CN109270743B - 用于光配向的掩膜板及用于光配向的掩膜组 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种用于光配向的掩膜板及用于光配向的掩膜组,用于光配向的掩膜板包括至少一个掩膜图形区域,每个掩膜图形区域包括非连续部和位于非连续部两侧的连续部,连续部用于和其它掩膜板上的掩膜图形区域的连续部接续,连续部包括多个透光部和多个不透光部,透光部和不透光部沿掩膜板的横向交替排列;每个连续部中的透光部和与连续部接续的其他掩膜板的连续部的不透光部在掩膜板的板面上的投影相互重合,且不透光部和与连续部接续的其他掩膜板的连续部的透光部在掩膜板的板面上的投影相互重合。本发明的用于光配向的掩膜板及用于光配向的掩膜组能够解决由于在不同配向机台上进行光配向而导致的Mura问题。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示器的制作技术领域,尤其涉及一种用于光配向的掩膜板及用于光配向的掩膜组。
背景技术
随着显示技术的发展,液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄、无辐射等优点,而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品,成为显示装置中的主流。现有的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器,其包括壳体、设于壳体内的液晶面板及设于壳体内的背光模组。通常液晶面板由彩色滤光片基板(Color Filter,CF)、薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate,TFT Array Substrate)以及填充于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成,其工作原理是通过在CF基板和TFT基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转,控制光的输出量,将背光模组的光线折射出来产生画面。
在液晶显示面板的制作过程中,对配向膜进行配向是一项重要工艺,通过配向工艺来实现液晶分子按照特定的方向与角度排列。在TFT-LCD生产中,有两种配向方法:摩擦配向和光配向。摩擦配向为物理方法,会产生静电和颗粒的污染。光配向是一种非接触式的配向技术,利用线偏振光透过光罩照射在对光敏感的高分子聚合物配向膜上,在配向膜表面形成一定倾斜角度的配向微结构达到配向效果。目前,用于光配向的掩膜板的尺寸一般小于市场上液晶显示器的尺寸,因此在实际生产中,需要将多个掩膜板组合起来同时工作,如图1所示,对应于两个进行光配向的机台(未图示),分别设置两排掩膜板,该两排掩膜板中的每个掩膜板上都包括两个用于使配向光透过从而进行光配向的掩膜图形区域,以位于图1最左端的第三掩膜板81为例进行说明,第三掩膜板81包括两个第三掩膜图形区域811、812,该两个第三掩膜图形区域811、812大小、形状相同,并且在纵向对齐设置。其它掩膜板上的掩膜图形区域的配置与第三掩膜板81的配置相同。此外,两排掩膜板配置为,在纵向看去每两个在纵向相邻的掩膜板的掩膜图形区域正好连续设置。以图1中的第三掩膜板81、第四掩膜板82、第五掩膜板83为例进行说明:第三掩膜板81上的第三掩膜图形区域811、812的左端部与第四掩膜板82上的第四掩膜图形区域821、822的右端部在纵向看去在一条直线上,第三掩膜板81上的第三掩膜图形区域811、812的右端部与第五掩膜板83上的第五掩膜图形区域831、832的左端部在纵向看去在一条直线上,其它的掩膜板的相对位置的设置与第三掩膜板81、第四掩膜板82、第五掩膜板83类似。当基板组85从两排掩膜板下方由图1所示的纵向下方朝向纵向上方匀速经过机台上的两排掩膜板时,紫外光照射该两排掩膜板进行基板组85的光配向,当基板组85先经过设置在纵向靠下的一排掩膜板后,由于该排掩膜板的掩膜图形区域之间存在间隔,因而在该间隔部分不进行曝光,从而在基板组85的配向膜上形成断续的配向微结构。当基板组85经过设置在纵向靠上的一排掩膜板后,该配向微结构的断续部分由靠上的一排掩膜板的掩膜图形区域进行曝光,因而由两个机台的曝光部分接续起来,在基板上形成一个完整的配向微结构。
然而,对于基板组85的配向膜上的配向微结构而言,一部分在一个光配向机台(对应于下排掩膜板)上进行曝光,另一部分在另一个光配向机台上(对应于上排掩膜板)上进行曝光,实际中,两个光配向机台的曝光条件、精度等存在一定的差异,因而导致在不同光配向机台上得到的配向微结构的预倾角与设定值存在偏差,会导致用该基板生产出的显示面板中出现Mura(液晶显示器亮度不均匀的现象)的问题。
发明内容
本发明提供一种用于光配向的掩膜板及用于光配向的掩膜组,能够解决由于在不同配向机台上进行光配向而导致的Mura问题。
第一方面,本发明提供一种用于光配向的掩膜板,包括至少一个掩膜图形区域,其中,每个掩膜图形区域包括非连续部和位于非连续部两侧的连续部,连续部用于和其它掩膜板上的掩膜图形区域的连续部接续,连续部包括多个透光部和多个不透光部,透光部和不透光部沿掩膜板的横向交替排列;每个连续部中的透光部和与连续部接续的其他掩膜板的连续部的不透光部在掩膜板的板面上的投影相互重合,且不透光部和与连续部接续的其他掩膜板的连续部的透光部在掩膜板的板面上的投影相互重合。
第二方面,本发明提供一种用于光配向的掩膜组,包括如上所述的用于光配向的掩膜板,相邻两个掩膜板在掩膜板的纵向上的位置彼此错开,相邻两个掩膜板的相互接续的连续部的透光部在掩膜板的纵向上的投影彼此互补,并能够拼合为一个连续的整体。
本发明的用于光配向的掩膜板及用于光配向的掩膜组,用于光配向的掩膜板,包括至少一个掩膜图形区域,其中,每个掩膜图形区域包括非连续部和位于非连续部两侧的连续部,连续部用于和其它掩膜板上的掩膜图形区域的连续部接续,连续部包括多个透光部和多个不透光部,透光部和不透光部沿掩膜板的横向交替排列;每个连续部中的透光部和与连续部接续的连续部的不透光部在掩膜板板面上的投影相互重合,且不透光部和与连续部接续的连续部的透光部在掩膜板板面上的投影相互重合,其中,掩膜板的纵向和掩膜板的横向均平行于掩膜板板面,并且纵向与基板相对于掩膜板的移动方向平行,横向与基板相对于掩膜板的移动方向垂直。这样设置,通过在掩膜板上设置连续部,并且该连续部用于和其它掩膜板上的掩膜图形区域的连续部接续,即,在进行光配向时,两个掩膜板相邻的连续部互相交错布置,同时在一个掩膜板的连续部上形成的透光部和不透光部和另一个掩膜板的连续部上的不透光部和透光部互补,因此,在基板经过彼此交错的其中一个连续部时,与透光部对应的部分进行光配向,与不透光部对应的部分不进行光配向;之后,在基板经过彼此交错的另一个连续部时,基板上与交错区域相对应的部分中,之前进行了光配向的部分位于另一个掩膜板的不透光部之下,并与该不透光部完全重合,因而没有进行光配向,而之前未进行光配向的部分位于另一个掩膜板的透光部之下,并与该透光部完全重合,因而进行光配向。由此,在基板上与两个掩膜板的掩膜图形交错区域相对应的部分形成一个“光配向条件交替”的过渡带,因而在用该基板生产的液晶面板中,与该过渡带相对应地,能够形成“明暗交替”过渡带。因而采用本发明的基板生产出的液晶显示面板由明到暗并不是突变,而是经过了一个“明暗交替”的过渡带,使得明暗变化不再那么明显,因而能消除成品液晶显示面板中的亮度不均的Mura现象。
附图说明
图1为现有技术中使用多个掩膜板对基板进行光配向的结构示意图;
图2为本发明实施例一提供的用于光配向的掩膜板的结构示意图;
图3为本发明实施例一提供的用于光配向的掩膜板的光配向原理示意图;
图4为本发明实施例二提供的另一种结构的用于光配向的掩膜板的结构示意图;
图5为本发明实施例三提供的再一种结构的用于光配向的掩膜板的连续部的结构示意图;
图6为本发明实施例四提供的用于光配向的掩膜组的结构示意图。
附图标记说明:
1—掩膜板;
2—掩膜图形区域;
3—非连续部;
4—基板;
5—连续部;
51—透光部;
52—不透光部;
6—掩膜组;
81—第三掩膜板;
82—第四掩膜板;
83—第五掩膜板;
85—基板组;
811、812—第三掩膜图形区域;
821、822—第四掩膜图形区域;
831、832—第五掩膜图形区域。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例一
图2为本发明实施例一提供的用于光配向的掩膜板的结构示意图。图3为本发明实施例一提供的用于光配向的掩膜板的光配向原理示意图。如图2所示,本实施例的用于光配向的掩膜板1,包括至少一个掩膜图形区域2,每个掩膜图形区域2包括非连续部3和位于非连续部两侧的连续部5,连续部5用于和其它掩膜板上的掩膜图形区域2的连续部5接续。此外,连续部5包括多个透光部51和多个不透光部52,透光部51和不透光部52沿掩膜板1的横向交替排列;每个连续部5中的透光部51和与该连续部5接续的其他掩膜板的连续部5的不透光部52在掩膜板1的板面上的投影相互重合,且不透光部52和与该连续部5接续的其他掩膜板的连续部5的透光部51在掩膜板1的板面上的投影相互重合。
具体的,如前所述,由于用于光配向的掩膜板1的尺寸一般小于市场上液晶显示器的尺寸,因此在实际生产中,需要将多个掩膜板组合起来对基板进行光配向,即,基板上所形成的连续的配向微结构区域,分别由不同的掩膜板1形成。在现有技术中,在掩膜板上并未设置连续部,因此在纵向看去每两个在纵向相邻的掩膜板的掩膜图形区域正好连续设置,然而,如果其中一个掩膜板1所属的光配向机台的曝光条件、精度等,与另一个掩膜板1所属的光配向机台不同,就会导致在该基板上与两个掩膜板的掩膜图形区域的交界处对应的位置处形成明显的光配向条件差异界限,在形成的液晶显示面板中,与该光配向条件差异界限对应的位置处形成非常明显的“明暗界限”。
而本实施例中,如图3所示,在掩膜板1的掩膜图形区域2上设置连续部5,是指在纵向看去每两个在纵向相邻的掩膜板1的掩膜图形区域交错设置,并且交错区域范围即连续部5的范围,那么基板在经过上述相互交错设置的相邻掩膜板1后,基板上与交错区域相对应的部分,在经过彼此交错的其中一个连续部5时,经过一次光配向,在经过彼此交错的另一个连续部5时,再经过一次光配向。由于透光部51和不透光部52沿掩膜板1的横向交替排列,并且每个连续部5的透光部51和不透光部52,和与之接续的连续部5的不透光部52和透光部51彼此互补,因此,在基板经过彼此交错的其中一个连续部5时,与透光部51对应的部分进行光配向,与不透光部52对应的部分不进行光配向;之后,在基板经过彼此交错的另一个连续部5时,基板上与交错区域相对应的部分中,之前进行了光配向的部分位于另一个掩膜板1的不透光部52之下,并与该不透光部52完全重合,因而没有进行光配向,而之前未进行光配向的部分位于另一个掩膜板1的透光部51之下,并与该透光部51完全重合,因而进行光配向。由此,在基板上与两个掩膜板1的掩膜图形交错区域相对应的部分形成一个“光配向条件交替”的过渡带,因而在用该基板生产的液晶面板中,与该过渡带相对应地,能够形成“明暗交替”过渡带。与现有技术中,在该基板上与两个掩膜板的掩膜图形区域的交界处对应的位置处形成明显的“明暗界限”相比,本实施例的基板生产出的液晶显示面板由明到暗并不是突变,而是经过了一个“明暗交替”的过渡带,使得明暗变化不再那么明显,因而能消除成品液晶显示面板中的亮度不均的Mura现象。
下面介绍本实施例中的用于光配向的掩膜板1的光配向原理。如图3所示,以两个掩膜板1组合起来进行光配向,并且每个掩膜板1包括一个掩膜图形区域2为例进行说明,但掩膜板1的个数以及每个掩膜板1包括的掩膜图形区域2的个数不限于此,还可以是其他数量。此外,在本发明中,掩膜板1的纵向和掩膜板1的横向均平行于掩膜板1板面,并且纵向与基板相对于掩膜板1的移动方向平行,横向与基板相对于掩膜板1的移动方向垂直。在图3中,两个掩膜板1在纵向间隔开,在纵向看去交错排列,并且位于纸面上部的掩膜板1的右端部的连续部5和位于纸面下部的另一个掩膜板1的左端部的连续部5连续,即,上部的掩膜板1的右端部的连续部5和下部的掩膜板1的左端部的连续部5在掩膜板的纵向上的投影位置相互重合。具体进行光配向时,当基板4从两个掩膜板1下方由图3纸面的下部朝向上部匀速经过两个掩膜板1时,紫外光照射该两个掩膜板1进行基板4的光配向,当基板4先经过设置在下部的掩膜板1后,基板4上与下部的掩膜板1上的掩膜图形区域2相对应的位置上,形成配向微结构。尤其是,与下部的掩膜板1上的左端的连续部5中,与透光部51对应的部分进行光配向,与不透光部52对应的部分不进行光配向。
由于上部的掩膜板1的右端的连续部5中的透光部51和下部的掩膜板1的左端连续部5接中的不透光部52在掩膜板1板面上的投影相互重合,且上部的掩膜板1的右端的连续部5的不透光部52和下部的掩膜板1的左端的连续部5的透光部51在掩膜板1板面上的投影相互重合。因此,基板4沿纵向继续向上移动时,基板4上与上部的掩膜板1上的掩膜图形区域2相对应的位置上,形成配向微结构,尤其是,基板4上,与上部的掩膜板1上的右端的连续部5对应的区域中,之前进行了光配向的部分位于上部的掩膜板1右端的不透光部52之下,没有进行光配向,而之前未进行光配向的部分位于上部的掩膜板1的右端的透光部51之下,进行光配向。当基板4完全经过两个掩膜板1之后,在基板4上形成一个完整的配向微结构。此外,由于在基板4上与两个掩膜板1的掩膜图形交错区域相对应的部分形成一个“光配向条件交替”的过渡带,因而在用基板4生产的液晶面板中,与该过渡带相对应地,能够形成“明暗交替”过渡带,从而避免液晶显示面板中亮度不均的Mura的发生。
此外,如上所述的过程中基板4相对于掩膜板1纵向匀速移动,从而完成基板4的光配向过程,因此可以使透光部51和不透光部52均为沿所述掩膜板的纵向延伸的条纹。这样可以保证基板4上与透光部51相对应的区域所包含的各像素都在同一个机台上进行光配向,并且进行光配向的时间相同。
具体的,当基板4经过下部的掩膜板1时,基板4上与连续部5的透光部51相对应的部分、以及与非连续部3相对应的部分均在下部的掩膜板1所属的机台上进行光配向,且形成的配向微结构相同。由于透光部51沿掩膜板1的纵向延伸,因此基板上与透光部51相对应的区域所包含的各像素在下部的掩膜板1所属的机台上进行光配向的时间相同,同时,基板4上与下部的掩膜板1上的不透光部52相对应的部分不进行光配向。而当基板4经过上部的掩膜板1时,基板4上与上部的掩膜板1的连续部5的透光部51相对应的部分、以及与非连续部3相对应的部分均在上部的掩膜板1所属的机台上进行光配向,且形成的配向微结构相同。与上述同样地,基板4上与上部的掩膜板1上的透光部51相对应的区域所包含的各像素在上部的掩膜板1所属的机台上进行光配向的时间相同,同时,基板4上与上部的掩膜板1上的不透光部52相对应的部分不进行光配向。
此时,基板4上与上部的掩膜板1的非连续部3对应的部分、与上部的掩膜板1的连续部5中的透光部51对应的部分、与下部的掩膜板1的非连续部3对应的部分、与下部的掩膜板的连续部5中的透光部51对应的部分,合起来构成一个完整的光配向结构。若用该基板生产出的液晶显示面板中,假设与上部的掩膜板1的非连续部3对应的部分较亮,与下部的掩膜板1的非连续部3对应的部分较暗,而在液晶显示面板上与两个掩膜板1的交错位置相对应的部分,与上部的掩膜板的连续部5中的透光部51对应的部分形成为较亮,与下部的掩膜板的连续部5中的透光部51对应的部分形成为较暗,因而液晶显示面板上与两个掩膜板1的交错位置相对应的部分形成“明暗交替”的过渡带,使得基板4上由明到暗不再是突变,而是经过该“明暗交替”的过渡带,从而减少了液晶显示面板中Mura的产生。
另外,可以是每个连续部的多个透光部51中,每相邻两根透光部51之间的间距不相等,且每相邻两根不透光部52之间的间距不相等,这样可以使形成的液晶显示面板中的“明暗交替”的过渡带,明暗分布不均匀,从而进一步减轻Mura的程度。
进一步可选的是,如图2、3所示,每个连续部5的多个透光部51中,每个透光部51的宽度从靠近非连续部3的一侧朝向远离非连续部3的一侧逐渐变窄。
例如当使用如图3所示的下部的掩膜板1对基板4进行了光配向时,由于基板4上与该下部的掩膜板1的非连续部3、以及与下部的掩膜板1的连续部5的透光部51对应的部分的光配向条件相同,因而在用该基板4生产出的液晶显示面板中,与该下部的掩膜板1的非连续部3、以及与下部的掩膜板1的连续部5的透光部51对应的部分亮度相当,假设均为较暗。则由于透光部51的宽度从靠近非连续部3的一侧朝向远离非连续部3的一侧逐渐变窄,则对应到液晶显示面板上,与非连续部3对应的位置较暗,在与连续部5对应的位置中,该较暗部分的宽度从靠近非连续部3的一侧朝向远离非连续部3的一侧逐渐变窄,则在液晶显示面板上,在由暗到明的过渡带位置,较暗部分的宽度慢慢减小而逐渐为零,即过渡到了较亮部分。
可选的,每个连续部5的多个不透光部52中,每个不透光部52的宽度从靠近非连续部3的一侧朝向远离非连续部3的一侧逐渐变宽。与上述同样地,液晶面板上,与下部的掩膜板1左端的连续部5的不透光部52对应的区域,是通过上部的掩膜板1右端的连续部5中的透光部51进行光配向的部分,液晶面板上,与上部的掩膜板1右端的连续部5中的透光部51、以及上部的掩膜板1的非连续部3对应的部分亮度较亮,由于下部的掩膜板1中的连续部5的多个不透光部52中,每个不透光部52的宽度从靠近非连续部3的一侧朝向远离非连续部3的一侧逐渐变宽。则在液晶显示面板上,在由暗到明的过渡带位置,较亮部分的宽度慢慢增加而逐渐过渡到上部的掩膜板1的非连续部3对应的较亮部分。
综上,可以使液晶显示面板上由暗到明的过渡更加自然,难以肉眼察觉,而进一步避免了Mura的发生。此外,对于透光部51宽度的减少程度,可以使每个连续部5的多个透光部51中,每相邻两个透光部51的宽度的减少量均相等,可以使液晶显示面板上,由暗到明或由明到暗的过渡更加自然。
可选的,如图1所示,每个掩膜图形区域2所包括的位于非连续部3两侧的连续部5相对于掩膜图形区域2的纵向轴线呈轴对称图形。由于掩膜板1的两个互相接续的连续部5之间透光部51和不透光部52之间的设置要互补,以在基板上形成完整的光配向结构,而如果每个掩膜图形区域2所包括的位于非连续部3两侧的连续部5相对于掩膜图形区域2的纵向轴线呈轴对称图形,这样可以使相邻两个掩膜板1均采用本实施例所述的掩膜板1,就能满足使用要求。
此外,也可以是所述掩膜图形区域2为至少两个,所有掩膜图形区域2大小和形状均相同,且至少两个掩膜图形区域2在掩膜板1的纵向上的投影彼此对齐并形成一列。对于一个掩膜板1上包含多个掩膜图形区域2的情况,考虑到各个掩膜板1的连续部5要相互配合形成完整的微配向结构,因而至少两个掩膜图形区域2在掩膜板1的纵向上的投影彼此对齐并形成一列。
本实施例中用于光配向的掩膜板,包括至少一个掩膜图形区域,其中,每个掩膜图形区域包括非连续部和位于非连续部两侧的连续部,连续部用于和其它掩膜板上的掩膜图形区域的连续部接续,连续部包括多个透光部和多个不透光部,透光部和不透光部沿掩膜板的横向交替排列;每个连续部中的透光部和与连续部接续的连续部的不透光部在掩膜板板面上的投影相互重合,且不透光部和与连续部接续的连续部的透光部在掩膜板板面上的投影相互重合,其中,掩膜板的纵向和掩膜板的横向均平行于掩膜板板面,并且纵向与基板相对于掩膜板的移动方向平行,横向与基板相对于掩膜板的移动方向垂直。通过在掩膜板上设置连续部,并且该连续部用于和其它掩膜板上的掩膜图形区域的连续部接续,即,在进行光配向时,两个掩膜板相邻的连续部互相交错布置,同时在一个掩膜板的连续部上形成的透光部和不透光部和另一个掩膜板的连续部上的不透光部和透光部互补,因此,在基板经过彼此交错的其中一个连续部时,与透光部对应的部分进行光配向,与不透光部对应的部分不进行光配向;之后,在基板经过彼此交错的另一个连续部时,基板上与交错区域相对应的部分中,之前进行了光配向的部分位于另一个掩膜板的不透光部之下,并与该不透光部完全重合,因而没有进行光配向,而之前未进行光配向的部分位于另一个掩膜板的透光部之下,并与该透光部完全重合,因而进行光配向。由此,在基板上与两个掩膜板的掩膜图形交错区域相对应的部分形成一个“光配向条件交替”的过渡带,因而在用该基板生产的液晶面板中,与该过渡带相对应地,能够形成“明暗交替”过渡带。与现有技术中,在该基板上与两个掩膜板的掩膜图形区域的交界处对应的位置处形成明显的“明暗界限”相比,本实施例的基板生产出的液晶显示面板由明到暗并不是突变,而是经过了一个“明暗交替”的过渡带,使得明暗变化不再那么明显,因而能消除成品液晶显示面板中的亮度不均的Mura现象。
实施例二
在实施例一的基础上,本实施例对前述实施例一的连续部中不透光部和透光部的排布方式进行了改进。其余部分与实施例一相同,此处不再赘述。
图4为本发明实施例二提供的另一种结构的用于光配向的掩膜板的结构示意图。如图4所示,每个连续部5的多个透光部51和多个不透光部52均呈等间距排列。这样设置可以使得液晶显示面板上与连续部5相对应的位置处形成的明暗交替较为均匀。从而减轻液晶显示面板亮度不均匀的程度。
实施例三
在实施例一的基础上,本实施例对前述实施例一的连续部中不透光部和透光部的排布方式进行了改进。其余部分与实施例一相同,此处不再赘述。
图5为本发明实施例三提供的再一种结构的用于光配向的掩膜板的连续部的结构示意图。如图5所示,每个连续部5包括的多个透光部51和多个不透光部52依次按照下述数列进行排布,该数列为:
“00010000000001000000001000000010000001000001000010001000100100100101001010010101010110101101011011011011101110111101111101111110111111101111111101111111110111”。
具体的,该连续部包括158个单位宽度的子单元,一个子单元的宽度可以和例如一个像素的宽度相等,也可以是其它的设定,本发明对此不做限定。在这158个子单元中,“0”表示该单位宽度为不透光部52,“1”表示该单位宽度为透光部51。下面说明如何按照上述数列设置连续部5,以图5中位于左端的连续部5中透光部和不透光部的排布来进行说明。如图5所示,最左端的不透光部52由三个单位宽度构成,对应数列的“000”,与之连接的透光部51由一个单位宽度构成,对应数列的“1”,接着的不透光部52由九个单位宽度构成,对应数列中的“000000000”,紧接着的透光部51由一个单位宽度构成,对应数列的“1”……以此类推,与数列相对应地形成连续部5。
本实施例的用于光配向的掩膜板中,连续部的排列按照特定的数列排布,由于连续部的多个透光部中,每个透光部的宽度从靠近非连续部的一侧朝向远离非连续部的一侧逐渐变窄;并且连续部的多个不透光部中,每个不透光部的宽度从靠近非连续部的一侧朝向远离非连续部的一侧逐渐变宽,因此可以使液晶显示面板上由暗到明的过渡更加自然,难以肉眼察觉,而进一步避免了Mura的发生。
实施例四
图6为本发明实施例四提供的用于光配向的掩膜组的结构示意图。如图6所示,本实施例提供一种用于光配向的掩膜组6,其包括至少两个如上述实施例一~实施例三中任一项所述的掩膜板1,相邻两个掩膜板1在掩膜板1的纵向上的位置彼此错开,相邻两个掩膜板1的相互接续的连续部5在掩膜板1的纵向上的投影位置相互重合。其中,掩膜板1的具体结构、功能以及工作原理均已在前述实施例一~实施例三中进行了详细说明,此处不再赘述。
与实施例一、图3中的情况类似地,两个掩膜板1在纵向间隔开,在纵向看去交错排列,并且相邻两个掩膜板1的相互接续的连续部5的透光部在掩膜板1的纵向上的投影彼此互补,并能够拼合为一个连续的整体,因此能够保证相邻的两个掩膜板1的连续部5接续。以位于最左端的、两个纵向相邻的掩膜板1对基板进行光配向为例来说明光配向过程,当基板4从相邻两个掩膜板1下方由图6的纸面下部朝向上部匀速经过两个掩膜板1时,紫外光照射该两个掩膜板1进行基板4的光配向,当基板4先经过设置在下部的掩膜板1后,基板4上与下部的掩膜板1上的非连续部3相对应的位置上,形成配向微结构,并且与下部的掩膜板1上的左端、右端的连续部5中,与透光部51对应的部分进行光配向,与不透光部52对应的部分不进行光配向。紧接着,当基板4经过设置在上部的掩膜板1后,基板4上与上部的掩膜板1上的非连续部3相对应的位置上,形成配向微结构,并且在上部的掩膜板1上的左端、右端的连续部5中,与透光部51对应的部分进行光配向,与不透光部52对应的部分不进行光配向。如此,通过相邻的掩膜板1后,基板4上,与上部的掩膜板1的非连续部3、上部的掩膜板1的左端的连续部5、下部的掩膜板1的右端的连续部5、上部的掩膜板1的非连续部3相对应的位置形成连贯的光配向微结构,而各个相邻的掩膜板1在基板上形成的连续的光配向微结构连起来,就在基板4上形成完整连续的光配向微结构。
此外,可选的,单个掩膜板1的位于两侧的连续部5在掩膜板1的纵向上的投影形成轴对称图形。这样设置也是为了使每两个相邻的掩膜板1的相互接续的连续部5上的透光部和不透光部的图案互补。从而使得基板4上生成的光配向微结构连续。
本实施例的用于光配向的掩膜组,其包括至少两个如上述实施例一~实施例三中任一项所述的掩膜板,相邻两个掩膜板在掩膜板的纵向上的位置彼此错开,相邻两个掩膜板的相互接续的连续部在掩膜板的纵向上的投影位置相互重合。这样设置,通过搭配多个掩膜板使用,可以用来对尺寸较大的基板进行光配向。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“连接”、“相连”、“固定”、“安装”等应做广义理解,例如可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接连接,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定、对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
Claims (9)
1.一种用于光配向的掩膜板,包括至少一个掩膜图形区域,其特征在于,每个所述掩膜图形区域包括非连续部和位于所述非连续部两侧的连续部,所述连续部用于和其它掩膜板上的掩膜图形区域的连续部接续,每个所述掩膜图形区域所包括的位于所述非连续部两侧的连续部相对于所述掩膜图形区域的纵向轴线呈轴对称图形;所述连续部包括多个透光部和多个不透光部,所述透光部和所述不透光部沿所述掩膜板的横向交替排列;
每个所述连续部中的所述透光部和与所述连续部接续的其他掩膜板的连续部的不透光部在所述掩膜板的板面上的投影彼此互补,且所述不透光部和与所述连续部接续的其他掩膜板的连续部的透光部在所述掩膜板的板面上的投影彼此互补。
2.根据权利要求1所述的用于光配向的掩膜板,其特征在于,每个所述连续部的多个所述透光部和多个所述不透光部均呈等间距排列。
3.根据权利要求1所述的用于光配向的掩膜板,其特征在于,每个所述连续部的多个所述透光部中,每相邻两根所述透光部之间的间距不相等,且每相邻两根所述不透光部之间的间距不相等。
4.根据权利要求3所述的用于光配向的掩膜板,其特征在于,每个所述连续部的多个所述透光部中,每个所述透光部的宽度从靠近所述非连续部的一侧朝向远离所述非连续部的一侧逐渐变窄;和/或,
每个所述连续部的多个所述不透光部中,每个所述不透光部的宽度从靠近所述非连续部的一侧朝向远离所述非连续部的一侧逐渐变宽。
5.根据权利要求4所述的用于光配向的掩膜板,其特征在于,每个所述连续部的多个所述透光部中,每相邻两个所述透光部的宽度的减少量均相等。
6.根据权利要求1所述的用于光配向的掩膜板,其特征在于,所述透光部和所述不透光部均为沿所述掩膜板的纵向延伸的条纹。
7.根据权利要求1所述的用于光配向的掩膜板,其特征在于,所述掩膜图形区域为至少两个,所有所述掩膜图形区域大小和形状均相同,且所述至少两个掩膜图形区域在所述掩膜板的纵向上的投影彼此对齐并形成一列。
8.一种用于光配向的掩膜组,其特征在于,包括至少两个如权利要求1至7任一项所述的掩膜板,相邻两个所述掩膜板在所述掩膜板的纵向上的位置彼此错开,相邻两个所述掩膜板的相互接续的连续部的透光部在所述掩膜板的纵向上的投影彼此互补,并能够拼合为一个连续的整体。
9.根据权利要求8所述的用于光配向的掩膜组,其特征在于,单个所述掩膜板的连续部在所述掩膜板的纵向上的投影形成轴对称图形。
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CN110161731B (zh) * | 2019-06-06 | 2020-11-17 | 成都中电熊猫显示科技有限公司 | 掩膜设备 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001077343A (ja) * | 1999-09-01 | 2001-03-23 | Sony Corp | Ccd撮像素子の製造装置及び製造方法 |
CN1490674A (zh) * | 2002-10-15 | 2004-04-21 | 友达光电股份有限公司 | 渐层遮光板曝光法的光罩及其侦测方法 |
TW200424754A (en) * | 2003-03-19 | 2004-11-16 | Fujitsu Display Tech | Exposure mask and pattern exposure method |
CN1892420A (zh) * | 2005-07-08 | 2007-01-10 | 友达光电股份有限公司 | 用于连续横向固化技术的掩膜及用其形成多晶硅层的方法 |
CN101390008A (zh) * | 2006-01-26 | 2009-03-18 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置 |
CN101589334A (zh) * | 2007-04-20 | 2009-11-25 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置 |
CN101622572A (zh) * | 2007-03-05 | 2010-01-06 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置及其制造方法 |
CN103235458A (zh) * | 2013-04-27 | 2013-08-07 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | Tft-lcd阵列基板及其制造方法 |
CN104298069A (zh) * | 2014-10-13 | 2015-01-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜框架、掩膜板及其制作方法 |
CN104777674A (zh) * | 2015-04-27 | 2015-07-15 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种用于光配向的光罩装置及应用设备 |
CN104965388A (zh) * | 2015-07-06 | 2015-10-07 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 用于光配向的光罩及光配向方法 |
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Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6846596B2 (en) * | 2001-03-08 | 2005-01-25 | Numerical Technologies, Inc. | Alternating phase shift masking for multiple levels of masking resolution |
-
2018
- 2018-11-13 CN CN201811344578.3A patent/CN109270743B/zh active Active
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001077343A (ja) * | 1999-09-01 | 2001-03-23 | Sony Corp | Ccd撮像素子の製造装置及び製造方法 |
CN1490674A (zh) * | 2002-10-15 | 2004-04-21 | 友达光电股份有限公司 | 渐层遮光板曝光法的光罩及其侦测方法 |
TW200424754A (en) * | 2003-03-19 | 2004-11-16 | Fujitsu Display Tech | Exposure mask and pattern exposure method |
CN1892420A (zh) * | 2005-07-08 | 2007-01-10 | 友达光电股份有限公司 | 用于连续横向固化技术的掩膜及用其形成多晶硅层的方法 |
CN101390008A (zh) * | 2006-01-26 | 2009-03-18 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置 |
CN101622572A (zh) * | 2007-03-05 | 2010-01-06 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置及其制造方法 |
CN101589334A (zh) * | 2007-04-20 | 2009-11-25 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置 |
CN103235458A (zh) * | 2013-04-27 | 2013-08-07 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | Tft-lcd阵列基板及其制造方法 |
CN104298069A (zh) * | 2014-10-13 | 2015-01-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜框架、掩膜板及其制作方法 |
WO2016058311A1 (zh) * | 2014-10-13 | 2016-04-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜框架、掩膜板及其制作方法 |
CN104777674A (zh) * | 2015-04-27 | 2015-07-15 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种用于光配向的光罩装置及应用设备 |
CN104965388A (zh) * | 2015-07-06 | 2015-10-07 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 用于光配向的光罩及光配向方法 |
CN105572973A (zh) * | 2015-12-23 | 2016-05-11 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 一种掩膜板及光配向方法 |
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