JP5747921B2 - 配向処理装置及び配向処理方法 - Google Patents

Description

本発明は、移動中の基板に複数のフォトマスクを介して偏光を照射し配向状態の異なる二種類のストライプ状の配向領域を交互に形成する配向処理装置に関し、詳しくは、複数のフォトマスクの繋ぎ目で発生する配向乱れを目立たなくしようとする配向処理装置及び配向処理方法に係るものである。

従来のこの種の配向処理装置は、入射角の異なる二つの偏光が夫々通過する複数の第１及び第２の開口を一定の配列ピッチで互い違いに平行に並べて形成したフォトマスクを介して、該フォトマスクの下側を搬送中の基板に上記二つの偏光を照射して基板に塗布された配向膜に配向状態が異なる第１及び第２の配向領域を隣り合わせに形成するものとなっていた（例えば、特許文献１参照）。

特開２０１０−３９４８５号公報

このような従来の配向処理装置において、大面積の基板に対して１回の工程で配向処理を実行する場合には、図１０に示すように、上記複数の第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂが矢印Ａで示す基板搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチＰで並ぶように複数のフォトマスク２を基板搬送方向と交差する方向に互い違いに並べて配置すると共に、フォトマスク２の下側を搬送される基板の搬送方向と交差する方向への動きに各フォトマスク２を追従させるように構成する必要がある。この場合、第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂは、フォトリソグラフィー技術を使用して形成することができるので、同一のフォトマスク２内においては、高い位置精度で形成することができる。したがって、一般には、同図に示すように、同一フォトマスク２内の第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂは、第１及び第２の配向領域３Ａ，３Ｂ（図１１参照）の矢印Ａで示す基板搬送方向と平行な縁部が接した状態で形成されるように、基板搬送方向と交差する方向の幅Ｗが共に同方向への配列ピッチＰと略同じ寸法（Ｗ＝Ｐ）で形成される。

しかし、このようなフォトマスク２を複数使用して配向処理を実行した場合、図１１に示すように、複数のフォトマスク２の繋ぎ目に対応して配向膜には、フォトマスク２の基板９に対する追従精度（±Δｗ）に相当する幅の多重露光領域４が形成され、同領域の配向が乱されることになる。したがって、このような多重露光領域４が存在する配向処理基板９を例えば表示装置に使用した場合には、表示画面に上記多重露光領域４に対応して明線又は暗線のすじが生じるおそれがある。特に、このすじが表示画面の一部に生じたときには、人間の眼は、上記すじを感知し易く、すじを欠陥と認識してしまうという問題がある。

そこで、本発明は、このような問題点に対処し、複数のフォトマスクの繋ぎ目で発生する配向乱れを目立たなくしようとする配向処理装置及び配向処理方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明による配向処理装置は、偏光方向及び基板に対する入射角のうち少なくとも一方が異なる二つの偏光が夫々通過する複数の第１及び第２の開口を一定の配列ピッチで互い違いに平行に並べて形成したフォトマスクと、該フォトマスクの下側を搬送される前記基板の搬送方向と交差する方向への動きに前記フォトマスクを追従させるアライメント手段と、を備え、前記フォトマスクを介して前記基板に前記二つの偏光を照射し、前記基板に塗布された配向膜を露光して該配向膜に、前記第１及び第２の開口に夫々対応させて配向状態が異なる複数の第１及び第２の配向領域を隣り合わせに形成する配向処理装置であって、前記複数の第１及び第２の開口が前記基板の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで並ぶように複数の前記フォトマスクを前記基板の搬送方向と交差する方向に互い違いに並べて有し、前記基板の露光領域全面に亘って前記複数の第１及び第２の配向領域の隣接端部領域が前記アライメント手段の追従精度の絶対値の２倍に等しい寸法だけ重なった状態で形成されるように、前記第１及び第２の開口を、その前記基板搬送方向と交差する方向の幅を互いに異ならせて形成すると共に、基板搬送方向の前後に配置したものである。

このような構成により、配向状態が異なる第１及び第２の配向領域がアライメント手段の追従精度の絶対値の２倍に等しい寸法だけ重なるように、基板搬送方向と交差する方向の幅を互いに異ならせて形成すると共に、基板搬送方向の前後に配置した第１及び第２の開口が基板の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで並ぶように同方向に互い違いに並べて配置した複数のフォトマスクを使用し、各フォトマスクの第１及び第２の開口に夫々偏光方向及び基板に対する入射角のうち少なくとも一方が異なる二つの偏光を入射させ、第１及び第２の開口を通過した二つの偏光をフォトマスクの下側を搬送される基板上の配向膜に照射させて上記第１及び第２の配向領域を隣り合わせに形成する。

また、前記第１の開口には、一定の偏光をビームスプリッタで二つに分離して生成した二つの偏光のうち、一方の偏光を予め定められた角度で入射させ、前記第２の開口には、前記二つの偏光のうち、他方の偏光を前記角度と異なる角度で入射させるものである。これにより、第１の開口に一定の偏光をビームスプリッタで二つに分離して生成した二つの偏光のうち、一方の偏光を予め定められた角度で入射させ、第２の開口に前記二つの偏光のうち、他方の偏光を上記角度と異なる角度で入射させて配向状態の異なる第１及び第２の配向領域を形成する。

さらに、前記ビームスプリッタは、その反射面を前記フォトマスクの前記第１及び第２の開口の中間位置で前記フォトマスクに略垂直に交差する面内に配置して備えられたものである。これにより、反射面がフォトマスクの第１及び第２の開口の中間位置でフォトマスクに略垂直に交差する面内に配置されたビームスプリッタで二つの偏光を生成する。

さらにまた、前記第１の開口には、偏光方向の異なる二つの偏光のうち、一方の偏光を入射させ、前記第２の開口には、前記二つの偏光のうち、他方の偏光を入射させるものである。これにより、１の開口に偏光方向の異なる二つの偏光のうち、一方の偏光を入射させ、第２の開口に上記二つの偏光のうち、他方の偏光を入射させて配向状態の異なる第１及び第２の配向領域を形成する。

そして、前記複数のフォトマスクは、基板搬送方向に見て互いに隣接するフォトマスクの端部領域が前後に重なるようにすると共に、一方のフォトマスクの前記端部領域に位置する前記第１及び第２の開口と他方のフォトマスクの前記端部領域に位置する第１及び第２の開口とが基板搬送方向と交差する方向の同位置となるように配置され、且つ該第１及び第２の開口の面積がフォトマスクの中央部の開口の面積の半分となるように形成されたものである。これにより、基板搬送方向に見て互いに隣接するフォトマスクの端部領域内にて基板搬送方向と交差する方向の同位置に先後して位置し、中央部の開口の面積の半分の面積となるように形成された第１の開口同士及び第２の開口同士で多重露光して、上記端部領域に対応した配向膜に第１及び第２の配向領域を形成する。

また、本発明による配向処理方法は、基板を一定方向に一定速度で搬送しながら、前記基板の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで互い違いに平行に並べてフォトマスクに形成された第１及び第２の開口を、偏光方向及び前記基板に対する入射角のうち少なくとも一方が異なる二つの偏光を夫々通過させて前記基板に照射させ、前記基板に塗布された配向膜を露光して該配向膜に配向状態が異なる複数の第１及び第２の配向領域を隣り合わせに形成する配向処理方法であって、前記複数の第１及び第２の開口の前記基板搬送方向に平行な隣接端部が前記基板搬送方向に見て、前記基板の搬送方向と交差する方向への動きに対する前記フォトマスクの追従精度の絶対値の２倍に等しい寸法だけ重なるように、前記第１及び第２の開口を、その前記基板搬送方向と交差する方向の幅を互いに異ならせて形成すると共に、基板搬送方向の前後に配置させた複数の前記フォトマスクを、前記複数の第１及び第２の開口が前記基板の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで並ぶように前記基板の搬送方向と交差する方向に互い違いに並べて使用し、前記各フォトマスクを前記基板の搬送方向と交差する方向への動きに追従させながら、前記二つの偏光を前記第１及び第２の開口を通過させて前記基板に照射させ、前記基板の露光領域全面に亘って前記複数の第１及び第２の配向領域を隣接端部領域が互いに重なった状態で形成するものである。

請求項１又は６に係る発明によれば、基板の露光領域全体に亘って第１及び第２の配向領域の隣接端部領域が重なった状態で複数の第１及び第２の配向領域を形成することができる。したがって、複数のフォトマスクの繋ぎ目で発生する配向乱れを目立たなくすることができる。

さらに、請求項２に係る発明によれば、液晶表示装置のＴＦＴ基板又はカラーフィルタ基板の配向処理を容易に行なうことができる。

また、請求項３に係る発明によれば、ビームスプリッタで分離された二つの偏光を夫々フォトマスクの第１及び第２の開口に直接入射させることができる。したがって、変更光学系を構成する部品の数を減らして装置のコストを低減することができる。

さらに、請求項４に係る発明によれば、３Ｄ液晶テレビ用の偏光フィルタ製造を容易に行なうことができる。

そして、請求項５に係る発明によれば、基板搬送方向に見て隣接するフォトマスクの端部領域に基板搬送方向に先後して位置する第１の開口同士及び第２の開口同士で多重露光してもオーバー露光とならず、適切な露光量で配向処理を行なうことができる。また、フォトマスクが蛇行しながら搬送される基板に追従して微動した際にも、未露光部が生じるおそれがない。

本発明による配向処理装置の第１の実施形態の概略構成を示す正面図である。 使用するフォトマスクの一構成例を示す平面図である。 図２のフォトマスクを使用した配向処理を示す説明図である。 第１の実施形態に使用される露光光学系の一構成例を示す正面図である。 上記フォトマスクの別の構成例を示す平面図である。 図５のフォトマスクを使用した配向処理を示す説明図である。 図２に示すフォトマスクの変形例を示す平面図である。 図５のフォトマスクの変形例を示す平面図である。 本発明の配向処理装置の第２の実施形態を示す要部拡大正面図である。 従来技術の配向処理装置により大面積の基板に対して配向処理を実施する際のフォトマスクの配置例を示す平面図である。 図１０に示すフォトマスクを使用した配向処理を示す平面図である。

以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明による配向処理装置の第１の実施形態の概略構成を示す正面図である。この配向処理装置は、基板を移動しながら配向状態の異なる二種類のストライプ状の配向領域を交互に形成するもので、搬送手段５と、複数のフォトマスク２と、複数の偏光光学系６と、複数のアライメント手段７と、を備えてなる。

上記搬送手段５は、ステージ８の上面８ａに配向膜を塗布した基板９を載置して図１に示す矢印Ａ方向に一定速度で搬送するものであり、例えばステージ８の上面８ａからエアを噴出及び吸引して基板９を一定量浮上させた状態で基板９の矢印Ａに平行な両端縁部を図示省略の搬送機構により保持して基板９を搬送するようになっている。

上記搬送手段５の上面８ａに対向して複数のフォトマスク２が配置されている。この複数のフォトマスク２は、図２に示すように、夫々、入射角が異なる二つの偏光Ｌが夫々通過する複数の第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂを一定の配列ピッチＰで互い違いに平行に並べて形成したもので、複数の第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂが矢印Ａで示す基板９の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチＰで並ぶように基板搬送方向（矢印Ａ方向）と交差する方向に互い違いに並べて設けられており、夫々図示省略のマスクステージに保持されている。そして、各フォトマスク２は、後述のアライメント手段７によって、下側を搬送される基板９の基板搬送方向と交差する方向への動きに追従して微動するようになっている。これにより、搬送中の基板９に複数のフォトマスク２を介して上記二つの偏光Ｌを照射し、基板９に塗布された配向膜に、図３に示すように配向状態が異なる複数の第１及び第２の配向領域３Ａ，３Ｂを隣り合わせに形成することができるようになっている。

本実施形態においては、フォトマスク２の第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂは、図３に示すように第１及び第２の配向領域３Ａ，３Ｂの隣接端部領域１０がアライメント手段７の追従精度（±Δｗ）の絶対値の２倍に略等しい寸法（２Δｗ）だけ重なるように、第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂの基板搬送方向と交差する方向の幅が設定されて形成されている。

より詳細には、上記フォトマスク２は、図２に示すように第１の開口１Ａの基板搬送方向と交差する方向の幅が配列ピッチＰと同じ寸法Ｗ₁であり、第２の開口１Ｂの同方向の幅が寸法Ｗ₂（＞Ｗ₁）であるように複数の第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂを互いに異なる寸法で形成すると共に、基板搬送方向に見て第１の開口１Ａと第２の開口１Ｂの隣接端部が寸法２Δｗだけ重なるように第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂを基板搬送方向の前後に配置して形成している。この場合、複数のフォトマスク２は、前述したように複数の第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂが矢印Ａで示す基板９の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチＰで並ぶように基板搬送方向（矢印Ａ方向）と交差する方向に互い違いに並べて設けられているため、図２に示すように隣接するフォトマスク２の一方のフォトマスク２の繋ぎ目に位置する第１の開口１Ａと、他方のフォトマスク２の同じ繋ぎ目に位置する第１の開口１Ｂの基板搬送方向に平行な隣接端部も、基板搬送方向に見て寸法２Δｗだけ重なることになる。

上記各フォトマスク２の上方には、夫々偏光光学系６が設けられている。この偏光光学系６は、上記フォトマスク２の第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂに、夫々、基板９に対する入射角度が異なる偏光Ｌを通過させるように構成されたものであり、本実施形態においては、偏光方向が基板搬送方向（矢印Ａ方向）に平行な二つの偏光Ｌをフォトマスク２のマスク面（又は基板９面）に対して異なる角度、例えば±４５°で入射させるようになっている。

上記偏光光学系６の具体的構成例は、図４に示すように光の進行方向上流側から下流に向かって紫外線を放射する例えば超高圧水銀ランプの光源１１と、該光源１１から放射されたランダム光のうち偏光方向が基板搬送方向に平行な偏光Ｌを選択的に透過させる偏光板１２と、反射面１３ａを光軸に対して傾けて配置し、上記偏光Ｌの半分を透過させ、残りの半分を反射させる５０％ビームスプリッタ（以下「ハーフミラー１３」という）とを、この順に備えたものである。この場合、同図に示すように、上記ハーフミラー１３の反射面１３ａをフォトマスク２の第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂの中間位置でフォトマスク２に略垂直に交差する面内に配置すると、二方向に分離された偏光Ｌを夫々異なる角度（±θ）でフォトマスク２の第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂに直接入射させることができ、偏光光学系６を構成する部品点数を減らすことができる。

もちろん、ハーフミラー１３の反射面１３ａで二方向に分離された各偏光Ｌをさらに反射ミラーで反射させてフォトマスク２の第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂに夫々異なる角度で入射させてもよい。

上記各フォトマスク２を夫々個別に基板搬送方向と交差する方向に微動可能に複数のアライメント手段７が設けられている。このアライメント手段７は、フォトマスク２の下側を矢印Ａ方向に搬送される基板９の基板搬送方向と交差する方向への動きに各フォトマスク２を追従させるためのものであり、例えば図示省略の制御手段によって制御されて駆動する電磁アクチュエータや電動式Ｘステージ等からなっている。

次に、このように構成された配向処理装置の動作及び配向処理方法について説明する。
先ず、スピンコートやスプレーコート等によりガラス基板上に配向膜を一定の厚みに形成した例えばカラーフィルタ基板（基板９）を搬送手段５のステージ８の上面８ａに位置決めして載置し、矢印Ａ方向に一定速度で移動させる。

続いて、基板９上に矢印Ａで示す基板搬送方向に一定間隔で形成された基準パターンの基準位置（例えばカラーフィルタ基板の各ピクセルの基板搬送方向に平行な縁部）を、基板搬送方向に向かってフォトマスク２の手前側の位置で図示省略の撮像手段により検出し、撮像手段に予め設定した基準位置（例えば撮像中心）に対する上記基準パターンの基準位置の基板搬送方向と交差する方向の水平距離を演算し、予め記憶された目標値と比較して位置ずれ量を算出する。そして、該位置ずれ量を補正するようにアライメント手段７によりフォトマスク２を基板搬送方向と交差方向に微動させながら、基板９の同方向への動きに追従させる。

同時に、図４に示すように、偏光光学系６によりフォトマスク２の第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂに対して夫々異なる入射角θ（例えば±４５°）で紫外線の偏光Ｌを入射させ、第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂを通過した偏光Ｌにより基板９上の配向膜を露光する。

これにより、配向膜には、図３に示すように、第１の開口１Ａに対応して矢印Ａ方向に伸びたストライプ状の複数の第１の配向領域３Ａと、第２の開口１Ｂに対応して矢印Ａ方向に伸び、第１の配向領域３Ａの配向状態と異なる配向状態のストライプ状の複数の第２の配向領域３Ｂとが基板搬送方向と交差する方向に交互に並んで形成される。この場合、第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂは、図２に示すように基板搬送方向に見て第１の開口１Ａと第２の開口１Ｂの隣接端部が寸法２Δｗだけ重なるように形成されているので、図３に示すように基板９の露光領域全体に亘って第１及び第２の配向領域３Ａ，３Ｂの隣接端部領域１０が寸法２Δｗだけ重なった状態で形成されることになる。したがって、各フォトマスク２の繋ぎ目の多重露光領域４に相当部分で発生する配向乱れを目立たなくすることができる。

なお、上記撮像手段を基板搬送方向と交差方向に複数の受光素子を一直線状に連ねて配置したラインＣＣＤとすれば、位置検出をリアルタイムで行なうことができ、基板９とフォトマスク２との位置合わせを高速で行なうことができる。したがって、基板９の搬送速度をより速くして配向処理工程のタクトをより短縮することができる。

図５は、フォトマスク２の別の構成例であり、第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂの基板搬送方向（矢印Ａ方向）と交差する方向の幅を共に等しくすると共に、基板搬送方向に見て隣接する第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂの隣接端部が寸法Δｗだけ重なるように上記幅を配列ピッチＰよりも大きい寸法Ｗ₃で形成したものである。この場合も、第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂに入射角の異なる二つの偏光Ｌを夫々入射させ、各開口１Ａ，１Ｂを通過した二つの偏光により基板９の配向膜を露光すれば、図６に示すように基板９の露光領域全体に亘って第１及び第２の配向領域３Ａ，３Ｂの隣接端部領域１０が寸法Δｗだけ重なった状態で形成されることになる。したがって、この場合も、各フォトマスク２の繋ぎ目の多重露光領域４に相当部分で発生する配向乱れを目立たなくすることができる。

図７は図２のフォトマスクの変形例を示す平面図であり、図８は図５のフォトマスクの変形例を示す平面図である。
いずれの変形例も、複数のフォトマスク２を基板搬送方向に見て互いに隣接するフォトマスク２の端部領域１４が前後に重なるようにすると共に、一方のフォトマスク２の端部領域１４に位置する第１及び第２の開口１Ａａ，１Ｂａと他方のフォトマスク２の対応する端部領域１４に位置する第１及び第２の開口１Ａｂ，１Ｂｂとが基板搬送方向と交差する方向の同位置となるように配置し、且つ該第１及び第２の開口１Ａａ，１Ａｂ，１Ｂａ，１Ｂｂの面積がフォトマスク２の中央部の開口１Ａ，１Ｂの面積の半分となるように形成されている。

この場合、上記端部領域１４に対応する第１及び第２の配向領域３Ａ，３Ｂは、多重露光により形成されるが、同領域１４に位置する第１及び第２の開口１Ａａ，１Ａｂ，１Ｂａ，１Ｂｂの面積がフォトマスク２の中央部の開口１Ａ，１Ｂの面積の半分となるように形成されているので、多重露光されてもオーバー露光とならず、適切な露光量で配向処理を行なうことができる。また、上記端部領域１４内に位置する第１及び第２の開口１Ａａ，１Ａｂ，１Ｂａ，１Ｂｂが基板搬送方向の前後に重なるように配置されているので、フォトマスク２が蛇行しながら搬送される基板９に追従して微動した際にも、未露光部が生じるおそれがない。

図９は、本発明による配向処理装置の第２の実施形態を示す要部拡大図である。
この第２の実施形態は、偏光光学系６が、偏光ビームスプリッタ１５により分離された偏光方向の異なる二つの偏光Ｌ（Ｐ偏光及びＳ偏光）のうち、一方の偏光Ｌ（Ｓ偏光）をフォトマスク２の第１の開口１Ａに入射させ、他方の偏光Ｌ（Ｐ偏光）をフォトマスク２の第２の開口１Ｂに入射させる点において上記第１の実施形態と相違する。この場合、Ｐ偏光及びＳ偏光の入射角度は、同じであっても異なっていてもよい。図９においては、各偏光Ｌをフォトマスク２に垂直に入射させた場合を示している。なお、同図において、符号１６は全反射ミラーである。

この第２の実施形態において使用するフォトマスク２は、図２に示すものであっても、図５に示すものであってもよい。この場合、基板９の露光領域全体に亘って、配向方向が互いに直交するストライプ状の複数の第１の配向領域３Ａと複数の第２の配向領域３Ｂとが隣接端部領域１０を寸法２Δｗだけ重ね合わせた状態で交互に形成されることになる。

なお、上記第１及び第２の実施形態においては、フォトマスク２の第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂを通過し、基板９に照射する偏光Ｌにビームの広がりがないものとして、上記第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂと第１及び第２の配向領域３Ａ，３Ｂの基板搬送方向と交差する方向の幅を同じ寸法で記載したが、ビームの広がりがある場合には、その広がり量を考慮して第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂの基板搬送方向と交差する方向の幅を第１及び第２の配向領域３Ａ，３Ｂの同方向の幅よりも狭く形成するとよい。

また、以上の説明においては、偏光光学系６が一つの光源１１から放射される光を二つの偏光Ｌに分離するものである場合について述べたが、本発明はこれに限定されず、第１及び第２の開口１Ａ，１Ｂに対応させて夫々独立した光源１１を設けてもよい。この場合、各光源１１の前方には、光源１１から放射される光から予め定められた偏光方向の直線偏光Ｌを選択的に透過させる偏光板を設けるとよい。

１Ａ，１Ａａ，１Ａｂ…第１の開口
１Ｂ，１Ｂａ，１Ｂｂ…第２の開口
２…フォトマスク
３Ａ…第１の配向領域
３Ｂ…第２の配向領域
７…アライメント手段
９…基板
１０…隣接端部領域
１３…ハーフミラー（ビームスプリッタ）
１３ａ…反射面
１４…フォトマスクの端部領域

Claims (6)

1. 偏光方向及び基板に対する入射角のうち少なくとも一方が異なる二つの偏光が夫々通過する複数の第１及び第２の開口を一定の配列ピッチで互い違いに平行に並べて形成したフォトマスクと、該フォトマスクの下側を搬送される前記基板の搬送方向と交差する方向への動きに前記フォトマスクを追従させるアライメント手段と、を備え、前記フォトマスクを介して前記基板に前記二つの偏光を照射し、前記基板に塗布された配向膜を露光して該配向膜に、前記第１及び第２の開口に夫々対応させて配向状態が異なる複数の第１及び第２の配向領域を隣り合わせに形成する配向処理装置であって、
   前記複数の第１及び第２の開口が前記基板の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで並ぶように複数の前記フォトマスクを前記基板の搬送方向と交差する方向に互い違いに並べて有し、
   前記基板の露光領域全面に亘って前記複数の第１及び第２の配向領域の隣接端部領域が前記アライメント手段の追従精度の絶対値の２倍に等しい寸法だけ重なった状態で形成されるように、前記第１及び第２の開口を、その前記基板搬送方向と交差する方向の幅を互いに異ならせて形成すると共に、基板搬送方向の前後に配置したことを特徴とする配向処理装置。
2. 前記第１の開口には、一定の偏光をビームスプリッタで二つに分離して生成した二つの偏光のうち、一方の偏光を予め定められた角度で入射させ、
   前記第２の開口には、前記二つの偏光のうち、他方の偏光を前記角度と異なる角度で入射させることを特徴とする請求項１記載の配向処理装置。
3. 前記ビームスプリッタは、その反射面を前記フォトマスクの前記第１及び第２の開口の中間位置で前記フォトマスクに略垂直に交差する面内に配置して備えられたことを特徴とする請求項２記載の配向処理装置。
4. 前記第１の開口には、偏光方向の異なる二つの偏光のうち、一方の偏光を入射させ、
   前記第２の開口には、前記二つの偏光のうち、他方の偏光を入射させることを特徴とする請求項１記載の配向処理装置。
5. 前記複数のフォトマスクは、基板搬送方向に見て互いに隣接するフォトマスクの端部領域が前後に重なるようにすると共に、一方のフォトマスクの前記端部領域に位置する前記第１及び第２の開口と他方のフォトマスクの前記端部領域に位置する第１及び第２の開口とが基板搬送方向と交差する方向の同位置となるように配置され、且つ該第１及び第２の開口の面積がフォトマスクの中央部の開口の面積の半分となるように形成されたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の配向処理装置。
6. 基板を一定方向に一定速度で搬送しながら、前記基板の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで互い違いに平行に並べてフォトマスクに形成された第１及び第２の開口を、偏光方向及び前記基板に対する入射角のうち少なくとも一方が異なる二つの偏光を夫々通過させて前記基板に照射させ、前記基板に塗布された配向膜を露光して該配向膜に配向状態が異なる複数の第１及び第２の配向領域を隣り合わせに形成する配向処理方法であって、
   前記複数の第１及び第２の開口の前記基板搬送方向に平行な隣接端部が前記基板搬送方向に見て、前記基板の搬送方向と交差する方向への動きに対する前記フォトマスクの追従精度の絶対値の２倍に等しい寸法だけ重なるように、前記第１及び第２の開口を、その前記基板搬送方向と交差する方向の幅を互いに異ならせて形成すると共に、基板搬送方向の前後に配置させた複数の前記フォトマスクを、前記複数の第１及び第２の開口が前記基板の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで並ぶように前記基板の搬送方向と交差する方向に互い違いに並べて使用し、
   前記各フォトマスクを前記基板の搬送方向と交差する方向への動きに追従させながら、前記二つの偏光を前記第１及び第２の開口を通過させて前記基板に照射させ、
   前記基板の露光領域全面に亘って前記複数の第１及び第２の配向領域を隣接端部領域が互いに重なった状態で形成する、
   ことを特徴とする配向処理方法。