JP5023589B2 - フォトマスクおよび該フォトマスクの設計方法 - Google Patents
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Description
一方、フォトリソグラフィに用いられるフォトマスク(レチクルとも称する。)における解像度向上策としては、光を通過させる部分と遮光する部分で構成された従来のバイナリマスクの微細化、高精度化とともに、光の干渉を利用した位相シフト効果により解像度向上を図るレベンソン型(渋谷・レベンソン型とも称する。)位相シフトマスク、光を透過させる部分と半透過させる部分で構成されたハーフトーン型位相シフトマスク、クロムなどの遮光層を設けないクロムレス型位相シフトマスクなどの位相シフトマスクの開発、実用化が進行している。
しかしながら、ハーフピッチ60nm以下のフォトリソグラフィにおいては、レジスト内での光学像のコントラストに関係する種々のパラメータが複雑に関係し、また超微細パターンゆえに実験での実証も困難であり、コントラスト向上効果が大きいフォトマスクのパラメータおよびそれに基づくフォトマスク構造を容易に見出すことができないという問題がある。
図1は、本発明のフォトマスクの一例を示す断面模式図である。図1に示すように、本発明のフォトマスクは、透明基板11上に遮光膜または半透明膜よりなるマスクパターン12を有するフォトマスクであって、ArFエキシマレーザを露光光源とし、高NAレンズで四重極偏光照明により液浸露光するフォトリソグラフィに用いられ、レジスト内での光学像のコントラストが少なくとも0.580を超える値を示すフォトマスクである。
バイアス(d)=2×a
図1において、マスクは4倍体のレチクルであるので、xはハーフピッチの4倍の数値を示す。図1において、バイアスdの値が+の場合はxが広がる方向であり、dの値が−の場合はxが狭くなる方向を意味する。
フォトマスクの照明条件として、本発明では、ハーフピッチ60nm以下のフォトリソグラフィにおいて、露光波長193nmのArFエキシマレーザを用い、投影レンズの開口数(NA)を1.3とし、純水を用いた液浸露光を用いた。ただし、実施形態の一例としてNA=1.3の高NAレンズを用いた場合について説明するが、本発明のフォトマスクにおいては、NAが1以上の高NAレンズであればNA=1.3と同様にコントラスト向上効果が得られるものであり、例えば高屈折率液体を用いた液浸露光においてもコントラスト向上効果が得られる。
図2では、一例として四重極瞳フィルタの寸法を記載しており、瞳径を1とした時に開口部の外径0.95、内径0.7、角度:20°の扇状形状の瞳を示すが、もとより本発明はこれらの寸法に限定されるわけではない。
図2では、四重極瞳の4つの透光部21は扇型の形状をしているが、他の形状、例えば、円形、矩形、楕円形等とすることもできる。
フォトマスクの評価方法として、本発明においては、上記のフォトリソグラフィにおけるマスクパターンの転写特性を見積もるために、シミュレーション・ソフトウェアとしてEM−Suite(商品名:Panoramic Technology社製)を用いた。また、フォトマスクの三次元電磁界シミュレーションにはTEMPESTpr2(EM−Suiteオプション)によるFDTD法(時間領域差分法、有限差分時間領域法とも称する。)で、Non−constant scattering coefficientモデルを用いた。マスク中の電磁場解析のシミュレーショングリッドは、マスク寸法上でマスクの厚さ方向に2.5nm、パターン繰り返し方向に3.0nmとし、解像性能評価にはAerial in Resistモデルを使用し、レジスト内での光学像のコントラストを求めた。また、レジストの屈折率は1.72とした。FDTD法は、Maxwell方程式を時間と空間について差分化し、その差分方程式を領域内の電磁場が安定するまで、磁界と電界について交互に計算する方法で、高精度で、フォトマスク構造による影響などの各種現象の再現が可能な方法である。
本発明の第1の実施形態のフォトマスクは、ArFエキシマレーザを露光光源とし、高NAレンズで四重極偏光照明により液浸露光するフォトリソグラフィに用いられるフォトマスクにおいて、上記のフォトマスクが透明基板上に遮光膜または半透明膜よりなるマスクパターンを有し、上記のフォトリソグラフィにおいて位相シフト効果の使用の有無に係らない場合であって、レジスト内での光学像のコントラストが0.580を超えるフォトマスクである。
図3〜図12において、横軸は遮光膜または半透明膜の屈折率、縦軸は消衰係数を示し、各図の等高線はフォトマスクを用いたリソグラフィにおけるレジスト内での光学像のコントラスト(以後、cとも記す。)を示す。図3〜図12において、コントラストcは、0.580以下の範囲と、0.580を超えて0.612以下の範囲と、0.612を超えた範囲に分類してある。また、図3〜図12において、(A)、(B)、(C)および(D)は、それぞれの膜厚におけるマスクパターンのスペース部のバイアスdであり、(A)はd=−100nm、(B)はd=−50nm、(C)はd=0nm、(D)はd=50nmの場合を例示している。
図3(A)は、フォトマスクの遮光膜または半透明膜の膜厚が20nm、マスクパターンのスペース部のバイアスが−100nmの場合の例を示し、遮光膜または半透明膜の屈折率nを0.5≦n<0.9、消衰係数kを2.8<k≦3.0の範囲にとったフォトマスクを用いることにより、コントラストが0.594〜0.606の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.580を超えるフォトマスクの条件として、0<t≦20、−100≦d<−50、0.5≦n<0.9、2.8<k≦3.0の範囲を得た。
図4(A)および図4(B)は、フォトマスクの遮光膜または半透明膜の膜厚が40nm、マスクパターンのスペース部のバイアスが−100nmおよび−50nmの場合の例を示す。図4(A)、図4(B)および図3(A)から、遮光膜または半透明膜の屈折率nを0.5≦n<2.9、消衰係数kを1.6<k≦3.0の範囲にとったフォトマスクを用いることにより、コントラストが0.581〜0.860の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.580を超えるフォトマスクの条件として、20<t≦40、−100≦d<0、0.5≦n<2.9、1.6<k≦3.0の範囲を得た。
図5(A)、図5(B)および図5(C)は、フォトマスクの遮光膜または半透明膜の膜厚が60nm、マスクパターンのスペース部のバイアスが−100nm、−50nmおよび0の場合の例を示す。図5(A)、図5(B)、図5(C)および図4(A)、図4(B)から、遮光膜または半透明膜の屈折率nを0.5≦n≦2.9、消衰係数kを1.0<k≦3.0の範囲にとったフォトマスクを用いることにより、コントラストが0.581〜0.882の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.580を超えるフォトマスクの条件として、40<t≦60、−100≦d<0、0.5≦n≦2.9、1.0<k≦3.0の範囲を得た。
図6(A)および図6(B)は、フォトマスクの遮光膜または半透明膜の膜厚が80nm、マスクパターンのスペース部のバイアスが−100nmおよび−50nmの場合の例を示す。図6(A)、図6(B)および図5(A)、図5(B)から、遮光膜または半透明膜の屈折率nを0.5≦n≦2.9、消衰係数kを0.6<k≦3.0の範囲にとったフォトマスクを用いることにより、コントラストが0.581〜0.831の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.580を超えるフォトマスクの条件として、60<t≦80、−100≦d<−50、0.5≦n≦2.9、0.6<k≦3.0の範囲を得た。
図7(A)、図8(A)、図9(A)、図10(A)、および図7(B)、図8(B)、図9(B)、図10(B)は、フォトマスクの遮光膜または半透明膜の膜厚が100nm、120nm、140nm、160nmの場合において、それぞれの膜厚でのマスクパターンのスペース部のバイアスが−100nmおよび−50nmの場合の例を示す。図7(A)、図8(A)、図9(A)、図10(A)、図7(B)、図8(B)、図9(B)、図10(B)および図6(A)、(B)から、遮光膜または半透明膜の屈折率nを0.5≦n≦2.9、消衰係数kを0.4<k≦3.0の範囲にとったフォトマスクを用いることにより、コントラストが0.581〜0.975の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.580を超えるフォトマスクの条件として、80<t≦160、−100≦d<−50、0.5≦n≦2.9、0.4<k≦3.0の範囲を得た。
図11(A)、図12(A)、および図11(B)、図12(B)は、フォトマスクの遮光膜または半透明膜の膜厚が180nm、200nmの場合において、それぞれの膜厚でのマスクパターンのスペース部のバイアスが−100nmおよび−50nmの場合の例を示す。図11(A)、図11(B)、図12(A)、図12(B)および図10(A)、図10(B)から、遮光膜または半透明膜の屈折率nを0.5≦n≦2.9、消衰係数kを0.2<k≦3.0の範囲にとったフォトマスクを用いることにより、コントラストが0.581〜0.987の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.580を超えるフォトマスクの条件として、160<t≦200、−100≦d<−50、0.5≦n≦2.9、0.2<k≦3.0の範囲を得た。
図6(C)、図7(C)、図8(C)は、フォトマスクの遮光膜または半透明膜の膜厚が80nm、100nm、120nmの場合において、マスクパターンのスペース部のバイアスが0の場合の例を示す。図6(B)、図7(B)、図8(B)および図5(B)、図5(C)、図6(C)、図7(C)、図8(C)から、遮光膜または半透明膜の屈折率nを0.5≦n≦2.9、消衰係数kを0.4<k≦3.0の範囲にとったフォトマスクを用いることにより、コントラストが0.581〜0.873の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.580を超えるフォトマスクの条件として、60<t≦120、−50≦d<0、0.5≦n≦2.9、0.4<k≦3.0の範囲を得た。
図9(C)、図10(C)および図10(D)は、フォトマスクの遮光膜または半透明膜の膜厚が140nm、160nmの場合において、マスクパターンのスペース部のバイアスが0の場合およびフォトマスクの遮光膜または半透明膜の膜厚が160nmの場合において、マスクパターンのスペース部のバイアスが50の場合の例を示す。図8(B)、図8(C)、図9(B)、図9(C)、図10(B)、図10(C)および図10(D)から、遮光膜または半透明膜の屈折率nを0.5≦n≦2.9、消衰係数kを0.2<k≦3.0の範囲にとったフォトマスクを用いることにより、コントラストが0.581〜0.941の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.580を超えるフォトマスクの条件として、120<t≦160、−50≦d<50、0.5≦n≦2.9、0.2<k≦3.0の範囲を得た。
図11(C)、図12(C)および図11(D)、図12(D)は、フォトマスクの遮光膜または半透明膜の膜厚が180nm、200nmの場合において、それぞれの膜厚でのマスクパターンのスペース部のバイアスが0および50nmの場合の例を示す。図10(B)、図10(C)、図11(B)、図11(C)、図12(B)および図12(C)および図10(D)、図11(D)、図12(D)から、遮光膜または半透明膜の屈折率nを0.5≦n≦2.9、消衰係数kを0.2<k≦3.0の範囲にとったフォトマスクを用いることにより、コントラストが0.581〜0.972の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.580を超えるフォトマスクの条件として、160<t≦200、−50≦d<50、0.5≦n≦2.9、0.0<k≦3.0の範囲を得た。
図5(C)から、遮光膜または半透明膜の屈折率nを0.5≦n<1.3、消衰係数kを2.2<k≦3.0の範囲にとったフォトマスクを用いることにより、コントラストが0.581〜0.607の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.580を超えるフォトマスクの条件として、40<t≦60、0≦d<50、0.5≦n<1.3、2.2<k≦3.0の範囲を得た。
図6(C)および図5(C)から、遮光膜または半透明膜の屈折率nを0.5≦n<2.5、消衰係数kを0.4<k≦3.0の範囲にとったフォトマスクを用いることにより、コントラストが0.581〜0.635の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.580を超えるフォトマスクの条件として、60<t≦80、0≦d<50、0.5≦n<2.5、0.4<k≦3.0の範囲を得た。
図7(C)、図8(C)および図6(C)から、遮光膜または半透明膜の屈折率nを0.5≦n≦2.9、消衰係数kを0.4<k≦3.0の範囲にとったフォトマスクを用いることにより、コントラストが0.581〜0.716の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.580を超えるフォトマスクの条件として、80<t≦120、0≦d<50、0.5≦n≦2.9、0.4<k≦3.0の範囲を得た。
図10(D)から、遮光膜または半透明膜の屈折率nを0.5≦n<0.7、消衰係数kを2.2<k<2.8の範囲にとったフォトマスクを用いることにより、コントラストが0.583〜0.596の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.580を超えるフォトマスクの条件として、140<t≦160、50≦d<100、0.5≦n<0.7、2.2<k<2.8の範囲を得た。
図11(D)および図10(D)から、遮光膜または半透明膜の屈折率nを0.5≦n<1.5、消衰係数kを1.2<k<2.8の範囲にとったフォトマスクを用いることにより、コントラストが0.581〜0.601の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.580を超えるフォトマスクの条件として、160<t≦180、50≦d<100、0.5≦n<1.5、1.2<k<2.8の範囲を得た。
図12(D)および図11(D)から、遮光膜または半透明膜の屈折率nを0.5≦n<2.1、消衰係数kを0.0<k<2.8の範囲にとったフォトマスクを用いることにより、コントラストが0.581〜0.643の範囲の光学像が得られることが示された。
も考慮し、本実施例においては、コントラストが0.580を超えるフォトマスクの条件として、180<t≦200、50≦d<100、0.5≦n<2.1、0.0<k<2.8の範囲を得た。
本発明の第2の実施形態のフォトマスクは、ArFエキシマレーザを露光光源とし、高NAレンズで四重極偏光照明により液浸露光するフォトリソグラフィに用いられるフォトマスクにおいて、上記のフォトマスクが透明基板上に遮光膜または半透明膜よりなるマスクパターンを有し、上記のフォトリソグラフィにおいて位相シフト効果を使わない場合であって、レジスト内での光学像のコントラストが0.612を超えるフォトマスクである。
図3〜図12において、横軸は遮光膜または半透明膜の屈折率、縦軸は消衰係数を示し、各図の等高線はフォトマスクを用いたリソグラフィにおけるレジスト内での光学像のコントラストを示す。図3〜図12において、コントラストcは、0.580以下の範囲と、0.580を超えて0.612以下の範囲と、0.612を超えた範囲に分類してある。また、図3〜図12において、(A)、(B)、(C)および(D)は、それぞれの膜厚におけるマスクパターンのスペース部のバイアスdであり、(A)はd=−100nm、(B)はd=−50nm、(C)はd=0nm、(D)はd=50nmの場合を例示している。
図4(A)、図4(B)および図3(A)から、コントラストが0.614〜0.860の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.612を超えるフォトマスクの条件として、20<t≦40、−100≦d<−50、0.5≦n<1.9、1.8<k≦3.0の範囲を得た。
図5(A)および図4(A)、図4(B)、図5(B)から、コントラストが0.613〜0.882の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.612を超えるフォトマスクの条件として、40<t≦60、−100≦d<−50、0.5≦n<2.3、1.0<k≦3.0の範囲を得た。
図6(A)、図6(B)および図5(A)、図5(B)、図5(C)、図6(C)から、コントラストが0.613〜0.831の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.612を超えるフォトマスクの条件として、60<t≦80、−100≦d<0、0.5≦n<2.9、0.6<k≦3.0の範囲を得た。
図7(A)、図7(B)および図6(A)、図6(B)、図6(C)、図7(C)から、コントラストが0.613〜0.881の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.612を超えるフォトマスクの条件として、80<t≦100、−100≦d<0、0.5≦n<2.9、0.4<k≦3.0の範囲を得た。
図8(A)、図8(B)および図7(A)、図7(B)、図7(C)、図8(C)から、コントラストが0.613〜0.937の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.612を超えるフォトマスクの条件として、100<t≦120、−100≦d<0、0.5≦n<2.7、0.4<k≦3.0の範囲を得た。
図9(A)および図8(A)、図8(B)、図9(B)から、コントラストが0.613〜0.961の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.612を超えるフォトマスクの条件として、120<t≦140、−100≦d<50、0.5≦n<2.9、0.4<k≦3.0の範囲を得た。
図10(A)、図11(A)および図9(A)、図9(B)、図10(B)、図11(B)から、コントラストが0.613〜0.983の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.612を超えるフォトマスクの条件として、140<t≦180、−100≦d<−50、0.5≦n≦2.9、0.4<k≦3.0の範囲を得た。
図12(A)および図11(A)、図11(B)、図12(B)から、コントラストが0.614〜0.987の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.612を超えるフォトマスクの条件として、180<t≦200、−100≦d<−50、0.5≦n≦2.9、0.2<k≦3.0の範囲を得た。
図4(B)から、コントラストが0.614〜0.685の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.612を超えるフォトマスクの条件として、20<t≦40、−50≦d<0、0.5≦n<1.1、1.8<k≦3.0の範囲を得た。
図5(B)および図4(B)、図5(C)から、コントラストが0.613〜0.769の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.612を超えるフォトマスクの条件として、40<t≦60、−50≦d<0、0.5≦n<2.3、1.2<k≦3.0の範囲を得た。
図10(B)、図10(C)、図11(B)、図11(C)、図12(B)、図12(C)および図9(B)、図9(C)、図10(D)、図11(D)、図12(D)から、コントラストが0.613〜0.972の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.612を超えるフォトマスクの条件として、140<t≦200、−50≦d<50、0.5≦n≦2.9、0.2<k≦3.0の範囲を得た。
図6(C)および図5(C)から、コントラストが0.613〜0.635の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.612を超えるフォトマスクの条件として、60<t≦80、0≦d<50、0.5≦n<1.1、2.2<k≦3.0の範囲を得た。
図7(C)および図6(C)から、コントラストが0.613〜0.655の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.612を超えるフォトマスクの条件として、80<t≦100、0≦d<50、0.5≦n<1.7、0.8<k≦3.0の範囲を得た。
図8(C)および図7(C)から、コントラストが0.613〜0.716の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.612を超えるフォトマスクの条件として、100<t≦120、0≦d<50、0.5≦n<2.3、0.6<k≦3.0の範囲を得た。
図12(D)および図11(D)から、コントラストが0.613〜0.643の範囲の光学像が得られることが示された。
本実施例においては、コントラストが0.612を超えるフォトマスクの条件として、180<t≦200、50≦d<100、0.5≦n<1.3、1.2<k<2.6の範囲を得た。
12 遮光膜または半透明膜よりなるマスクパターン
21 透光部
22 遮光部
Claims (33)
- ArFエキシマレーザを露光光源とし、高NAレンズで四重極偏光照明により液浸露光するフォトリソグラフィに用いられるフォトマスクにおいて、該フォトマスクが透明基板上に遮光膜または半透明膜よりなるマスクパターンを有するフォトマスクであって、
前記高NAレンズの開口数が1以上であり、前記フォトマスクが、ハーフピッチ60nm以下の半導体デバイス用のマスクパターンを有し、
前記遮光膜または半透明膜の膜厚をtnm、屈折率をn、消衰係数をk、前記マスクパターンのスペース部のバイアスをdnmとしたとき、t、d、nおよびkを調整し、前記フォトマスクを前記フォトリソグラフィに用いたときの光学像のコントラストが0.580を超える値であることを特徴とするフォトマスク。 - 請求項1に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、0<t≦20、−100≦d<−50、0.5≦n<0.9、2.8<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項1に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、20<t≦40、−100≦d<0、0.5≦n<2.9、1.6<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項1に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、40<t≦60、−100≦d<0、0.5≦n≦2.9、1.0<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項1に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、60<t≦80、−100≦d<−50、0.5≦n≦2.9、0.6<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項1に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、80<t≦160、−100≦d<−50、0.5≦n≦2.9、0.4<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項1に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、160<t≦200、−100≦d<−50、0.5≦n≦2.9、0.2<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項1に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、60<t≦120、−50≦d<0、0.5≦n≦2.9、0.4<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項1に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、120<t≦160、−50≦d<50、0.5≦n≦2.9、0.2<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項1に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、160<t≦200、−50≦d<50、0.5≦n≦2.9、0.0<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項1に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、40<t≦60、0≦d<50、0.5≦n<1.3、2.2<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項1に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、60<t≦80、0≦d<50、0.5≦n<2.5、0.4<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項1に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、80<t≦120、0≦d<50、0.5≦n≦2.9、0.4<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項1に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、140<t≦160、50≦d<100、0.5≦n<0.7、2.2<k<2.8の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項1に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、160<t≦180、50≦d<100、0.5≦n<1.5、1.2<k<2.8の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項1に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、180<t≦200、50≦d<100、0.5≦n<2.1、0.0<k<2.8の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項1に記載のフォトマスクにおいて、前記フォトマスクが位相シフト効果を使わない場合であって、
前記遮光膜または半透明膜の膜厚をtnm、屈折率をn、消衰係数をk、前記マスクパターンのスペース部のバイアスをdnmとしたとき、t、d、nおよびkを調整し、前記フォトマスクを前記フォトリソグラフィに用いたときの光学像のコントラストが0.612を超える値であることを特徴とするフォトマスク。 - 請求項17に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、20<t≦40、−100≦d<−50、0.5≦n<1.9、1.8<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項17に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、40<t≦60、−100≦d<−50、0.5≦n<2.3、1.0<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項17に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、60<t≦80、−100≦d<0、0.5≦n<2.9、0.6<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項17に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、80<t≦100、−100≦d<0、0.5≦n<2.9、0.4<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項17に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、100<t≦120、−100≦d<0、0.5≦n<2.7、0.4<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項17に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、120<t≦140、−100≦d<50、0.5≦n<2.9、0.4<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項17に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、140<t≦180、−100≦d<−50、0.5≦n≦2.9、0.4<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項17に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、180<t≦200、−100≦d<−50、0.5≦n≦2.9、0.2<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項17に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、20<t≦40、−50≦d<0、0.5≦n<1.1、1.8<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項17に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、40<t≦60、−50≦d<0、0.5≦n<2.3、1.2<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項17に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、140<t≦200、−50≦d<50、0.5≦n≦2.9、0.2<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項17に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、60<t≦80、0≦d<50、0.5≦n<1.1、2.2<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項17に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、80<t≦100、0≦d<50、0.5≦n<1.7、0.8<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項17に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、100<t≦120、0≦d<50、0.5≦n<2.3、0.6<k≦3.0の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- 請求項17に記載のフォトマスクにおいて、前記t、d、nおよびkが、180<t≦200、50≦d<100、0.5≦n<1.3、1.2<k<2.6の範囲であることを特徴とするフォトマスク。
- ArFエキシマレーザを露光光源とし、高NAレンズで四重極偏光照明により液浸露光するフォトリソグラフィに用いられるフォトマスクの設計方法において、
該フォトマスクが透明基板上に遮光膜または半透明膜よりなるマスクパターンを有するフォトマスクであって、
前記高NAレンズの開口数が1以上であり、前記フォトマスクが、ハーフピッチ60nm以下の半導体デバイス用のマスクパターンを有し、
前記遮光膜または半透明膜の膜厚をtnm、屈折率をn、消衰係数をk、前記マスクパターンのスペース部のバイアスをdnmとしたとき、t、d、nおよびkを調整し、前記フォトマスクを前記フォトリソグラフィに用いたときの光学像のコントラストが0.580を超える値とすることを特徴とするフォトマスクの設計方法。
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