CN110161731B - 掩膜设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种掩膜设备，通过将与第一像素区对应的且分别位于两个图形区域内的第一遮光区和的第二遮光区在光配向时被配置成具有重叠部分，从而使得在配向时该重叠部分在第一像素区的投影能够覆盖第一像素区的中心线和边缘线中的至少一个，继而也就避免了中心线和边缘线中的至少一个被曝光，使得该区域内的液晶分子与液晶基板之间的夹角在自两侧至中心的方向上逐渐增大，这样也就使得该区域内的液晶分子的倾倒方向更加规整，进而弱化了该区域的暗线深度，提高了液晶显示屏的光透过率，使得液晶显示屏的显示更加均匀。

Description

掩膜设备
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种掩膜设备。
背景技术
UV2A(Ultra Violet Vertical Alignment)技术是一种采用紫外线(UV＝UltraViolet)进行液晶配向的VA(Vertical Alignment，垂直配向)面板技术，其名称来源于紫外线UV与液晶基板VA模式的相乘，其原理是利用UV光来实现液晶分子的精准配向控制，UV2A技术能够通过配向膜实现所有液晶分子向设计方向倾斜的状态，所以在载入电场时，液晶分子可以同时向同一方向倾倒，使响应速度增至原来的2倍，且由于其不使用突起和狭缝隙也能分割成多个区域，因此其开口率与原来的利用突起形成多区域相比得到显著的提高，还具有降低耗电，节省成本等优点。目前是使用掩膜版对基板上的配向膜进行紫外线扫描曝光处理，以实现对配向膜的配向处理。
目前，现有的UV2A配向为将液晶基板分割成多个区域，以部分改变配向方向，其中，液晶基板可以是TFT基板或者CF基板。目前使用的配向方式多为采用掩膜版扫描曝光的方式。图1是现有的掩膜版对液晶基板进行配向前的俯视图；图2是采用现有的掩膜设备对液晶基板配向后形成的暗线示意图。参照图1和图2所示，以液晶基板100上由水平排列的三个子像素区110(R、G、B)组成的一个像素单元为例进行配向过程的说明。继续参照图1，下文以中间的子像素区110(G像素区112)为例，简要介绍其配向过程以便本领域技术人员更好的理解相关技术背景，本领域技术人员应该理解，在现有技术中，其他子像素区(R像素区111、B像素区113)同样按照下述方式进行配向。
掩膜版200包括第一图形区域210和第二图形区域220，在第一图形区域210上设置有沿掩膜版200的横向交替排列的第一透光区211和第一遮光区212，第二图形区域220上设置有沿掩膜版200的横向交替排列的第二透光区221和第二遮光区222，其中，第一透光区211和第二透光区221的宽度大于1/2G像素区112的宽度，第一遮光区212和第二遮光区222的宽度小于1/2G像素区112的宽度，第一透光区211的宽度与第一遮光区221的宽度之和等于G像素区112的宽度，第二透光区221的宽度与第二遮光区222的宽度之和等于G像素区112的宽度。第一遮光区212对应第二透光区221，第一透光区211对应第二遮光区222，并且第一遮光区212和第二遮光区222之间具有可供紫外光透过的间隙。
配向前，将液晶基板100放置在掩膜版200的下方，且第一图形区域210的第一遮光区212被配置成在液晶基板100上的投影全部位于G像素区112的左半部分，第二图形区域220的第二遮光区222被配置成在液晶基板100上的投影全部位于G像素区112的右半部分，且这两部分投影关于G像素区112的中心线对称。
配向时，液晶基板100从图1所示的上方往下方移动，以便依次经过第一图形区域210和第二图形区域220。在经过第一图形区域210时，紫外线透过第一透光区211对G像素区112进行第一次曝光；液晶基板100在经过第二图形区域220时，紫外线透过第二透光区221对G像素区112进行第二次曝光，以此完成对G像素区112所对应的部分配向膜的光配向。配向过程中，紫外线的照射方向与液晶基板100的移动方向平行，且在使用掩膜版200的第一图形区域210和第二图形区域220对液晶基板100进行曝光时所使用的紫外光的照射方向相反。
然而，经现有的掩膜版200对液晶基板100配向后，位于子像素110的中心和边缘的液晶分子偏转紊乱而出现一定宽度的暗线114，如图2所示。这样会降低液晶基板100所制作的液晶显示屏的光透光率，导致液晶显示屏出现Mura(液晶显示器亮度不均匀的现象)的问题。
发明内容
本发明提供一种掩膜设备，能够弱化并缩小液晶基板上子像素的中心和边缘中至少一处的暗线，从而提高液晶显示屏的光透过率。
本发明提供一种掩膜设备，用于对液晶基板上的配向膜进行光配向，该液晶基板包括第一像素区，所述掩膜设备包括第一图形区域和第二图形区域；
所述第一图形区域用于在第一光照方向对所述配向膜进行光配向；所述第一图形区域包括与所述第一像素区相对应的第一透光区和第一遮光区，所述第一透光区与所述第一遮光区相邻设置，所述第一透光区与所述第一遮光区的宽度之和等于所述第一像素区的宽度；
所述第二图形区域用于在第二光照方向对所述配向膜进行光配向，所述第二光照方向与所述第一光照方向相反；所述第二图形区域包括与所述第一像素区相对应的第二透光区和第二遮光区，所述第二透光区与所述第二遮光区相邻设置，所述第二透光区与所述第二遮光区的宽度之和等于所述第一像素区的宽度；
所述第一遮光区与所述第二遮光区被配置成在光配向时具有重叠部分。
可选地，所述第一透光区的宽度大于所述第一遮光区的宽度；所述第二透光区的宽度大于所述第二遮光区的宽度。
可选地，所述第一遮光区和所述第二遮光区被配置成在光配向时两者的重叠部分在所述第一像素区上的投影能够覆盖所述第一像素区的中心线。
可选地，所述液晶基板还包括与所述第一像素区相邻的第二像素区和第三像素区，所述第一像素区位于所述第二像素区和第三像素区之间；所述第一透光区的部分区域被配置成在光配向时在所述液晶基板上的投影覆盖部分所述第二像素区，所述第二透光区的部分区域被配置成在光配向时在所述液晶基板上的投影覆盖部分所述第三像素区。。
可选地，所述第一遮光区和所述第二遮光区被配置成在光配向时二者的重叠部分的宽度均小于所述第一遮光区和所述第二遮光区的宽度。
可选地，所述第一遮光区的宽度大于所述第一透光区的宽度；所述第二遮光区的宽度大于所述第二透光区的宽度。
可选地，所述第一遮光区被配置成在光配向时在所述第一像素区上的投影能够覆盖所述第一像素区的中心线以及所述第一像素区的第一边缘线；所述第二遮光区被配置成在光配向时在所述第一像素区上的投影能够覆盖所述第一像素区的中心线以及所述第一像素区的第二边缘线，所述第二边缘线与所述第一边缘线相对设置。
可选地，所述液晶基板还包括与所述第一像素区相邻的第二像素区和第三像素区，所述第一像素区位于所述第二像素区和所述第三像素区之间；所述第一遮光区的部分区域被配置成在光配向时在所述液晶基板上的投影覆盖部分所述第二像素区，所述第二遮光区的部分区域被配置成在光配向时在所述液晶基板上的投影覆盖部分所述第三像素区。。
可选地，所述掩膜设备包括至少一个掩膜版，所述第一图形区域和所述第二图像区域位于同一个掩膜版上。
可选地，所述掩膜设备包括至少两个掩膜版，所述第一图形区域和所述第二图形区域分别位于不同的掩膜版上。
本发明提供一种掩膜设备，通过将第一图形区域上对应第一像素区的第一遮光区和第二图形区域上对应第一像素区的第二遮光区被配置成在光配向时具有重叠部分，从而在采用该掩膜设备对液晶基板进行配向时，将该重叠部分在第一像素区的投影覆盖第一像素区的中心线和边缘线中的至少一个，以使得第一像素区的中心和边缘的至少一处不进行曝光，即在第一像素区的中心区域和边缘区域中的至少一处产生非曝光区域，这样就可以使位于非曝光区域的液晶分子受到其相邻两侧的曝光区域的配向方向的影响在自该非曝光区域的边缘至中心逐渐减小，继而使得该区域内的液晶分子与液晶基板之间的夹角在自两侧至中心的方向上逐渐增大，提高该区域内的液晶分子的倾倒方向的规整度，进而弱化了该区域的暗线深度，此外，还可以使非曝光区域的液晶分子整体呈现向中心收拢的状态，进一步缩小该区域的暗线的宽度，整体上提高了液晶显示屏的光透过率，使得液晶显示屏的显示更加均匀。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作以简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有的掩膜版对液晶基板进行配向之前的俯视图；
图2是采用现有的掩膜设备对液晶基板配向后形成的暗线示意图；
图3是本发明一实施例提供的掩膜设备的第一种结构的俯视图；
图4是采用图3的掩膜设备对液晶基板进行配向之前的俯视图；
图5是本发明一实施例提供的掩膜设备的第二种结构的俯视意图；
图6是采用图5的掩膜设备对液晶基板进行配向之前的俯视图；
图7是本发明一实施例提供的采用2stage方式对液晶基板进行光配向的示意图；
图8是本发明一实施例提供的采用4stage方式对液晶基板进行光配向的示意图。
附图标记说明：
100、400-液晶基板；
110-子像素；
111-R像素区；
112-G像素区；
113-B像素区；
114-暗线；
200、340-掩膜版；
210、310-第一图形区域；
220、320-第二图形区域；
300-掩膜设备；
211、311-第一透光区；
212、312-第一遮光区；
221、321-第二透光区；
222、322-第二遮光区；
330-重叠部分；
410-第一像素区；
420-第二像素区；
430-第三像素区；
411-中心线；
412-边缘线；
4121-第一边缘线；
4122-第二边缘线。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，“多个”的含义是指一个以上，例如两个，四个等，除非另有明确具体的限定。
图3是本实施例提供的掩膜设备的第一种结构的俯视图；图4是采用图3的掩膜设备对液晶基板进行配向之前的俯视图。参照图3和图4所示，本实施例的掩膜设备300用于对液晶基板400上的配向膜进行配向。对于液晶显示面板而言，一般来说，该掩膜设备300需要分别对液晶基板400中的TFT基板上的配向膜和CF基板上的配向膜分别进行配向，使得夹持在TFT侧的基板与CF侧的基板之间的液晶分子在两侧的配向膜的共同影响下发生偏转，从而使液晶基板400正常显示，但应当理解，本发明并不限制掩膜设备必须对TFT基板和CF基板均进行光配向。其中，该液晶面板400包括第一像素区410，该第一像素区410具体指液晶基板400上的一个子像素区(例如可以是R像素区、G像素区或者B像素区)。
参照图3和图4所示，本实施例的掩膜设备300包括沿图3横向布置且平行的第一图形区域310和第二图形区域320，当然，正如下文将要描述到的，该第一图形区域310和第二图形区域320可以设置在同一块掩膜版340或者分设在两块掩膜版340上。其中，第一图形区域310用于在第一光照方向对液晶基板400上的配向膜进行光配向，第二图形区域320则用于在第二光照方向对该配向膜进行光配向，且第二光照方向与第一光照方向相反。
如图4所示，第一图形区域310包括与该第一像素区410相对应的第一透光区311和第一遮光区312，第一透光区311与第一遮光区312相邻设置，且第一透光区311与第一遮光区312的宽度之和等于第一像素区410的宽度。第二图形区域320包括与第一像素区410相对应的第二透光区321和第二遮光区322，第二透光区321与第二遮光区322相邻设置，第二透光区321与第二遮光区322的宽度之和等于第一像素区410的宽度。第一遮光区312与第二遮光区322被配置成在光配向时具有重叠部分330。
可以理解，第一图形区域310的第一透光区311和第一遮光区312在进行光配向时在液晶基板400上的投影可以全部位于第一像素区410内，同理，第二图形区域320的第二透光区321和第二遮光区322在进行光配向时在液晶基板400上的投影也可以全部位于第一像素区410内。
在另一些示例中，如图4所示，液晶基板400还包括与第一像素区410相邻的第二像素区420和第三像素区430，第一像素区410位于第二像素区420和第三像素区430之间。第一图形区域310的第一透光区311和第一遮光区312在进行光配向时在液晶基板400上的投影可以覆盖第一像素区410内的一部分(图4中第一像素区410位于右侧的部分)以及第二像素区420的一部分(图4中第二像素区420位于左侧的部分)，相应的，第二图形区域320的第二透光区321和第一遮光区322在进行光配向时在液晶基板400上的投影覆盖第一像素区410的一部分(图4中第一像素区410位于左侧的部分)以及第三像素区430的一部分(图4中第三像素区430位于右侧的部分)。换句话说，在某些示例中，第一透光区311的部分区域(图4中的A区域)被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影覆盖部分第二像素区420，以避免第一像素区410与第二像素区420的边界出现曝光不连续的情况，从而提高液晶显示屏的显示效果。同理的，第二透光区321的部分区域(图4中的B区域)被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影覆盖部分第三像素区430，以避免因第一像素区410与第三像素区420的边界出现曝光不连续的情况，从而提高液晶显示屏的显示效果。
继续参考图4，采用上述掩膜设备300对液晶基板400的第一像素区410进行光配向时，当液晶基板400从图中所示的上方往下方移动的过程中，第一遮光区312和第二遮光区322的重叠部分330在液晶基板400上的投影将覆盖第一像素区410的中心线411和边缘线412中的至少一个，从而使得使第一像素区410的中心和边缘中的至少一处在光配向的过程中均没有紫外光穿过，即在第一像素区410的中心和边缘中的至少一处产生非曝光区域，且该非曝光区域的宽度等于第一遮光区312和第二遮光区322被配置在光配向时的重叠部分330的宽度。基于此，位于非曝光区域的液晶分子受到其相邻两侧的曝光区域的配向方向的影响在自该非曝光区域的边缘至中心逐渐减小，使得该区域内的液晶分子与液晶基板400之间的夹角在自两侧至中心的方向上逐渐增大，从而提高第一像素区410的中心和边缘的至少一处的液晶分子的倾倒方向的规整度，继而弱化了至少一部分的暗线深度，此外，可以进一步使非曝光区域的液晶分子整体呈现向中心收拢的状态，从而缩小该区域的暗线的宽度，进而提高液晶显示屏的光透过率，使得液晶显示屏的亮度更加均匀。
应当理解，虽然图4示出的是第一遮光区312和第二遮光区322在进行光配向时，二者重叠部分330在液晶基板400上的投影覆盖第一像素区410的中心线411，从而使得配向后可以在第一像素区410的中心产生宽度与重叠部分330的宽度相等的非曝光区域，但是，在其他示例中，还可以在图4的基础上，将掩膜设备300整体向左或向右移动，以便使重叠部分330覆盖第一像素区410的边缘线412，以此来减弱第一像素区410边缘所产生的暗线深度以及该区域的暗线宽度。当然，在某些示例中，也可将液晶基板400向图4中的左方或者右方移动，然后再从上到下进行光配向，以使重叠部分330在液晶基板400上的投影覆盖第一像素区410的边缘线412。
进一步，如图4所示，第一透光区311的宽度大于第一遮光区312的宽度，第二透光区321的宽度大于第二遮光区322的宽度，以便提高液晶基板400的曝光面积，从而提高光配向效率。
可选地，当第一透光区311的宽度大于第一遮光区312的宽度，第二透光区321的宽度大于第二遮光区322的宽度时，第一遮光区312和第二遮光区322被配置成在光配向时两者的重叠部分330在第一像素区410上的投影能够覆盖第一像素区410的中心线411。可以理解的是，上述示例中，掩膜设备300对液晶基板400配向后在第一像素区410上产生的非曝光区域的中心线可以与第一像素区410的中心线411重合，当然也可稍微偏离第一像素区410的中心线411，即非曝光区域的两侧边界与第一像素区410的中心线411之间的距离可以相等或者不相等。
可选地，当第一透光区311的宽度大于第一遮光区312的宽度，第二透光区321的宽度大于第二遮光区322的宽度时，第一遮光区312和第二遮光区322被配置成在光配向时二者的重叠部分330的宽度均小于第一遮光区312和第二遮光区322的宽度，以减小非曝光区域的宽度，进而减小液晶基板400的整体非曝光区域，提高液晶基板400的光透过率，提高显示效果。
应当理解，在某些示例中，第一遮光区312的宽度等于第二遮光区322的宽度，第一透光区311的宽度等于第二透光区321的宽度，以便使得液晶基板400上的第一像素区410、第二像素区420以及第三像素区430在进行光配向后所产生的非曝光区域所形成的暗线在液晶基板400上的分布变得均匀，进而使得采用液晶基板400所制作的液晶显示器的亮度更加均匀，显示效果更佳。
图5是本实施例提供的掩膜设备的第二种结构的俯视意图；图6是采用图5的掩膜设备对液晶基板进行配向之前的俯视图。
如图5和图6所示，在某些示例中，第一遮光区312的宽度大于第一透光区311的宽度；第二遮光区322的宽度大于第二透光区321的宽度。换句话说，第一遮光区312的宽度大于第一像素区410的宽度的一半，第二遮光区322的宽度大于第一像素区410的宽度的一半。应当理解，以第一遮光区312位于第一透光区311的右侧，第二遮光区322位于第二透光区321的左侧为例，该第一遮光区312在液晶基板400的投影可以全部位于第一像素区410内，也可以如图6所示的大部分位于第一像素区410内、小部分位于第二像素区420内；该第二遮光区322在液晶基板400的投影可以全部位于第一像素区410内，也可以如图6所示的大部分位于第一像素区410内、小部分位于第三像素区430内。
继续参照图6，可选地，第一遮光区312被配置成在光配向时在第一像素区410上的投影能够覆盖第一像素区410的中心线411以及第一像素区410的第一边缘线4121；第二遮光区322被配置成在光配向时在第一像素区410上的投影能够覆盖第一像素区410的中心线411以及第一像素区410的第二边缘线4122。其中，第二边缘线4122与第一边缘线4121相对设置。例如，在一些示例中，如图6所示，第一遮光区312的其中一部分区域被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影覆盖部分第一像素区410，第一遮光区312的另一部分区域(参见图6中的C区域)被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影覆盖部分第二像素区420，相应的，第二遮光区322的其中一部分区域被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影覆盖部分第一像素区410，第二遮光区322的另一部分区域(参见图6中的D区域)被配置成在光配向时在液晶基板400上的投影覆盖部分第三像素区430。这样，当进行光配向时，第一像素区410与第二像素区420的交界处以及第一像素区410与第三像素区430的交界处均形成非曝光区域，进而弱化了该区域的暗线深度并减小了该区域的暗线宽度，从而提高显示效果。
图7是本实施例提供的采用2stage方式对液晶基板进行光配向的示意图，其中，箭头a为紫外线的照射方向，箭头b为液晶基板400的流动方向。参照图7所示，掩膜设备300包括至少一块掩膜版340，上述第一图形区域310和第二图形区域320均被设置在同一块掩膜版340上。
可选地，为了一次性的实现整个液晶基板400的光配向，以提高效率，可以布置多块掩膜版340，例如，图7中示出了通过三个掩膜版拼接的方式实现对整个液晶基板400的光配向。具体而言，这三个掩膜版340沿液晶基板400的移动方向布置成两列，其中，第一列包括两块掩膜版340，第二列包括一个掩膜版340，该第二列的掩膜版340用于填补第一列两个掩膜版340的配向间隙，以保证整个液晶基板400在光配向过程中的曝光图案能够接续。可以理解的是，当液晶基板400垂直于移动方向的长度变大时，每列的掩膜版340数量可以相应增加，以提高液晶基板400进行光配向操作的效率。
需要说明的是，采用上述2stage方式对液晶基板400进行光配向后，可以提高液晶基板400的透光率及显示效果。经验证，经本实施例的2stage方式进行光配向后的液晶基板400所制得的液晶显示屏的光透光率相比于现有的液晶基板提升了约4％，液晶显示屏在透光率为3％的滤镜下拼接处色差改善从30％左右提升至在透光率为5％的滤镜下的100％。
图8是本实施例提供的采用4stage方式对液晶基板进行光配向的示意图，其中，箭头a为紫外线的照射方向，箭头b为液晶基板400的流动方向。参照图8所示，掩膜设备至少包括两块掩膜版，第一图形区域310和第二图形区域320分别被设置在两块不同的掩膜版340上。
可选地，为了一次性的实现整个液晶基板400的光配向，以提高效率，可以布置多块掩膜版340，例如，图8中示出了6块掩膜版340对液晶基板400进行光配向。具体而言，这6个掩膜版340沿着液晶基板400的移动方向被布置成四列，其中，第一列包括沿垂直于液晶基板400的移动方向间隔布置的两个掩膜版340，这两个掩膜版340均配置第一图形区域310；第二列包括一个掩膜版340，该掩膜版340配置第一图形区域310，该掩膜版340用于填补第一列中两个掩膜版340的配向间隙；第三列包括两个沿垂直于液晶基板400的移动方向间隔布置的两个掩膜版340，这两个掩膜版340均配置第二图形区域320；第四列包括一个掩膜版340，该掩膜版340配置第二图形区域320，该掩膜版340用于填补第三列两个掩膜版340的配向间隙；以此来保证整个液晶基板400在光配向过程中的曝光图案能够接续。
继续参考图8，当采用4stage方式对液晶基板400进行光配向时，每块掩膜版340上均可以包括多个平行设置的图形区域。例如，图7中示出了第一列和第二列的掩膜版340上均包括多个沿着液晶基板400移动方向平行布置的多个第一图形区域310。
此外，同图7一样，当液晶基板400沿垂直于该液晶基板400的移动方向的长度较长时，每一列的掩膜版340数量可以相应增加，以提高液晶基板400进行光配向操作的效率。
需要说明的是，采用上述4stage方式对液晶基板400进行光配向后，所得的液晶显示屏的光透光率及显示效果较现有的液晶基板400均得到了提高。经验证，经本实施例的4stage方式进行光配向后所得的液晶显示屏的光透光率相比于现有的液晶基板制成的液晶显示屏提升了约4％，液晶显示屏在透光率为8％的滤镜下拼接处色差改善从原来的40％左右提升至70％-80％。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (6)

1.一种掩膜设备，用于对液晶基板上的配向膜进行光配向，所述液晶基板包括第一像素区，其特征在于，所述掩膜设备包括第一图形区域和第二图形区域；
所述第一图形区域用于在第一光照方向对所述配向膜进行光配向；所述第一图形区域包括与所述第一像素区相对应的第一透光区和第一遮光区，所述第一透光区与所述第一遮光区相邻设置，所述第一透光区与所述第一遮光区的宽度之和等于所述第一像素区的宽度；
所述第二图形区域用于在第二光照方向对所述配向膜进行光配向，所述第二光照方向与所述第一光照方向相反；所述第二图形区域包括与所述第一像素区相对应的第二透光区和第二遮光区，所述第二透光区与所述第二遮光区相邻设置，所述第二透光区与所述第二遮光区的宽度之和等于所述第一像素区的宽度；
所述第一遮光区与所述第二遮光区被配置成在光配向时具有重叠部分；
其中，所述重叠部分投影覆盖中心线或边缘线；
所述第一像素区一侧由所述第一图形区域进行光配向，另一侧由所述第二图形区域进行光配向；
所述第一透光区的宽度大于所述第一遮光区的宽度；所述第二透光区的宽度大于所述第二遮光区的宽度。
2.根据权利要求1所述的掩膜设备，其特征在于，所述第一遮光区和所述第二遮光区被配置成在光配向时两者的重叠部分在所述第一像素区上的投影能够覆盖所述第一像素区的中心线。
3.根据权利要求2所述的掩膜设备，其特征在于，所述液晶基板还包括与所述第一像素区相邻的第二像素区和第三像素区，所述第一像素区位于所述第二像素区和第三像素区之间；所述第一透光区的部分区域被配置成在光配向时在所述液晶基板上的投影覆盖部分所述第二像素区，所述第二透光区的部分区域被配置成在光配向时在所述液晶基板上的投影覆盖部分所述第三像素区。
4.根据权利要求1所述的掩膜设备，其特征在于，所述第一遮光区和所述第二遮光区被配置成在光配向时二者的重叠部分的宽度均小于所述第一遮光区和所述第二遮光区的宽度。
5.根据权利要求1-4任一项所述的掩膜设备，其特征在于，所述掩膜设备包括至少一个掩膜版，所述第一图形区域和所述第二图形区域位于同一个掩膜版上。
6.根据权利要求1-4任一项所述的掩膜设备，其特征在于，所述掩膜设备包括至少两个掩膜版，所述第一图形区域和所述第二图形区域分别位于不同的掩膜版上。
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