JP4487243B2 - 露光装置 - Google Patents
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Description
クルーベら(F. Clube et al.),「低温ポリシリコンディスプレイのための0.5μmが可能なリソグラフィー("0.5mm Enabling Lithography for Low-temperature Polysilicon Displays")」、インフォメーションディスプレイ学会 2003 国際シンポジウム 技術論文ダイジェスト、34巻、ブックI、p.350−353(SOCIETY FOR INFORMATION DISPLAY, 2003 INTERNATIONAL SYMPOSIUM, DIGEST OF TECHNICAL PAPERS, VOLUME XXXIV, BOOK I, pp.350-353)、2003年5月20日
図1は、本実施形態の露光装置の全体構成を示す図である。
図1に示すように、本実施形態のホログラフィック露光装置では、ホログラムマスクのアライメントマークが形成された位置に対応する遮光平面内の領域を遮光帯としての例えば遮光板(シャッター)により遮光して、露光することが可能に構成されている。
図3(A)に示すように、プリズム201に貼り合わせられたホログラムマスク200aのホログラム記録面202に、例えばCr製の第1の原版マスク300(元レチクルともいう)を用いて第1のレチクルパターンに対応する干渉縞を記録する。第1のレチクルパターンには、少なくとも薄膜トランジスタ等の薄膜素子を含む薄膜回路に対応するパターンが含まれる。
図5(A)に示すように、プリズム201に貼り合わせられたホログラムマスク200bのホログラム記録面202に、例えばCr製の第2の原版マスク302を用いて第2のレチクルパターンに対応する干渉縞を記録する。第2のレチクルパターンには、少なくとも薄膜トランジスタ等の薄膜素子を含む薄膜回路に対応するパターンが含まれる。干渉縞を記録する工程は、図3(A)の工程と同様の方法により行われる。また、この干渉縞を記録する工程とは別に、物体光L1のみを照射することにより、ホログラムマスク200bのホログラム記録面202に、アライメントマークP12、P22、P32、P42を形成する。
まず、第2の感光性材料膜212bが形成された被露光基板210とホログラムマスク200bとの位置合わせを、被露光基板210上に形成されたアライメントマークA1〜A4とホログラムマスク200bに形成されたアライメントマークP12、P22、P32、P42とを重ね合わせることにより行う。具体的には、図1に示したように、ホログラムマスク200bと被露光基板210を所定位置に設置した後、各アライメントマークが観察される位置に設置された顕微鏡292によりプリズム201の垂直面を介してホログラムマスク200bと被露光基板210のアライメントマークの重なり画像を取り込む。顕微鏡292において取り込んだ画像を画像信号として、位置ずれ検出装置294に送信し、アライメントマークの重なり画像から特徴点を抽出する。例えば、アライメントマークA1の十字の交点とアライメントマークP12のX字の交点の位置を抽出し、この交点間の距離を算出する。この距離情報を第1情報処理装置230に送り、この距離が減少するように、ステージ装置222を駆動してホログラムマスク200bと被露光基板210との位置合わせを行う。
また、シャッターS1〜S4の位置は、図1に示す位置に限定されない。シャッターS1〜S4は、露光光源280から露光ビームがホログラムマスク200を介して感光性材料膜表面214に至るまでの光経路において、ホログラムマスク200に形成されたアライメントマーク(図2中図示せず)が被露光基板210上に露光されないようにし得る位置であれば特に限定されない。すなわち、ホログラムマスク200上のアライメントマークが形成された領域(アライメントマーク形成領域)を通過する露光ビーム又はアライメントマーク形成領域を通過した露光ビームを遮断し得る位置に配置されていればよい。
Claims (3)
- 各々にアライメントマークが形成された複数の露光マスクを用いて任意の露光領域を露光するための露光装置であって、
前記露光領域を露光するための露光ビームを照射する照射手段と、
前記露光ビームのうち前記露光マスクの前記アライメントマークが形成されたアライメント形成領域を透過するビーム又は前記アライメントマーク形成領域を透過して前記露光領域に到達するビームの光経路を途中で遮断するシャッターと、
前記露光ビームを遮断するよう前記シャッターを駆動するための駆動手段と、を備え、
前記シャッターは前記露光ビームの光経路を斜めに遮断するように配置され、
前記駆動手段は、前記露光マスクのアライメント時には前記光経路の外に前記シャッターを移動し、露光時には前記光経路を遮断する位置に前記シャッターを移動することを特徴とする露光装置。 - 前記駆動手段は、前記シャッターを前記光経路を遮断しない開位置と遮断する閉位置間に回転駆動する、請求項1に記載の露光装置。
- 前記露光マスクがホログラムマスクである、請求項1又は2に記載の露光装置。
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