A方向)的兩端緣部位在相鄰接之像素7間的中間位置處。
於此處，該對位機構21會與遮罩台座3及攝影機構4成為一體般地，於彩色濾光片基板8面之平行面內沿基板搬送方向之交叉方向進行移動，且係由例如馬達與滑動台座等所組成。又，該位置偏差量檢測出部22會針對攝影機構4所拍攝而成的圖像進行處理以計算出光罩11與彩色濾光片基板8之間的位置偏差量。如圖4所示，其係由圖像處理部24以及由CPU組成的演算部25所構成。此時，圖像處理部24之功能在於針對由攝影機構4於一定之時間間隔所拍攝而成的複數個圖像逐次進行處理，以檢測出於攝影機構4之感光元件20之排列方向上由亮轉暗及由暗轉亮變化的輝度變化之位置，並在彩色濾光片基板8移動一定距離之期間內，將感光元件20之排列方向上之相同位置處所檢測出的該輝度變化次數沿基板搬送方向累積計算以獲得對應於由亮轉暗及由暗轉亮變化的輝度變化位置之複數個邊緣個數之資料(此處所述，並非是當攝影機構4於讀取一列之資料中，將所獲得之邊緣個數累積計算出的資料)，針對與彩色濾光片基板8的像素7相同形狀的圖樣，將預先設定有單位邊緣個數資料之模板26，從該所算出之複數個邊緣個數資料之排列方向的一端朝向另一端邊移動邊針對該所算出之複數個邊緣個數資料來進行相關計算，以求得對應於由亮轉暗的輝度變化之複數個第1相關值資料，同時，求得對應於由暗轉亮的輝度變化之複數個第2相關值資料後，利用上述複數個第1及第2相關值資料來將鄰近線對平均以求得平均化相關值資料，更進一步地由該平均化相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料來特定出複數個像素7的位置。又，演算部25之功能在於計算出圖像處理部24所特定出之複數個像素7之鄰近線對的中點位置，再由該複數個中點位置中，選出接近至攝影機構4所預先設定之目標位置T的中點位置，以計算出該被選出之中點位置與攝影機構4之目標位置T之間的位置偏差量，且藉由軟體來進行演算處理。然後，對位機構驅動控制器23會驅動並控制對位機構21的馬達，來讓遮罩台座3與攝影機構4成為一體般地移動，以使得演算部25所計算出的該位置偏差量達預設值。
接下來，針對上述結構之曝光裝置的動作及本發明之對位方法，參照圖5的流程圖來加以說明。
首先，將塗佈有特定彩色光阻的彩色濾光片基板8定位而載置於搬送機構1上之預定位置，朝圖1所示箭頭A方向以一定速度進行搬送。
然後，當彩色濾光片基板8之基板搬送方向前方側到達攝影機構4的攝影位置時，便藉由攝影機構4來開始攝影。此時，照明用光源5之照明光線L2會通過光罩11的觀看窗17而照射至彩色濾光片基板8，而在彩色濾光片基板8所反射之照明光線L2便會使得攝影機構4感光。藉此，便可藉由攝影機構4來針對彩色濾光片基板8所形成之複數個像素7於基板搬送方向(箭頭A)之交叉方向上的一維圖像來進行攝影。前述之攝影機構4的攝影動作，會在每當彩色濾光片基板8移動了感光元件20於基板搬送方向(圖3所示箭頭A方向)之寬度的約略相等距離時實施。此外，經由上述落射照明所拍攝之圖像如圖6(a)所示，像素7的緣部會成為邊緣黑色的線畫圖形。
此處，首先，步驟S1中，由攝影機構4以一定之時間間隔所拍攝而成的圖像會在圖像處理部24處逐次進行處理，而在基板搬送方向的交叉方向分別檢測出彩色濾光片基板8之像素7由亮轉暗的輝度變化之複數個邊緣(參照圖6(b)之實線)，以及由暗轉亮的輝度變化之複數個邊緣(參照同圖(b)之虛線)。
步驟S2中，當彩色濾光片基板8移動了像素7於基板搬送方向之排列間距的相等距離之期間，將攝影機構4之感光元件20於排列方向上之相同位置處所檢測出之由亮轉暗的輝度變化次數沿著基板搬送方向累積計算，以獲得對應於所檢測出之輝度變化位置而排列之複數個邊緣個數的資料(參照圖6(c)之實線)，並將所檢測出之由暗轉亮的輝度變化次數沿著基板搬送方向累積計算，以獲得對應於所檢測出之輝度變化位置而排列之複數個邊緣個數的資料(參照圖6(c)之虛線)。
步驟S3中係針對與彩色濾光片基板8的像素7相同形狀的圖樣，將預先設定有單位邊緣個數資料之模板26(參照圖6(d))從該所算出之複數個邊緣個數資料之排列方向的一端朝向另一端邊移動(參照同圖(c)之箭頭B)邊針對該所算出之複數個邊緣個數資料來進行相關計算，以求得對應於由亮轉暗的輝度變化之複數個第1相關值資料(參照同圖(e)之實線)，同時，求得對應於由暗轉亮的輝度變化之複數個第2相關值資料(參照同圖(e)之虛線)。此時，可根據複數個第1相關值資料來特定出同圖(c)之箭頭B方向上的複數個第1像素位置，並可根據複數個第2相關值資料來特定出複數個第2像素位置。此處，模板26的中心座標係設定為與同圖(d)上方所示之像素7的中心對齊。因此，上述第1相關值資料與第2相關值資料便會顯現在原本會相互對齊之各像素7的中心位置。然而實際上，會有因攝影機構4之感光元件20的檢出精度而造成第1相關值資料與第2相關值資料如同圖(e)所示般不會對齊的情況。因此，本實施形態中為了更加提高各像素7位置的特定精度，而利用上述第1及第2相關值資料來將鄰近線對平均以獲得平均化相關值資料(參照同圖(f))。
步驟S4中係從步驟S3所獲得之平均化相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料來特定出複數個像素7的位置(參照圖6(f))。
步驟S5中係計算出步驟S4所特定之複數個像素7之鄰近線對的中點位置。此時，該中點位置係相當於鄰接像素7間之塊狀矩陣上的中心位置。
步驟S6中係從步驟S5所算出之複數個中點位置中來選出接近至攝影機構4所設定之目標位置T的中點位置。
步驟S7中係計算出步驟S6所選擇之中點位置與攝影機構4所設定之目標位置T之間的位置偏差量。
步驟S8中係藉由對位機構驅動控制器23來驅動控制對位機構21之馬達，使得步驟S7所計算出之位置偏差量會達到預設值(例如零)般地，讓遮罩台座3與攝影機構4一體般地朝基板搬送方向之交叉方向移動，以進行光罩11之遮罩圖樣16與彩色濾光片基板8之像素7之間的位置對準。
然後，該步驟S1～S8會在彩色濾光片基板8移動中經常地實施，便可一邊針對移動中的彩色濾光片基板8進行與光罩11的位置對準，且一邊進行曝光。因此，即便彩色濾光片基板8係邊朝左右搖晃邊搬送，亦可讓光罩11自動地追隨著彩色濾光片基板8的移動以進行曝光，故可提高重合曝光精度。
此情況下，上述步驟S4中，獲得超過預設閾值的複數個相關值資料(亦即檢測出像素7)時立刻根據搬送機構1所具備之位置感測器(省略圖示)的輸出來開始計算彩色濾光片基板8的移動距離，當彩色濾光片基板8移動一定距離而使得基板搬送方向前側的像素7到達光罩11之遮罩圖樣16正下方時，將曝光用光源12開啟一定時間即可。藉此，則可使光源光線L1照射在光罩11一定時間來對彩色濾光片基板8之像素7上的彩色光阻進行曝光。
之後，每當彩色濾光片基板8移動相等於圖2所示之像素7之基板搬送方向(箭頭A方向)的配列間距之距離時，便開啟曝光用光源12一定時間來進行曝光。抑或，亦可以各像素7的檢出時為基準來控制光源光11的照射時間點。藉此，則可如圖7之斜線所示般地在彩色濾光片基板8的目標像素7上曝光形成對應色的彩色光阻。
此外，上述實施形態中係針對利用第1及第2相關值資料來將鄰近線對平均而獲得平均化相關值資料，更進一步地從該平均化相關值資料中超過預設閾值的相關值資料來特定出複數個像素7的位置之情況加以說明，但本發明並非限定於此，而亦可從第1或第2相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料來特定出複數個像素7的位置。
又，上述實施形態中係針對利用被特定位置之複數個像素7來計算出複數個鄰近線對的中點位置，並從該複數個鄰近線對的中點位置來選出接近至攝影機構4所預先設定之目標位置T的中點位置，以計算出該被選出之中點位置與攝影機構4的目標位置T之間的位置偏差量之情況來加以說明，但本發明並非限定於此，亦可從所特定出之複數個像素7的位置來選出接近至攝影機構4所預先設定之目標位置T之像素7的位置，以計算出該被選出之像素7的位置與攝影機構4的目標位置T之間的位置偏差量。
再者，本實施形態中，係針對對位裝置6會讓遮罩台座3與攝影機構4一體般地沿基板搬送方向之交叉方向移動之情況加以說明，但本發明並非限定於此，亦可僅移動遮罩台座3。此時，只要可藉由線性標度尺等來量測遮罩台座3之移動距離的結構，便可讓遮罩台座3移動相等於彩色濾光片基板8之該被選出之中點位置與攝影機構4之目標位置T之間的位置偏差量的距離。或是，對位裝置6亦可係使得彩色濾光片基板8沿基板搬送方向之交叉方向移動之結構。
又再者，本實施形態中，係針對被曝光體的表面形成有較單純圖形之圖樣(像素7)的彩色濾光片基板8之情況加以說明，但本發明並非限定於此，被曝光體可形成有任意圖樣，例如可為於像素7內具有複雜導線圖樣的TFT基板。然後，特別是對於前述形成有複雜圖形之圖樣的被曝光體，仍可有效地發揮本發明之特徵。
然後，本實施形態中，係針對照明為落射照明之情況加以說明，但本發明並非限定於此，而亦可為照明係穿透被曝光體之穿透式照明。
A．．．箭頭
L1．．．光源光線
L2．．．照明光線
1．．．搬送機構
2．．．曝光光學系統
3．．．遮罩台座
4．．．攝影機構
5．．．照明用光源
6．．．對位裝置
7．．．像素
8．．．彩色濾光片基板
9．．．單元台座
10．．．搬送滾筒
11‧‧‧光罩
12‧‧‧曝光用光源
13‧‧‧圖像積光器
14‧‧‧集光透鏡
15‧‧‧開口
16‧‧‧遮罩圖樣
17‧‧‧觀看窗
18‧‧‧透明玻璃基板
19‧‧‧遮光膜
20‧‧‧感光元件
22‧‧‧位置偏差量檢出部
23‧‧‧對位機構驅動控制器
24‧‧‧圖像處理部
25‧‧‧演算部
26‧‧‧模板
27‧‧‧半透鏡
圖1係顯示本發明曝光裝置之實施形態的正面圖。
圖2係顯示本實施形態中所使用之彩色濾光片基板的平面圖。
圖3係顯示本實施形態中所使用之光罩的平面圖，且為說明其與攝影機構之間位置關係的說明圖。
圖4係顯示本發明對位裝置之實施形態的方塊圖。
圖5係顯示本發明之對位方法的流程圖。
圖6(a)~圖6(f)係本發明之對位方法的說明圖，(a)係顯示彩色濾光片基板的落射照明圖像，(b)係顯示(a)之彩色濾光片基板上沿像素搬送方向之平行緣部的檢出結果，(c)係顯示對應於上段像素列之邊緣個數資料，(d)係顯示對應於上段像素列之單位邊緣個數資料所構成的模板，(e)係顯示將(d)相對於(c)進行相關比較所獲得之相關值資料，(f)係顯示將(e)之相關值資料中的鄰近線對平均所獲得之平均化相關值資料。
圖7係顯示針對上述彩色濾光片基板上的曝光範例之說明圖。
A．．．箭頭
L1．．．光源光線
L2．．．照明光線
1．．．搬送機構
2．．．曝光光學系統
3．．．遮罩台座
4．．．攝影機構
5．．．照明用光源
6．．．對位裝置
8．．．彩色濾光片基板
9．．．單元台座
10．．．搬送滾筒
11．．．光罩
12．．．曝光用光源
13．．．圖像積光器
14．．．集光透鏡
15．．．開口
16．．．遮罩圖樣
19．．．遮光膜
27．．．半透鏡

Claims (11)

  1. 一種對位方法，係針對具有矩陣狀特定圖樣且沿一方向搬送中的被曝光體來進行光罩之位置對準，其特徵在於係實施下述步驟：藉由具有沿著一直線狀般排列在該被曝光體搬送方向的交叉方向之複數個感光元件的攝影機構，來對以一定之時間間隔所拍攝而成的複數個圖像逐次進行處理，以檢測出於該感光元件排列方向上之輝度會變化的複數位置；依所檢測出該感光元件之排列方向上的複數個該輝度變化之位置，來將在該被曝光體移動一定距離之期間內所檢測出的輝度變化次數沿著被曝光體搬送方向分別累積計算，而於該被曝光體搬送方向之交叉方向獲得複數個邊緣個數的資料；將針對與該圖樣相同形狀的圖樣而預先設定有單位邊緣個數資料之模板，一邊從該所算出之複數個邊緣個數資料之排列方向的一端朝向另一端移動，並一邊進行求得與該所算出之複數個邊緣個數資料之相似度的相關計算，以獲得表示相似度之複數個相關值資料；由該複數個相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料，來特定出複數個圖樣的各中心位置；由該被特定出之複數個圖樣的各中心位置來 選出接近至該攝影機構所預先設定之目標位置的圖樣中心位置；計算出該被選出圖樣之中心位置與該攝影機構的目標位置之間的位置偏差量；以及使得該位置偏差量達預設值般地來至少讓該光罩沿著該被曝光體搬送方向之交叉方向而相對移動，以進行該光罩與該被曝光體之間的位置對準。
  2. 如申請專利範圍第1項之對位方法，其中在特定出該複數個圖樣的各中心位置之後，取代了選出接近至該攝影機構所預先設定之目標位置的圖樣中心位置的步驟，而實施下述步驟：計算出該複數個圖樣之鄰近線對的中點位置；以及由該複數個中點位置來選出接近至該攝影機構所預先設定之目標位置的中點位置；於計算出該位置偏差量的步驟中，係計算出該被選出之中點位置與該攝影機構之目標位置之間的位置偏差量。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之對位方法，其中於檢測出該輝度變化位置之步驟中，係檢測出由亮轉暗以及由暗轉亮的輝度變化位置；於獲得該複數個邊緣個數資料之步驟中，係分別累積計算由亮轉暗以及由暗轉亮的輝度變化次數，以獲得各邊緣個數之資料； 於獲得該複數個相關值資料之步驟中，係針對該所算出之各邊緣個數的資料來進行相關計算，而求得對應於由亮轉暗的輝度變化之複數個相關值資料以及對應於由暗轉亮的輝度變化之複數個相關值資料後，將該複數個相關值資料中的鄰近線對平均以獲得複數個平均化相關值資料；於特定出該複數個圖樣的各中心位置之步驟中，係由該複數個平均化相關值資料中超過預設閾值的複數個平均化相關值資料，來特定出複數個圖樣的各中心位置。
  4. 如申請專利範圍第1項之對位方法，其中該攝影機構係經由落射照明來拍攝該被曝光體的圖樣。
  5. 如申請專利範圍第1項之對位方法，其中該被曝光體係形成有導線圖樣的TFT基板。
  6. 一種對位裝置，係針對具有矩陣狀特定圖樣且沿一方向搬送中的被曝光體來進行光罩之位置對準，其特徵在於具備有：圖像處理部，係藉由具有沿著一直線狀般排列在該被曝光體搬送方向的交叉方向之複數個感光元件的攝影機構，來對以一定之時間間隔所拍攝而成的複數個圖像逐次進行處理，以檢測出於該感光元件排列方向上之輝度會變化的複數個位置，，依所檢測出該感光元件之排列方向上的複數個該輝度變化之位置，來將在該被曝光體移動一定距離之 期間內所檢測出的輝度變化次數沿著被曝光體搬送方向分別累積計算，以於該被曝光體搬送方向之交叉方向獲得複數個邊緣個數的資料，將針對與該圖樣相同形狀的圖樣而預先設定有單位邊緣個數資料之模板，一邊從該所算出之複數個邊緣個數資料之排列方向的一端朝向另一端移動，並一邊進行求得與該所算出之複數個邊緣個數資料之相似度的相關計算，以獲得表示相似度之複數個相關值資料，並由該複數個相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料，來特定出複數個圖樣的各中心位置；演算部，係由該被特定出之複數個圖樣的各中心位置來選出接近至該攝影機構所預先設定之目標位置的圖樣中心位置，並計算出該被選出圖樣之中心位置與該攝影機構的目標位置之間的位置偏差量；以及對位機構，係使得該位置偏差量達預設值般地來至少讓該光罩沿著該被曝光體搬送方向之交叉方向而相對移動，以進行該光罩與該被曝光體之間的位置對準。
  7. 如申請專利範圍第6項之對位裝置，其中該演算部係計算出該被特定出之複數圖樣之鄰近線對的中點位置，且由該複數個中點位置中，選出接近至該攝影機構所預先設定之目標位置的中點位置，再計 算出該被選出之中點位置與該攝影機構之目標位置之間的位置偏差量。
  8. 如申請專利範圍第6或7項之對位裝置，其中該圖像處理部係在檢測出由亮轉暗以及由暗轉亮的輝度變化位置，並分別累積計算該由亮轉暗以及由暗轉亮的輝度變化次數來獲得各邊緣個數之資料後，針對該所算出之各邊緣個數的資料進行相關計算，來求得對應於由亮轉暗的輝度變化之複數個相關值資料以及對應於由暗轉亮的輝度變化之複數個相關值資料，更進一步地，將該複數個相關值資料中的鄰近線對平均以獲得複數個平均化相關值資料，之後再由該複數個平均化相關值資料中超過預設閾值的複數個平均化相關值資料，來特定出複數個圖樣的各中心位置。
  9. 一種曝光裝置，係針對具有矩陣狀特定圖樣且沿一方向搬送中的被曝光體來進行光罩之位置對準與曝光，其特徵在於具備有：光源，係放射出紫外線；遮罩台座，係接近並面向該搬送中之被曝光體的面而保持有該光罩；攝影機構，係具有沿該被曝光體搬送方向之交叉方向而呈一直線狀般排列之複數個感光元件，且針對該光罩之曝光位置而拍攝沿著該搬送方向之相反方向遠離一定距離的位置；以及 對位裝置，係針對藉由該攝影機構而以一定之時間間隔所拍攝而成的複數個圖像逐次進行處理，以檢測出於該感光元件排列方向上之輝度會變化的複數個位置；依所檢測出該感光元件之排列方向上之該輝度的變化之複數個位置，來將在該被曝光體移動一定距離之期間內所檢測出的輝度變化次數沿著被曝光體搬送方向分別累積計算，以於該被曝光體搬送方向之交叉方向獲得複數個邊緣個數的資料；將針對與該圖樣相同形狀的圖樣而預先設定有單位邊緣個數資料之模板，一邊從該所算出之複數個邊緣個數資料之排列方向的一端朝向另一端移動，並一邊進行求得與該所算出之複數個邊緣個數資料之相似度的相關計算，以獲得表示相似度之複數個相關值資料；由該複數個相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料，來特定出複數個圖樣的各中心位置；由該被特定出之複數個圖樣的各中心位置來選出接近至該攝影機構所預先設定之目標位置的圖樣中心位置；計算出該被選出圖樣之中心位置與該攝影機構的目標位置之間的位置偏差量；使得該位置偏差量達預設值般地來至少讓該遮罩台座沿著該被曝光體搬送方向之交叉方向而相對移動，以進行該光罩與該被曝光體之間的位置對準。
  10. 如申請專利範圍第9項之曝光裝置，其中該對位裝 置係在特定出該複數個圖樣的位置之後，計算出該複數個圖樣之鄰近線對的中點位置，且由該複數個中點位置中，選出接近至該攝影機構所預先設定之目標位置的中點位置，再計算出該被選出之中點位置與該攝影機構之目標位置之間的位置偏差量。
  11. 如申請專利範圍第9或10項之曝光裝置，其中該對位裝置係在檢測出由亮轉暗以及由暗轉亮的輝度變化位置，並分別累積計算該由亮轉暗以及由暗轉亮的輝度變化次數來獲得各邊緣個數之資料後，針對該所算出之各邊緣個數的資料進行相關計算，來求得對應於由亮轉暗的輝度變化之複數個相關值資料以及對應於由暗轉亮的輝度變化之複數個相關值資料，更進一步地，將該複數個相關值資料中的鄰近線對平均以獲得平均化相關值資料，之後再由該平均化相關值資料中超過預設閾值的複數個相關值資料，來特定出複數個圖樣的各中心位置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5261847B2 (ja) * 2009-06-16 2013-08-14 株式会社ブイ・テクノロジー アライメント方法、アライメント装置及び露光装置
JP5633021B2 (ja) 2009-06-29 2014-12-03 株式会社ブイ・テクノロジー アライメント方法、アライメント装置及び露光装置
JP6006552B2 (ja) * 2012-07-09 2016-10-12 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 位置予測装置、位置予測方法、および、基板処理装置
TWI475339B (zh) * 2012-12-22 2015-03-01 C Sun Mfg Ltd 待曝光基材及底片的對位方法及系統
JP2019096757A (ja) * 2017-11-24 2019-06-20 東京エレクトロン株式会社 測定器のずれ量を求める方法、及び、処理システムにおける搬送位置データを較正する方法
JP6940873B2 (ja) * 2017-12-08 2021-09-29 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置および露光方法
CN111354670B (zh) * 2018-12-20 2023-05-26 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司 对准方法、对准系统及计算机可读存储介质
CN114944127A (zh) * 2022-06-30 2022-08-26 昆山国显光电有限公司 显示面板的对位方法、显示面板的伽马调试方法及装置
CN116996749B (zh) * 2023-09-27 2023-12-15 北京仁光科技有限公司 多监控画面下的远程目标对象跟踪系统和方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200532399A (en) * 2004-03-23 2005-10-01 Adtec Eng Co Ltd Exposure device and positioning method
TW200625013A (en) * 2004-09-27 2006-07-16 Seiko Epson Corp Alignment method of exposure mask and manufacturing method of thin film element substrate
WO2007113933A1 (ja) * 2006-04-05 2007-10-11 Sharp Kabushiki Kaisha 露光方法および露光装置
CN100479097C (zh) * 2004-08-19 2009-04-15 株式会社尼康 对准信息显示方法及其程序、对准方法、曝光方法、组件制造方法、显示系统、显示装置、程序及测定/检查装置
TW200923419A (en) * 2005-01-21 2009-06-01 Nikon Corp Illumination optical device, exposure device, exposure method, and fabricating method of device

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0480762A (ja) * 1990-07-23 1992-03-13 Canon Inc 位置検出装置及びその検出方法
JP5145530B2 (ja) * 2005-10-07 2013-02-20 株式会社ブイ・テクノロジー フォトマスク及びそれを用いた露光方法
JP4754924B2 (ja) * 2005-10-07 2011-08-24 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置
JP5382899B2 (ja) * 2005-10-25 2014-01-08 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置
JP4764237B2 (ja) * 2006-04-11 2011-08-31 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置
JP2008076709A (ja) 2006-09-21 2008-04-03 V Technology Co Ltd 露光装置
JP4971835B2 (ja) * 2007-03-02 2012-07-11 株式会社ブイ・テクノロジー 露光方法及び露光装置
JP4874876B2 (ja) * 2007-06-15 2012-02-15 Ｎｓｋテクノロジー株式会社 近接スキャン露光装置及びその露光方法
JP5235061B2 (ja) * 2007-08-30 2013-07-10 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置
JP5235062B2 (ja) * 2007-08-31 2013-07-10 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置
JP5633021B2 (ja) 2009-06-29 2014-12-03 株式会社ブイ・テクノロジー アライメント方法、アライメント装置及び露光装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200532399A (en) * 2004-03-23 2005-10-01 Adtec Eng Co Ltd Exposure device and positioning method
CN100479097C (zh) * 2004-08-19 2009-04-15 株式会社尼康 对准信息显示方法及其程序、对准方法、曝光方法、组件制造方法、显示系统、显示装置、程序及测定/检查装置
TW200625013A (en) * 2004-09-27 2006-07-16 Seiko Epson Corp Alignment method of exposure mask and manufacturing method of thin film element substrate
TW200923419A (en) * 2005-01-21 2009-06-01 Nikon Corp Illumination optical device, exposure device, exposure method, and fabricating method of device
WO2007113933A1 (ja) * 2006-04-05 2007-10-11 Sharp Kabushiki Kaisha 露光方法および露光装置

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