JP4168344B2 - 露光マスクの位置合わせ方法、及び薄膜素子基板の製造方法 - Google Patents
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Description
SID03 Digest, P-40, pp.350-353.
そこで、本発明の目的は、同一の露光マスクにおけるアライメントマーク間の最小許容間隔を保ちつつ、対象体のアライメントマークに必要な領域を縮小することのできる露光マスクの位置合わせ方法、これを用いた薄膜素子基板の製造方法を提供することにある。
少なくとも連続する三回の位置合わせのうち、前記対象体上における3回目の位置合わせ用のアライメントマークを、2回目及び1回目それぞれの位置合わせ用のアライメントマークの間に設けるか又は1回目の位置合わせ用のアライメントマークに対して2回目の位置合わせ用のアライメントマークのある側とは反対側に設けて位置合わせを行うとともに、
それぞれのアライメントマークを、アライメントマークを形成すべき領域の中央から右側領域と左側領域とに交互に設けて位置合わせを行うことを特徴とする露光マスクの位置合わせ方法。
かかる方法によれば、対象体のアライメントマークに必要な領域をより効率的に縮小することができる。
前記1又は2記載の露光マスクの位置合わせ方法を用いて位置合わせを行う第1工程と、
前記ホログラムマスク上から露光ビームを照射することにより、前記対象体を露光してパターニングを行う第2工程と、を含むことを特徴とする薄膜素子基板の製造方法。
前記ホログラムマスクにアライメントマークを含む所望のパターンを記録する第1工程と、
前記1又は2記載の露光マスクの位置合わせ方法を用いて位置合わせを行う第2工程と、
前記ホログラムマスク上から露光ビームを照射することにより、前記対象体を露光してパターニングを行う第3工程と、を含むことを特徴とする薄膜素子基板の製造方法。
かかる方法によれば、対象体上のアライメントマークを別途形成する必要がなくなるので、作業工程を減らすことが可能となり、生産効率を向上させることが可能となる。
図1は、本実施形態に係る露光マスクの位置合わせ方法を実施するためのホログラフィック露光装置の全体構成を示す図である。
図3(A)に示すように、プリズム201に貼り合わせられたホログラムマスク200aのホログラム記録面202に、例えばCr製の第1の原版マスク300(元レチクルともいう)を用いて第1のレチクルパターンに対応する干渉縞を記録する。第1のレチクルパターンには、少なくとも目的とする薄膜素子基板における薄膜素子を含む薄膜回路に対応するパターンが含まれる。
図5(A)に示すように、プリズム201に貼り合わせられたホログラムマスク200bのホログラム記録面202に、例えばCr製の第2の原版マスク302を用いて第2のレチクルパターンに対応する干渉縞を記録する。第2のレチクルパターンには、少なくとも薄膜素子基板における薄膜素子を含む薄膜回路に対応するパターンが含まれる。干渉縞を記録する工程は、図3(A)の工程と同様の方法、即ち、物体光L1と参照光L2の照射により行われる。この際、他のホログラムマスクと被露光基板210との位置合わせを行うためのアライメントマークP13、P23も形成される。また、この干渉縞を記録する工程とは別に、物体光L1のみを照射することにより、ホログラムマスク200bのホログラム記録面202に、アライメントマークP12、P22、P32、P42を形成する。ここで形成されるアライメントマークP12〜P42とP13、P23は、その目的を異にしている。即ち、前者は第1のパターニングに対してアライメントマークを行うための上層側のマークであるのに対し、後者はいわゆる第3層目のホログラムマスクとアライメントマークを行う下層側のマークとなる。両者は、図8に示す方法と同様な方法でつくり分けられる。
まず、第2の感光性材料膜212bが形成された被露光基板210とホログラムマスク200bとの位置合わせを、被露光基板210上に形成されたアライメントマークA1〜A4とホログラムマスク200bに形成されたアライメントマークP12、P22、P32、P42(図5(B))とを重ね合わせることにより行う。具体的には、図1に示したように、ホログラムマスク200bと被露光基板210を所定位置に設置した後、各アライメントマークが観察される位置に設置された顕微鏡292によりプリズム201の垂直面を介してホログラムマスク200bと被露光基板210のアライメントマークの重なり画像を取り込む。顕微鏡292において取り込んだ画像を画像信号として、位置ずれ検出装置294に送信し、アライメントマークの重なり画像から特徴点を抽出する。例えば、アライメントマークA1の十字の交点とアライメントマークP12のX字の交点の位置を抽出し、この交点間の距離を算出する。この距離情報を第1情報処理装置230に送り、この距離が減少するように、ステージ装置222を駆動してホログラムマスク200bと被露光基板210との位置合わせを行う。
Claims (5)
- アライメントマークが形成された複数のホログラムマスクを用いて、アライメントマークが形成された露光対象となる対象体にパターン露光を行うに際し、両者のアライメントマークを用いて前記ホログラムマスクと前記対象体との位置合わせを複数回行う露光マスクの位置合わせ方法であって、
少なくとも連続する三回の位置合わせのうち、前記対象体上における3回目の位置合わせ用のアライメントマークを、2回目及び1回目それぞれの位置合わせ用のアライメントマークの間に設けるか又は1回目の位置合わせ用のアライメントマークに対して2回目の位置合わせ用のアライメントマークのある側とは反対側に設けて位置合わせを行うとともに、
それぞれのアライメントマークを、アライメントマークを形成すべき領域の中央から右側領域と左側領域とに交互に設けて位置合わせを行うことを特徴とする露光マスクの位置合わせ方法。 - 前記対象体上における奇数回目の位置合わせ用のアライメントマークと、偶数回目の位置合わせ用のアライメントマークとを、それぞれの配置領域に交互に設けて位置合わせを行う、請求項1記載の露光マスクの位置合わせ方法。
- アライメントマークが形成された複数のホログラムマスクを用いてパターン露光を行うホログラム露光を利用した薄膜素子基板の製造方法であって、
請求項1又は2記載の露光マスクの位置合わせ方法を用いて位置合わせを行う第1工程と、
前記ホログラムマスク上から露光ビームを照射することにより、前記対象体を露光してパターニングを行う第2工程と、を含むことを特徴とする薄膜素子基板の製造方法。 - アライメントマークが形成された複数のホログラムマスクを用いてパターン露光を行うホログラム露光を利用した薄膜素子基板の製造方法であって、
前記ホログラムマスクにアライメントマークを含む所望のパターンを記録する第1工程と、
請求項1又は2記載の露光マスクの位置合わせ方法を用いて位置合わせを行う第2工程と、
前記ホログラムマスク上から露光ビームを照射することにより、前記対象体を露光してパターニングを行う第3工程と、を含むことを特徴とする薄膜素子基板の製造方法。 - 前記対象体のアライメントマークが、該対象体上に最初のパターンを露光する際に形成される、請求項3又は請求項4に記載の薄膜素子基板の製造方法。
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