CN109212890A - 掩膜版、显示基板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种掩膜版、显示基板及其制作方法，该掩膜版包括：透明衬底以及设置于所述透明衬底上的遮光层，所述遮光层上具有第一开口图形；所述透明衬底包括：第一区域，所述第一区域在所述遮光层上的正投影与所述第一开口图形重叠，所述第一区域的至少部分边缘区域具有光线汇聚结构，所述光线汇聚结构用于将入射至所述至少部分边缘区域的光线向所述第一开口图形的中心区域汇聚。本发明中，通过在掩膜版的开口的边缘区域设置光线汇聚结构，可以将入射至开口的边缘区域的光线向开口的中心区域汇聚，补偿中心区域欠缺的光强度，避免形成火山口形貌的膜层图形。

Description

掩膜版、显示基板及其制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜版、显示基板及其制作方法。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)以其具有高画质、高空间利用率、低消耗功率、无辐射等众多优点成为市场的主流。在液晶显示面板中，彩膜基板和阵列基板相对设置形成液晶盒，为保证液晶盒的盒厚的均一性，隔垫物(Photo Spacer，PS)起到重要的作用。
目前使用半透膜掩膜板(Half-tone Mask)制作隔垫物时，Half-Tone Mask开口处的光透过率为确定的数值。当曝光间隙(Gap)一定时(图1中gap＝200μm)，透过不同Half-Tone Mask开口的光强度分布如图1所示。当Half-Tone Mask开口大小为30μm或35μm时，入射光靠近开口两端处的光强度最弱，在开口两端向中间位置过渡过程中，光强度逐渐增强，但是，从图1可以看出，透过其开口中心区域的光强度反而会比相邻区域弱，此特殊的光强度分布会使得隔垫物呈现火山口形貌，且Mask CD越大，隔垫物火山口越严重。
图2-4为实际不同Half-Tone Mask开口下形成的隔垫物形貌。从图2-4可以看出，Half-Tone Mask开口为25μm时，隔垫物形貌正常；开口增大至30μm和35μm时，隔垫物形貌出现火山口形貌，且开口越大，形貌越差。
由于火山口形貌的隔垫物在支撑作用上会大打折扣，会造成Touch Mura等力学不良，影响产品品质。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种掩膜版、显示基板及其制作方法，用于解决利用目前的掩膜版形成的膜层图形容易出现火山口形貌的问题。
为解决上述技术问题，本发明提供一种掩膜版，包括：
透明衬底，以及，设置于所述透明衬底上的遮光层，所述遮光层上具有第一开口图形；
所述透明衬底包括：第一区域，所述第一区域在所述遮光层上的正投影与所述第一开口图形重叠，所述第一区域的至少部分边缘区域具有光线汇聚结构，所述光线汇聚结构用于将入射至所述至少部分边缘区域的光线向所述第一开口图形的中心区域汇聚。
可选的，所述第一开口图形的横截面形状为矩形或圆形，所述第一开口图形的中心区域的宽度为所述第一开口图形的宽度的2/5～4/5。
可选的，所述光线汇聚结构为开设于所述第一区域的顶面的凹槽，所述顶面为所述第一区域的远离所述第一开口图形的一侧表面。
可选的，所述第一区域为长方体或圆柱体，所述凹槽的纵截面形状为直角三角形，所述直角三角形的第一直角边位于所述第一区域的顶面上，第二直角边垂直于所述第一区域的顶面。
可选的，所述第二直角边位于所述长方体或圆柱体的侧面上。
可选的，采用如下公式确定所述直角三角形的尺寸：
Tanα＝y/x；
Sinα/Sinβ＝n；
Tan(α-β)＝L1/(h-y)；
Tan(α-β)＝(L1+L2-x)/h；
其中，x为所述第一直角边，y为所述第二直角边，n为光从空气斜射入所述透明衬底时的相对折射率，L2为所述第一开口图形的中心区域的宽度，L1为(L-L2)/2，L为所述第一开口图形的宽度，h为所述透明衬底的厚度，α为所述直角三角形的斜边的入射光与法线的夹角，β为从所述直角三角形的斜边进入所述第一区域的折射光与法线的夹角。
可选的，所述掩膜版还包括：
部分透光膜，设置于所述第一开口图形上，所述第一开口图形用于形成辅隔垫物；
所述遮光层上还具有第二开口图形，所述第二开口图形用于形成主隔垫物。
可选的，所述第一开口图形的宽度大于或等于30μm。
本发明还提供一种显示基板的制作方法，包括：
采用上述掩膜版形成隔垫物的步骤。
本发明还提供一种显示基板，包括隔垫物，所述隔垫物采用上述制作方法制作而成。
本发明的上述技术方案的有益效果如下：
通过在掩膜版的开口的边缘区域设置光线汇聚结构，可以将入射至开口的边缘区域的光线向开口的中心区域汇聚，补偿中心区域欠缺的光强度，避免形成火山口形貌的膜层图形。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为透过不同大小的Half-Tone Mask开口的光强度分布示意图；
图2为Half-Tone Mask开口的宽度为25μm时，形成的隔垫物的形貌示意图；
图3为Half-Tone Mask开口的宽度为30μm时，形成的隔垫物的形貌示意图；
图4为Half-Tone Mask开口的宽度为35μm时，形成的隔垫物的形貌示意图；
图5为本发明一实施例的掩膜版的结构示意图；
图6是图5中的掩膜版的光路示意图；
图7为本发明实施例的掩膜版上的光路汇聚结构的尺寸示意图；
图8为本发明另一实施例的掩膜版的结构示意图；
图9为本发明又一实施例的掩膜版的结构示意图；
图10为采用现有技术中的掩膜版和本发明实施例中的掩膜版制作的隔垫物形貌的比对图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参考图5，图5为本发明一实施例的掩膜版的结构示意图，该掩膜版包括：透明衬底10，以及，设置于所述透明衬底10上的遮光层20，所述遮光层20上具有第一开口图形21；所述透明衬底10包括：第一区域11(图5中虚线框所框部分)，所述第一区域11正对所述第一开口图形21，在所述遮光层20上的正投影与所述第一开口图形21重叠，所述第一区域11的至少部分边缘区域具有光线汇聚结构111，所述光线汇聚结构111用于将入射至所述至少部分边缘区域的光线向所述第一开口图形21的中心区域汇聚。
请参考图6，图6是图5中的掩膜版的光路示意图，从图6中可以看出，当光线照射至光线汇聚结构111时，光线汇聚结构111会将入射光汇聚至第一开口图形21的中心区域211。
本发明实施例中，通过在掩膜版的开口的边缘区域设置光线汇聚结构，可以将入射至开口的边缘区域的光线向开口的中心区域汇聚，补偿中心区域欠缺的光强度，避免形成火山口形貌的膜层图形。
本发明实施例中，所述透明衬底10可以采用玻璃等透明材质形成。遮光层20可以采用任意不透明材料形成，例如金属等。遮光层20形成在透明衬底10的底面上，其上开设有多个第一开口图形21。所述底面为所述第一区域11的靠近所述第一开口图形21的一侧表面。
本发明实施例中，光线汇聚结构111可以设置在第一区域11的部分边缘区域，优选的，光线汇聚结构111设置在第一区域11的全部边缘区域，从而可以将全部边缘区域的光线向开口的中心区域汇聚，进一步补偿中心区域欠缺的光强度。
本发明实施例中，光线汇聚结构111可以为多种类型的结构，只要能够达到将入射至第一区域11的光线向第一开口图形21的中心区域211汇聚的目的即可。
在本发明的一些实施例中，所述第一开口图形21的横截面形状可以为矩形，所述矩形包括长方形和正方形。可选的，所述第一开口图形的中心区域的宽度为所述第一开口图形的宽度的2/5～4/5。此处所说的宽度，是指矩形的长边的宽度。当所述第一开口图形21的横截面图形为矩形时，所述第一区域11为长方体。所谓横截面是指采用一平面截所述掩膜版得到的截面，所述平面平行于所述掩膜版所在平面。
在本发明的另外一些实施例中，所述第一开口图形21的横截面形状还可以为圆形。可选的，所述第一开口图形的中心区域的宽度为所述第一开口图形的宽度的2/5～4/5。此处所说的宽度，是指圆形的直径。当所述第一开口图形21的横截面图形为圆形时，所述第一区域11为圆柱体。
图5所示的实施例中，所述光线汇聚结构111为开设于所述第一区域11的顶面的凹槽，所述顶面为所述第一区域11的远离所述第一开口图形21的一侧表面。本发明实施例中，直接在所述第一区域11顶面形成凹槽，即可形成光线汇聚结构111，制作方式简单，且不需要增加额外的部件，成本较低。
当然，在本发明的其他一些实施例中，所述光线汇聚结构111也可以为其他结构，例如，设置在所述第一区域11顶面边缘区域的光学部件等。
本发明实施例中，作为光线汇聚结构111的凹槽的形状不限，只要能够达到将照射至凹槽的光线，向第一开口图形21的中心区域211汇聚的目的即可。
图5所示的实施例中，所述第一区域11为长方体或圆柱体，所述凹槽的纵截面形状为直角三角形，所述直角三角形的第一直角边x位于所述第一区域11的顶面上，第二直角边y垂直于所述第一区域11的顶面。本发明实施例中，所谓纵截面，是指采用一平面截所述掩膜版得到的截面，所述平面垂直于所述掩膜版所在平面。本发明实施例中，入射到直角三角形斜边上的光线，均会发生折射，向第一开口图形21的中心区域汇聚，该种结构下，能够达到较好的汇聚效果。
图5所示的实施例中，所述第二直角边y位于所述长方体或圆柱体的侧面上，即凹槽设置在最靠近第一区域边缘位置，从而尽量不影响其他区域的光线的透过。
当凹槽的纵截面为直角三角形时，直角三角形的尺寸的确定方法如下：
在说明直角三角形的尺寸的计算方法之前，首先说明以下几点：
1)本发明实施例中，根据掩膜版开口光强分布图及实测结果得出，膜层图形火山口位于掩膜版开口的中心位置，宽度约占整个开口的2/5～4/5，也就是说，入射光穿过掩膜版边缘区域方向发生变化后，能够覆盖该区域，即优选地，上述第一开口图形的中心区域的宽度为第一开口图形的宽度的2/5～4/5。
2)由于透明衬底的厚度(约13mm)远大于掩膜版的底面与膜层图形顶面的距离(约0.2mm)，因此掩膜版底面对入射光方向的影响极为有限，需重点考虑掩膜版顶面对入射光方向偏转的影响。
3)光从一种介质斜射入另一介质中时，入射角α和折射角β符合折射率公式sinα/sinβ＝n，其中n为两种介质的折射率比值。
请参考图7，以第一区域左边缘的直角三角形为例，计算直角三角形的尺寸，当然，右边缘的直角三角形的尺寸的计算方法同理，不再一一说明。
已知量：1)第一开口图形的宽度为L，第一开口图形的中心区域的宽度为L2，L2的取值范围为(2/5～4/5)L，L＝L2+2L1，即L1为(L-L2)/2；2)透明衬底的厚度为h；3)光从空气斜射入所述透明衬底时的相对折射率为n；
未知量：1)直角三角形的第一直角边AB长为x；2)直角三角形的第二直角边AC长为y；3)直角三角形的斜边的入射光与法线的夹角∠DCA为α；4)从直角三角形的斜边进入第一区域的折射光与法线的夹角∠ECH为β。
可推出以下关系：
1)在△ABC中，Tanα＝y/x；
2)根据光的折射率公式，Sinα/Sinβ＝n；
3)在△CFH中，Tan(α-β)＝L1/(h-y)；
4)在△BGI中，Tan(α-β)＝(L1+L2-x)/h；
由以上四个方程可算出未知量x、y、α、β，即直角三角形的尺寸。
当然，上述凹槽的纵截面形状也不限于为直角三角形，还可以为其他形状，请参考图8。
请参考图9，图9为本发明又一实施例的掩膜版的结构示意图，该掩膜版与图5所示的掩膜版的区别在于，还包括：部分透光膜30，设置于所述第一开口图形21上，所述第一开口图形21用于形成辅隔垫物；所述遮光层上还具有第二开口图形22，所述第二开口图形22上不设置所述部分透光膜30，所述第二开口图形22用于形成主隔垫物。本发明实施例中，掩膜版为灰色调或半色调掩膜版，第一开口图形21所在区域为部分透光区域，形成的辅隔垫物容易出现火山口形貌，因而本发明实施例中，针对部分透光区域，增加光线汇聚结构111，将入射至开口边缘区域的光线向所述第一开口图形21的中心区域汇聚，补偿中心区域欠缺的光强度，避免形成火山口形貌的辅隔垫物，从而避免了显示面板因隔垫物支撑强度不够引起的Touch Mura等力学不良，提高了显示品质。
请参考图10，图10为采用现有技术中的掩膜版和本发明实施例中的掩膜版制作的隔垫物形貌的比对图，从图10中可以看出，采用本方实施例中的掩膜版制作隔垫物时，由于开口的边缘区域的光线向开口的中心区域汇聚，可以补偿中心区域欠缺的光强度，因而形成的隔垫物具有平坦的顶面，不再具有火山口形貌。
本发明的上述实施例中，所述第一开口图形的宽度大于或等于30μm，因为宽度大于或等于30μm的第一开口图形，形成的膜层图形容易出现透过其开口的中心区域的光强度比相邻区域弱的情况。
本发明实施例还提供一种显示基板的制作方法，包括采用上述任一实施例所述的掩膜版形成隔垫物的步骤。
本发明实施例中，可选的，所述显示基板为彩膜基板。
本发明实施例还提供一种显示基板，包括隔垫物，所述隔垫物采用上述实施例所述的制作方法制作而成。
除非另作定义，本发明中使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也相应地改变。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种掩膜版，其特征在于，包括：
透明衬底，以及，设置于所述透明衬底上的遮光层，所述遮光层上具有第一开口图形；
所述透明衬底包括：第一区域，所述第一区域在所述遮光层上的正投影与所述第一开口图形重叠，所述第一区域的至少部分边缘区域具有光线汇聚结构，所述光线汇聚结构用于将入射至所述至少部分边缘区域的光线向所述第一开口图形的中心区域汇聚。
2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一开口图形的横截面形状为矩形或圆形，所述第一开口图形的中心区域的宽度为所述第一开口图形的宽度的2/5～4/5。
3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述光线汇聚结构为开设于所述第一区域的顶面的凹槽，所述顶面为所述第一区域的远离所述第一开口图形的一侧表面。
4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述第一区域为长方体或圆柱体，所述凹槽的纵截面形状为直角三角形，所述直角三角形的第一直角边位于所述第一区域的顶面上，第二直角边垂直于所述第一区域的顶面。
5.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述第二直角边位于所述长方体或圆柱体的侧面上。
6.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，采用如下公式确定所述直角三角形的尺寸：
Tanα＝y/x；
Sinα/Sinβ＝n；
Tan(α-β)＝L1/(h-y)；
Tan(α-β)＝(L1+L2-x)/h；
其中，x为所述第一直角边，y为所述第二直角边，n为光从空气斜射入所述透明衬底时的相对折射率，L2为所述第一开口图形的中心区域的宽度，L1为(L-L2)/2，L为所述第一开口图形的宽度，h为所述透明衬底的厚度，α为所述直角三角形的斜边的入射光与法线的夹角，β为从所述直角三角形的斜边进入所述第一区域的折射光与法线的夹角。
7.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，还包括：
部分透光膜，设置于所述第一开口图形上，所述第一开口图形用于形成辅隔垫物；
所述遮光层上还具有第二开口图形，所述第二开口图形用于形成主隔垫物。
8.根据权利要求1-7任一项所述的掩膜版，其特征在于，所述第一开口图形的宽度大于或等于30μm。
9.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：
采用如权利要求1-8任一项所述的掩膜版形成隔垫物的步骤。
10.一种显示基板，其特征在于，包括隔垫物，所述隔垫物采用如权利要求9所述的制作方法制作而成。
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US (1) US11086212B2 (zh)
CN (1) CN109212890B (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110161731A (zh) * 2019-06-06 2019-08-23 成都中电熊猫显示科技有限公司 掩膜设备
CN114326221A (zh) * 2021-12-30 2022-04-12 惠科股份有限公司 显示面板、基板的制作方法及显示装置
WO2024045984A1 (zh) * 2022-08-31 2024-03-07 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板、显示面板及掩膜版
WO2024174200A1 (zh) * 2023-02-24 2024-08-29 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制备方法、显示面板和掩膜版

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN202522841U (zh) * 2012-04-20 2012-11-07 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版
CN102819147A (zh) * 2011-06-07 2012-12-12 株式会社日本显示器东 显示装置
CN104238199A (zh) * 2014-09-10 2014-12-24 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示装置
CN104317160A (zh) * 2014-09-19 2015-01-28 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版、利用其形成的隔垫物及利用其制备隔垫物的方法
CN105093813A (zh) * 2015-09-11 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 光掩模板和曝光系统
CN105093618A (zh) * 2015-08-06 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制备方法和显示面板
CN105824189A (zh) * 2016-06-08 2016-08-03 京东方科技集团股份有限公司 掩模板和基板间隔柱及其制备方法、显示面板
CN107195540A (zh) * 2017-06-05 2017-09-22 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置
CN107463064A (zh) * 2017-08-17 2017-12-12 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版、显示基板及其制作方法和显示装置

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5023589B2 (ja) * 2006-07-21 2012-09-12 大日本印刷株式会社 フォトマスクおよび該フォトマスクの設計方法

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102819147A (zh) * 2011-06-07 2012-12-12 株式会社日本显示器东 显示装置
CN202522841U (zh) * 2012-04-20 2012-11-07 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版
CN104238199A (zh) * 2014-09-10 2014-12-24 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示装置
CN104317160A (zh) * 2014-09-19 2015-01-28 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版、利用其形成的隔垫物及利用其制备隔垫物的方法
CN105093618A (zh) * 2015-08-06 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制备方法和显示面板
CN105093813A (zh) * 2015-09-11 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 光掩模板和曝光系统
CN105824189A (zh) * 2016-06-08 2016-08-03 京东方科技集团股份有限公司 掩模板和基板间隔柱及其制备方法、显示面板
CN107195540A (zh) * 2017-06-05 2017-09-22 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置
CN107463064A (zh) * 2017-08-17 2017-12-12 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版、显示基板及其制作方法和显示装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
李保勤: "《物理学应用基础》", 31 October 2009, 山东大学出版社 *

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110161731A (zh) * 2019-06-06 2019-08-23 成都中电熊猫显示科技有限公司 掩膜设备
CN110161731B (zh) * 2019-06-06 2020-11-17 成都中电熊猫显示科技有限公司 掩膜设备
CN114326221A (zh) * 2021-12-30 2022-04-12 惠科股份有限公司 显示面板、基板的制作方法及显示装置
WO2024045984A1 (zh) * 2022-08-31 2024-03-07 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板、显示面板及掩膜版
WO2024174200A1 (zh) * 2023-02-24 2024-08-29 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制备方法、显示面板和掩膜版

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