CN110045548B - 掩膜设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种掩膜设备，用于对液晶基板上的配向膜进行光配向，液晶基板包括像素区，掩膜设备包括第一图形区域和第二图形区域；第一图形区域包括沿着第一方向交替设置的第一透光区和第一遮光区，第一透光区与所述第一遮光区的宽度之和等于像素区中一个子像素区的宽度；第二图形区域包括沿着第一方向交替设置的第二透光区和第二遮光区，第二透光区与第二遮光区的宽度之和等于像素区中一个子像素区的宽度，沿着第一方向，相邻的第一遮光区和第二遮光区之间具有可供紫外光透过的透光间隙，能够使液晶基板上的每个子像素区的中心和边缘形成规则的暗纹，从而提高液晶显示屏的显示效果。

Description

掩膜设备
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种掩膜设备。
背景技术
UV2A(Ultra Violet Vertical Alignment)技术是一种采用紫外线(UV＝UltraViolet)进行液晶配向的VA(Vertical Alignment，垂直配向)面板技术，其名称来源于紫外线UV与液晶基板VA模式的相乘，其原理是利用UV光来实现液晶分子的精准配向控制，UV2A技术能够通过配向膜实现所有液晶分子向设计方向倾斜的状态，所以在载入电场时，液晶分子可以同时向同一方向倾倒，使响应速度增至原来的2倍，且由于其不使用突起和狭缝隙也能分割成多个区域，因此其开口率与原来的利用突起形成多区域相比得到显著的提高，还具有降低耗电，节省成本等优点。目前是使用掩膜版对基板上的配向膜进行紫外线扫描曝光处理，以实现对配向膜的配向处理。
目前，现有的UV2A配向为将液晶基板分割成多个区域，以部分改变配向方向，其中，液晶基板可以是TFT基板或者CF基板。目前使用的配向方式多为采用掩膜版扫描曝光的方式。图1是现有的掩膜版对液晶基板进行配向前的俯视图暗纹。参照图1所示，以液晶基板100上由水平排列的三个子像素区110(红色R、绿色G、蓝色B)组成的一个像素单元为例进行配向过程的说明。继续参照图1，下文以中间的子像素区110(也即绿色子像素区112)为例，简要介绍其配向过程以便本领域技术人员更好的理解相关技术背景，本领域技术人员应该理解，在现有技术中，其他子像素区(红色子像素区111、蓝色子像素区113)同样按照下述方式进行配向。
掩膜版200包括第一图形区域210和第二图形区域220，在第一图形区域210上设置有沿掩膜版200的横向交替排列的第一透光区211和第一遮光区212，第二图形区域220上设置有沿掩膜版200的横向交替排列的第二透光区221和第二遮光区222，第一透光区211的宽度与第一遮光区221的宽度之和等于绿色子像素区112的宽度，第二透光区221的宽度与第二遮光区222的宽度之和等于绿色子像素区112的宽度，也即是说，第一透光区221和第一遮光区212的宽度之和等于一个子像素区110的宽度，同理，第二透光区221和第二遮光区222的宽度之和也等于一个子像素区110的宽度。其中，第一透光区211的宽度等于第一遮光区212的宽度，第二透光区221的宽度等于第二遮光区222的宽度。
配向前，将液晶基板100放置在掩膜版200的下方，且第一图形区域210的第一透光区211被配置成在液晶基板100上的投影正好覆盖绿色子像素区112的右半部分，第二图形区域220的第二遮光区221被配置成在液晶基板100上的投影正好覆盖绿色子像素区112的左半部分。
配向时，液晶基板100从图1所示的上方往下方移动，以便依次经过第一图形区域210和第二图形区域220。在经过第一图形区域210时，紫外线透过第一透光区211对绿色子像素区112的右半部分进行曝光；液晶基板100在经过第二图形区域220时，紫外线透过第二透光区221对绿色子像素区112的左半部分进行曝光，以此完成对绿色子像素区112所对应的部分配向膜的光配向。配向过程中，紫外线的照射方向与液晶基板100的移动方向平行，且在使用掩膜版200的第一图形区域210和第二图形区域220对液晶基板100进行曝光时所使用的紫外光的照射方向相反。
然而，在上述的配向过程中，因掩膜设备和制程的精度问题，导致在子像素区110的中心和边缘出现不规则的重复曝光区域，从而使得子像素区110的中心和边缘产生不规则且杂乱无章的暗纹，从而影响液晶显示屏的显示效果。
发明内容
本发明提供一种掩膜设备，能够使液晶基板上每个子像素区的中心和边缘形成规则的暗纹，从而提高液晶显示屏的显示效果。
本发明提供一种掩膜设备，用于对液晶基板上的配向膜进行光配向，所述液晶基板包括像素区，所述掩膜设备包括第一图形区域和第二图形区域；
所述第一图形区域用于在第一光照方向对所述配向膜进行光配向；所述第一图形区域包括沿着第一方向交替设置的第一透光区和第一遮光区，所述第一透光区与所述第一遮光区的宽度之和等于所述像素区中一个子像素区的宽度；
所述第二图形区域用于在第二光照方向对所述配向膜进行光配向；所述第二图形区域包括沿着所述第一方向交替设置的第二透光区和第二遮光区，所述第二透光区与所述第二遮光区的宽度之和等于所述像素区中一个子像素区的宽度，且所述第一透光区与所述第二透光区沿所述第一方向错位设置；
在所述第一方向上，相邻的所述第一遮光区和所述第二遮光区之间具有透光间隙。
可选地，所述第一透光区的宽度大于所述第一遮光区的宽度，所述第二透光区的宽度大于所述第二遮光区的宽度。
可选地，所述第一遮光区和第二遮光区被配置成在光配向时分别投影在所述子像素区的中心线两侧。
可选地，所述第一遮光区和第二遮光区被配置成在光配向时的投影关于所述中心线对称。
可选地，对应所述子像素区的边缘处的所述透光间隙在光配向时的投影位于所述液晶基板的配线区内，所述配线区位于两个相邻子像素区的交界处且与所述子像素区异层设置。
可选地，所述透光间隙包括与所述子像素区的中心对应的第一透光间隙和与所述子像素区的边缘对应的第二透光间隙；
所述第二透光间隙的宽度大于所述第一透光间隙的宽度。
可选地，所述透光间隙的宽度小于6μm。
可选地，所述第一透光区的宽度等于所述第二透光区的宽度，所述第一遮光区的宽度等于所述第二遮光区的宽度。
可选地，所述掩膜设备包括至少一个掩膜版，所述第一图形区域和所述第二图形区域位于同一个掩膜版上。
可选地，所述掩膜设备包括至少两个掩膜版，所述第一图形区域和所述第二图形区域分别位于不同的掩膜版上。
本发明提供一种掩膜设备，通过在第一图形区域设置沿第一方向交替排列的第一透光区和第一遮光区，在第二图形区域设置沿第一方向交替排列的第二透光区和第二遮光区，并将第一透光区和第一遮光区的宽度之和设置为等于液晶基板上像素区中一个子像素区的宽度，同时将第二透光区和第二遮光区的宽度设置为等于液晶基板上像素区中一个子像素区的宽度，以保证每个子像素区能够得到第一透光区和第二透光区的两次相反方向的曝光，从而提高每个子像素区的光透光率。同时，本发明的掩膜设备通过将第一图形区域上的第一透光区与第二图形区域上的第二透光区在排布时沿第一方向错位设置，以使相邻的第一遮光区和第二遮光区之间在第一方向上形成可供紫外光透过的透光间隙，在采用该掩膜设备对液晶基板进行配向时，将该透光间隙形成的区域在液晶基板上的投影覆盖像素区中子像素区的中心和边缘处的一定区域，使得子像素区的中心和边缘形成规则的交叠曝光区域，从而使得液晶基板的像素区的暗纹的位置及形状更加规整，提高了液晶显示屏的显示效果，同时降低了对掩膜设备的掩膜过程的精度要求。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作以简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有的掩膜版对液晶基板进行配向之前的俯视图；
图2是采用本发明一实施例提供的掩膜设备对液晶基板进行配向之前的俯视图；
图3是图2中I处的局部放大图；
图4是本发明一实施例提供的采用2stage方式对液晶基板进行光配向的示意图；
图5是本发明一实施例提供的采用4stage方式对液晶基板进行光配向的示意图。
附图标记说明：
100、400-液晶基板；
110、410-子像素区；
111、411-红色子像素区；
112、412-绿色子像素区；
113、413-蓝色子像素区；
200、340-掩膜版；
210、310-第一图形区域；
220、320-第二图形区域；
300-掩膜设备；
211、311-第一透光区；
212、312-第一遮光区；
221、321-第二透光区；
222、322-第二遮光区；
330-透光间隙；
331-第一透光间隙；
332-第二透光间隙；
4111-中心线；
4112-边缘线；
420-配线区。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，“多个”的含义是指一个以上，例如两个，四个等，除非另有明确具体的限定。
图2是采用本实施例提供的掩膜设备对液晶基板进行配向之前的俯视图。参照图2所示，本实施例的掩膜设备300用于对液晶基板400上的配向膜进行配向。对于液晶显示面板而言，一般来说，该掩膜设备300需要分别对液晶基板400中的TFT基板上的配向膜和CF基板上的配向膜分别进行配向，使得夹持在TFT侧的基板与CF侧的基板之间的液晶分子在两侧的配向膜的共同影响下发生偏转，从而使液晶基板400正常显示，但应当理解，本发明并不限制掩膜设备必须对TFT基板和CF基板均进行光配向。其中，该液晶面板400包括像素区，在图示中，该像素区具体包括液晶基板400上依次排列的三个子像素区410，分别为红色子像素区411、绿色子像素区412和蓝色子像素区413。可以理解的是，形成该像素区的红色子像素区411、绿色子像素区412和蓝色子像素区413这三个子像素区410的排列顺序可以任意调换，例如，沿子像素区410的排列方向可依次设置绿色子像素区412、红色子像素区411及蓝色子像素区413。
参照图2所示，本实施例的掩膜设备300包括沿图3横向布置且平行的第一图形区域310和第二图形区域320，当然，正如下文将要描述到的，该第一图形区域310和第二图形区域320可以设置在同一块掩膜版340或者分设在两块掩膜版340上。其中，第一图形区域310用于在第一光照方向对液晶基板400上的配向膜进行光配向，第二图形区域320用于在第二光照方向对液晶基板400上的配向膜进行光配向，且第二光照方向与第一光照方向相反。
需要说明的是，该掩膜设备300在对液晶基板400上的配向膜进行光配向时，第一光照方向和第二光照方向均与液晶基板400的移动方向平行，例如，第一光照方向与液晶基板400的移动方向一致，第二光照方向与液晶基板400的移动方向相反，以保证紫外光透过第一图形区域310的第一透光区311和第二图形区域320的第二透光区321对液晶基板400上的配向膜进行有效配向，从而保证配向效果。
如图2所示，第一图形区域310包括沿着第一方向交替设置的第一透光区311和第一遮光区312，且第一透光区311与第一遮光区312的宽度之和等于像素区中一个子像素区410的宽度。第二图形区域320包括沿着第一方向交替设置的第二透光区321和第二遮光区322，且第二透光区321与第二遮光区322的宽度之和等于像素区中一个子像素区410的宽度。其中，第一方向具体指在光配向时与液晶基板400的移动方向垂直的方向，也即与液晶基板400上子像素区410的排布方向平行的方向。由于图3中第一图形区域310和第二图形区域320的长度方向与液晶基板400上子像素区410的排布方向平行，因此，该第一方向为第一图形区域310或者第二图形区域320的长度方向。
本实施例通过将第一图形区域310的第一透光区311和第一遮光区312的宽度之和设置为等于液晶基板300上像素区中一个子像素区410的宽度，并将第二图形区域320的第二透光区321和第二遮光区322的宽度设置为等于液晶基板400上像素区中一个子像素区410的宽度，以保证每个子像素区410能够得到第一透光区311和第二透光区321的两次相反方向的曝光，从而提高每个子像素区410的透光率。
继续参照图2，第一图形区域310的第一透光区311与第二图形区域320的第二透光区321沿第一方向错位设置，且在该第一方向上，相邻的第一遮光区312和第二遮光区322之间具有可供紫外光透过的透光间隙330。
具体的，在第一方向上，相邻的第一遮光区312和第二遮光区322之间形成的透光间隙330即是与该第一遮光区312和第二遮光区322对应的第一透光区311和第二透光区321在第一方向上的重叠区域。
以液晶基板400上的一个子像素区410的配向过程为例，一个子像素区410对应第一图形区域310的一个第一透光区311和第一遮光区312以及第二图形区域320的一个第二透光区321和第二遮光区322。为了使本实施例的掩膜设备在沿第一方向上相邻的第一遮光区312和第二遮光区322之间均形成有透光间隙330，与该子像素区410对应的第二透光区321的宽度大于第一遮光区312的宽度，且第二透光区321的两边分别延伸出第一遮光区312的两边，从而使得位于第二透光区321两侧的第二遮光区322与该第二透光区321对应的第一遮光区312之间在第一方向上形成可供紫外光透过的透光间隙330。
同样的，与子像素区410对应的第一透光区311的宽度也需设置为大于第二遮光区322的宽度，且第一透光区311的两边分别延伸出第二遮光区322的两边，从而使得位于第一透光区311两侧的第一遮光区312与该第一透光区311对应的第二遮光区322之间在第一方向上形成可供紫外光透过的透光间隙330。
可以理解的是，第一图形区域310的第一透光区311和第一遮光区312被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影可以全部位于一个子像素区410内，同理，第二图形区域320的第二透光区321和第二遮光区322被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影也可以全部位于一个子像素区410内。该设置方式使得该掩膜设备上的透光间隙330被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影分别位于靠近子像素区410的中心线4111的区域和靠近子像素区410的边缘线4112的区域，就整个液晶基板400而言，透光间隙330的设置使得子像素区410的中心和边缘形成规则的交叠曝光区域，从而使得液晶基板400的像素区的暗纹的位置及形状更加规整，提高了液晶显示屏的显示效果，同时降低了对掩膜设备的掩膜过程的精度要求。
在另一些示例中，如图2所示，依然以绿色子像素区412的配向过程为例进行解释说明，其中，该绿色子像素区412的左侧为红色子像素区411，右侧为蓝色子像素区413。与绿色子像素区412对应的第一遮光区312在液晶基板400上的投影完全位于绿色子像素区412的左半部分，第一透光区311在光配向时的投影能够覆盖绿色子像素区412的中心线4111和绿色子像素区412右侧的边缘线4112(以图示中第一透光区311位于第一遮光区312的右侧为例)，相应的，第二遮光区322在进行光配向时在液晶基板400上的投影完全位于绿色子像素区412的右半部分，第二透光区321在光配向时的投影能够覆盖绿色子像素区412的中心线4111和绿色子像素区412左侧的边缘线4112。
图3是图2中I处的局部放大图，参照图2和图3所示，也即是说，第一透光区311的其中一部分区域被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影覆盖部分绿色子像素区412，第一透光区311延伸出绿色子像素区412的右侧边缘线的部分(参见图3中的A区域)被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影覆盖部分蓝色子像素区413，相应的，第二透光区321的其中一部分区域被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影覆盖部分绿色子像素区412，第二透光区321延伸出绿色子像素区412的左侧边缘线的部分(参见图3中的B区域)被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影覆盖部分红色子像素区411。上述设置方式避免了因绿色子像素区412与蓝色子像素区413的边界以及绿色子像素区412与红色子像素区411的边界处出现曝光不连续的情况，从而提高液晶显示屏的显示效果。
继续参照图2，采用该掩膜设备对液晶基板400的每个子像素区410进行光配向时，当液晶基板400从图中所示的上方往下方移动的过程中，第一透光区311和第二透光区321在第一方向上的交叠部分(相邻的第一遮光区312与第二遮光区322之间的透光间隙330)在液晶基板400上的投影将覆盖位于像素区上的每个子像素区410的中心和边缘处的一定区域，使得每个子像素区410的中心和边缘形成宽度与透光间隙330的宽度一致的交叠曝光区域，从而暗纹使得每个子像素区410的中心和边缘形成形状规则的暗纹，整体上提高了液晶显示屏的显示效果。
为了减小暗纹宽度，本实施例中，将透光间隙330的宽度设置为小于6μm，以缩小该掩膜设备300配向过程中在每个子像素区410的中心和边缘形成的交叠曝光区域的宽度，从而提高了液晶显示屏的光透过率。参照图2所示，可选地，第一透光区311的宽度大于第一遮光区312的宽度，第二透光区321的宽度大于第二遮光区322的宽度，以便提高液晶基板400的曝光面积，从而提高该掩膜设备对液晶基板400的光配向效率。
需要说明的是，透光间隙330的宽度可以是小于6μm的任意数值，例如，透光间隙330的宽度为2μm、3μm、4μm等。优选地，透光间隙330的宽度为3μm，能够避免子像素区410出现曝光不连续或者重复曝光区域过大的问题，从而提高液晶显示屏的均匀度和透光率。具体而言，透光间隙330的宽度过小，会使得该掩膜设备300在光配向过程中在液晶基板400的每个子像素区410的中心和边缘处因精度问题产生不规则的交叠曝光区域，从而在液晶基板400上产生不规则且杂乱无章的暗纹，而透光间隙300过大，会使得子像素区410的中心和边缘产生宽度较大的交叠曝光区域，从而降低了液晶显示屏的光透过率，也会影响显示效果。
继续参照图2，当第一透光区311的宽度大于第一遮光区312的宽度，第二透光区321的宽度大于第二遮光区322的宽度时，液晶基板400上的每个子像素区410具有一中心线4111，第一遮光区312和第二遮光区322被配置成在光配向时分别投影在该中心线4111的两侧，这样便使得用于配向同一个子像素区410的第一遮光区312和第二遮光区322之间形成的透光间隙330被配置成在光配向时在该子像素区410上的投影覆盖该子像素区410的中心线4111，从而使得该掩膜设备在配向过程中在子像素区410的中心位置形成宽度与透光间隙330的宽度一致交叠曝光区域，暗纹从而使得液晶基板400上每个子像素区410的中心处的暗纹的宽度更加均一，暗纹的形状更加规整，从而提高了显示效果，同时也减小了配向过程的精度要求。
可选地，与一个子像素区410对应的第一遮光区312和第二遮光区322被配置成在光配向时的投影关于该子像素区410的中心线4111对称，也即是说，该第一遮光区312和第二遮光区322之间形成的透光间隙330的中心线与子像素区410的中心线4111重合，如此，该掩膜设备对液晶基板400配向后，在液晶基板400上每个子像素区410的中心形成的暗纹的两侧边缘线4112与中心线4111的距离相等，使得暗纹在液晶基板400上的分布更加规整，因此，本实施例的掩膜设备在保证光透过率的基础上，也进一步提高了液晶显示屏的显示效果。
当然，在某些示例中，与一个子像素区410对应的第一遮光区312和第二遮光区322被配置成在光配向时的投影也可以关于该子像素区410的中心线4111不对称，只要保证第一遮光区312和第二遮光区322之间形成透光间隙330在配向时覆盖该子像素区410的中心线4111即可。
继续参照图2和图3，本实施例中，液晶基板400上的每个子像素区410所对应的遮光区和透光区的设置方式均是一致的，也就是说，蓝色子像素区413也对应有第一遮光区312，且该第一遮光区312与绿色子像素区412对应的第一透光区311在液晶基板400上的投影位于蓝色子像素区413的部分(参见图3中的A区域))续接，该蓝色子像素区413还对应有第二透光区321，该第二透光区321的其中一部分区域被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影覆盖部分蓝色子像素区413，第二透光区321延伸出蓝色子像素区413的左侧边缘线的部分(参见图3中的B区域)被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影覆盖部分绿色子像素区412，且该第二透光区321的左侧边缘线与绿色子像素区412对应的第二遮光区312续接，从而使得在沿第一方向上，与蓝色子像素区413对应的第一遮光区312和与绿色子像素区412对应的第二遮光区322之间形成可供紫外光透过的透光间隙330，该透光间隙330被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影覆盖绿色子像素区412的右侧的边缘线4112(绿色子像素区412与蓝色子像素区413的交界处)。需要说明的是，上述透光间隙330是由A区域与B区域拼接形成，因此，A区域与B区域的宽度之和可设置为小于6μm，以提高液晶显示屏的光透过率。
同理，位于绿色子像素区412左侧的红色子像素区411对应的第二遮光区322与绿色子像素区412对应的第一遮光区312之间也通过A区域与B区域形成透光间隙330，该透光间隙330被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影覆盖绿色子像素区412的左侧的边缘线4112(绿色子像素区412与红色子像素区411的交界处)。
上述设置方式使得透光间隙330被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影覆盖每个子像素区410相对的两个边缘线4112，从而使得该掩膜设备在配向过程中在子像素区410的边缘位置形成交叠曝光区域，从而使得液晶基板400上每个子像素区410的边缘处的暗纹的宽度更加均一性，暗纹的形状更加规整。
进一步的，对应所述子像素区410的边缘处的透光间隙330在光配向时的投影位于液晶基板400的配线区420内，配线区420位于两个相邻子像素区410的交界处且与子像素区410异层设置。
具体而言，现有技术中，通常会在与液晶基板400的像素区的不同层(液晶基板400的像素区的上层或下层)设置金属走线，且该金属走线形成的配线区420在像素区上的投影位于相邻两个子像素区410的交界处。当掩膜设备对液晶基板400进行光配向时，该配线区420位于液晶基板400与掩膜设备之间，该配线区420会阻挡紫外光对相邻两个子像素区410的交界处的一定区域的曝光，使得相邻两个子像素区410的交界处形成宽度为与配线区420的宽度相等的非曝光区，从而使该区域形成暗纹。
为了避免掩膜设备对液晶基板400上的配向膜进行配向后进一步加宽相邻两个子像素区410的交界处的暗纹，本实施例将对应子像素区410两侧的边缘线4112处的透光间隙330被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影位于配线区420内，从而使得因透光间隙330而在液晶基板400上形成的暗纹位于配线区420形成的暗纹内，从而缩短了位于相邻两个子像素区410的交界处的暗纹宽度，进一步提高了液晶显示屏的光透过率，使得显示效果更佳。
应当理解，在实际应用中，液晶基板400上的配线区420的宽度是随着实际产品的实际情况而变化的，因此，掩膜设备上对应子像素区410两侧的边缘线4112处的透光间隙330需根据配线区420的实际宽度进行调整，即保证该透光间隙330的宽度小于配线区420的宽度，以使该透光间隙330被配置成在光配向时的投影位于配线区420内。
作为其中一个示例，透光间隙330包括与子像素区410的中心对应的第一透光间隙331和与子像素区410的边缘对应的第二透光间隙332；第二透光间隙332的宽度大于第一透光间隙331的宽度。
继续以绿色子像素区412的配向过程为例，在光配向时对应绿色子像素区412的中心线4111的透光间隙330为第一透光间隙331，在光配向时对应绿色子像素区412的两个边缘线4112的透光间隙330为第二透光间隙332，本实施例通过将第二透光间隙332的宽度设置为大于第一透光间隙331的宽度，以使该掩膜设备300对液晶基板400进行光配向时，该第二透光间隙332在绿色子像素区412上的投影能够从绿色子像素区412的内部偏移至绿色子像素区412的边缘，使得较宽的第二透光间隙332分布在绿色子像素区412的边缘，在一定程度上提高绿色子像素区412内部的显示效果，而且，第二透光间隙332的宽度大于第一透光间隙331的宽度，也使得在配向过程中，掩膜设备上的第二透光间隙332能够更加快速且方便的投影到液晶基板400的绿色子像素区412的边缘位置，进而提高了配向效率，同时，将较窄的第一透光间隙331的投影对应在绿色子像素区412的中心，也进一步保证了绿色子像素区412内部的透光率，提高了绿色子像素412的显示效果。
另外，这样便可使第二透光间隙322在绿色子像素区412的两个边缘线4112处形成的暗纹边界线发生偏移，从而使得对应绿色子像素区412的左侧边缘线4112的暗纹移动至绿色子像素区412与红色子像素区411交界处的配线区420内，使得对应绿色子像素区412的右侧边缘线4112的暗纹位于绿色子像素区412与蓝色子像素区413交界处的配线区420内，进而提高了液晶显示屏的光透过率。
可以理解的是，上述是以绿色子像素区412作为示例进行的解释说明，掩膜设备300对液晶基板400上的每个子像素区410的配向方式均相同，因此，上述设置方式整体上提高了每个子像素区410的透光率，同时使得像素区产生的较宽暗纹均移动至每个子像素区410的边缘，使得每个子像素区410的显示效果更佳，且整个液晶基板400上产生的暗纹更加规整，从而提高了整个液晶显示屏的显示效果。
作为可选的实施方式之一，该掩膜设备的第一透光区311的宽度等于第二透光区321的宽度，第一遮光区312的宽度等于第二遮光区322的宽度。该设置方式使得第一图形区域310与第二图形区域320上的遮光区和透光区的宽度分别相等，从而简化了掩膜设备的图形区域的制作工序，提高了掩膜设备上第一图形区域310和第二图形区域320的制作效率。
图4是本实施例提供的采用2stage方式对液晶基板进行光配向的示意图，其中，箭头a为紫外线的照射方向，箭头b为液晶基板400的流动方向。参照图4所示，掩膜设备300包括至少一块掩膜版340，上述第一图形区域310和第二图形区域320均被设置在同一块掩膜版340上。
可选地，为了一次性的实现整个液晶基板400的光配向，以提高效率，可以布置多块掩膜版340，例如，图4中示出了通过三个掩膜版拼接的方式实现对整个液晶基板400的光配向。具体而言，这三个掩膜版340沿液晶基板400的移动方向布置成两列，其中，第一列包括两块掩膜版340，第二列包括一个掩膜版340，该第二列的掩膜版340用于填补第一列两个掩膜版340的配向间隙，以保证整个液晶基板400在光配向过程中的曝光图案能够接续。可以理解的是，当液晶基板400垂直于移动方向的长度变大时，每列的掩膜版340数量可以相应增加，以提高液晶基板400进行光配向操作的效率。
需要说明的是，采用上述2stage方式对液晶基板400进行光配向后，可以提高液晶基板400的透光率及显示效果。经验证，经本实施例的2stage方式进行光配向后的液晶基板400所制得的液晶显示屏的光透光率相比于现有的液晶基板提升了约5％，液晶显示屏在透光率为3％的滤镜下拼接处色差改善从30％左右提升至在透光率为5％的滤镜下的100％。
图5是本实施例提供的采用4stage方式对液晶基板进行光配向的示意图，其中，箭头a为紫外线的照射方向，箭头b为液晶基板400的流动方向。参照图5所示，掩膜设备至少包括两块掩膜版340，第一图形区域310和第二图形区域320分别被设置在两块不同的掩膜版340上。
可选地，为了一次性的实现整个液晶基板400的光配向，以提高效率，可以布置多块掩膜版340，例如，图5中示出了6块掩膜版340对液晶基板400进行光配向。具体而言，这6个掩膜版340沿着液晶基板400的移动方向被布置成四列，其中，第一列包括沿垂直于液晶基板400的移动方向间隔布置的两个掩膜版340，这两个掩膜版340均配置第一图形区域310；第二列包括一个掩膜版340，该掩膜版340配置第一图形区域310，该掩膜版340用于填补第一列中两个掩膜版340的配向间隙；第三列包括两个沿垂直于液晶基板400的移动方向间隔布置的两个掩膜版340，这两个掩膜版340均配置第二图形区域320；第四列包括一个掩膜版340，该掩膜版340配置第二图形区域320，该掩膜版340用于填补第三列两个掩膜版340的配向间隙；以此来保证整个液晶基板400在光配向过程中的曝光图案能够接续。
继续参考图5，当采用4stage方式对液晶基板400进行光配向时，每块掩膜版340上均可以包括多个平行设置的图形区域。例如，图5中示出了第一列和第二列的掩膜版340上均包括多个沿着液晶基板400移动方向平行布置的多个第一图形区域310。
此外，同图4一样，当液晶基板400沿垂直于该液晶基板400的移动方向的长度较长时，每一列的掩膜版340数量可以相应增加，以提高液晶基板400进行光配向操作的效率。
需要说明的是，采用上述4stage方式对液晶基板400进行光配向后，所得的液晶显示屏的光透光率及显示效果较现有的液晶基板400均得到了提高。经验证，经本实施例的4stage方式进行光配向后所得的液晶显示屏的光透光率相比于现有的液晶基板制成的液晶显示屏提升了约5％，液晶显示屏在透光率为8％的滤镜下拼接处色差改善从原来的40％左右提升至80％-90％。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (5)

1.一种掩膜设备，用于对液晶基板上的配向膜进行光配向，所述液晶基板包括像素区，其特征在于，所述掩膜设备包括第一图形区域和第二图形区域；
所述第一图形区域用于在第一光照方向对所述配向膜进行光配向；所述第一图形区域包括沿着第一方向交替设置的第一透光区和第一遮光区，所述第一透光区与所述第一遮光区的宽度之和等于所述像素区中一个子像素区的宽度；
所述第二图形区域用于在第二光照方向对所述配向膜进行光配向；所述第二图形区域包括沿着所述第一方向交替设置的第二透光区和第二遮光区，所述第二透光区与所述第二遮光区的宽度之和等于所述像素区中一个子像素区的宽度，且所述第一透光区与所述第二透光区沿所述第一方向错位设置；
在所述第一方向上相邻的所述第一遮光区和所述第二遮光区之间具有透光间隙；
所述第一透光区的宽度大于所述第一遮光区的宽度，所述第二透光区的宽度大于所述第二遮光区的宽度；
所述第一遮光区和第二遮光区被配置成在光配向时分别投影在所述子像素区的中心线两侧；
所述第一遮光区和第二遮光区被配置成在光配向时的投影关于所述中心线对称；
对应所述子像素区的边缘处的所述透光间隙在光配向时的投影位于所述液晶基板的配线区内，所述配线区位于两个相邻子像素区的交界处且与所述子像素区异层设置；
所述透光间隙包括与所述子像素区的中心对应的第一透光间隙和与所述子像素区的边缘对应的第二透光间隙；
所述第二透光间隙的宽度大于所述第一透光间隙的宽度。
2.根据权利要求1所述的掩膜设备，其特征在于，所述透光间隙的宽度小于6μm。
3.根据权利要求1所述的掩膜设备，其特征在于，所述第一透光区的宽度等于所述第二透光区的宽度，所述第一遮光区的宽度等于所述第二遮光区的宽度。
4.根据权利要求1所述的掩膜设备，其特征在于，所述掩膜设备包括至少一个掩膜版，所述第一图形区域和所述第二图形区域位于同一个掩膜版上。
5.根据权利要求1所述的掩膜设备，其特征在于，所述掩膜设备包括至少两个掩膜版，所述第一图形区域和所述第二图形区域分别位于不同的掩膜版上。
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