JP2012047937A - 露光評価用マスクおよび露光評価方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】マスクを使って露光する露光装置において、露光ムラの発生原因のうち、装置に起因する項目がどの程度影響しているかを精度良く把握することができる露光評価用マスクおよび露光評価方法を提供する。
【解決手段】露光評価用マスクMaは、設計値に基づくパターンを有する第1の領域a1,a3,a5,・・・と、第1の領域に隣接して、設計値に対して露光量のずれを与えるパターンを有する第2の領域a2,a4,・・・と、を有する。
【選択図】図1
【解決手段】露光評価用マスクMaは、設計値に基づくパターンを有する第1の領域a1,a3,a5,・・・と、第1の領域に隣接して、設計値に対して露光量のずれを与えるパターンを有する第2の領域a2,a4,・・・と、を有する。
【選択図】図1
Description
本発明は、露光評価用マスクおよび露光評価方法に関し、より詳細には、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にパターンを製造する際の性能向上を図るための露光評価用マスクおよび露光評価方法に関する。
近年、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等、大型のフラットパネルディスプレイのカラーフィルタの製造方法として、フォトリソグラフィ法が採用されている。通常、フォトリソグラフィ法では、洗浄されたガラス基板にレジストを塗布し、プリベークを行った後、マスクを用いて露光を行い、その後、現像、洗浄、ベークなどが行われてパターンが形成される。
露光方法としては、例えば、基板上にマスクのパターンを分割逐次露光方式で近接露光転写するものがある。この種の分割逐次露光方法としては、例えば、パネルと同寸のマスクを用い、該マスクをマスクステージで保持すると共に基板をワークステージで保持して両者を近接して対向配置する。そして、ワークステージをマスクに対してステップ移動させる毎にマスク側から基板にパターン露光用の光を照射して、複数のマスクパターンを基板上に露光転写する。
また、他の露光方法として、マスクを細分化して、これらマスクを保持する複数のマスク保持部を千鳥状に配置し、基板を一方向に移動させながら露光を行う近接スキャン露光方式が知られている。この露光方式では、基板に形成されるパターンに、ある程度繰り返される部位があることを前提として、これをつなぎ合わせることで大きなパターンを形成できることを利用したものである。この場合、マスクは、パネルに合わせて大きくする必要がなく、比較的安価なマスクを用いることができる。
ところで、マスク保持部や照射部を複数有するマルチヘッドの露光装置を用いて露光する場合、ヘッド間での露光ムラが懸念される。露光ムラの原因としては、装置に起因するものでは、露光量差、位置ずれ差、ギャップ差があり、その他、レジストや現像液の材料、レジスト膜厚、レジストの乾燥温度や乾燥時間、現像時間などのプロセス条件が起因する。露光ムラの程度は、一般に人間の目視確認によるものなので、装置起因項目を数値変更しても、改善された度合いを明確にすることは困難であった。
露光ムラを評価する方法としては、重複露光領域に線幅や抵抗を評価する評価素子(TEG)を用いて、ヘッド描画境界内の測定値と、単一露光領域内の測定値とを比較してヘッドの位置調整ずれを検知するようにしたものがある(例えば、特許文献1参照。)。
ところで、特許文献1に記載の評価方法は、直描露光において位置や抵抗の評価に限った技術であり、マスクを使って露光する際の露光ムラの要素を網羅したものではない。
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、マスクを使って露
光する露光装置において、露光ムラの発生原因のうち、装置に起因する項目がどの程度影響しているかを精度良く把握することができる露光評価用マスクおよび露光評価方法を提供することにある。
光する露光装置において、露光ムラの発生原因のうち、装置に起因する項目がどの程度影響しているかを精度良く把握することができる露光評価用マスクおよび露光評価方法を提供することにある。
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
(1)設計値に基づくパターンを有する第1の領域と、該第1の領域に隣接して、前記設計値に対して露光量、位置、ギャップ量の少なくとも1つのずれを与えるパターンを有する第2の領域と、を有することを特徴とする露光評価用マスク。
(2)前記第1の領域と前記第2の領域は交互に並べられるようにそれぞれ複数設けられ、
前記複数の第2の領域では、前記設計値に対して露光量、位置、ギャップ量の少なくとも1つのずれ量がそれぞれ異なることを特徴とする(1)に記載の露光評価用マスク。
(3)前記第1の領域と前記第2の領域は交互に並べられるようにそれぞれ複数設けられ、
前記第1の領域と前記第2の領域との複数の境界部分は、それぞれ異なる角度で傾斜していることを特徴とする(1)または(2)に記載の露光評価用マスク。
(4)前記第1及び第2の領域のパターンは、直線状のパターンあるいは連続的なパターンであることを特徴とする(1)から(3)のいずれかに記載の露光評価用マスク。
(5)所定の方向に沿って往復自在に基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクを前記搬送される基板から離れた状態でそれぞれ保持可能な複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備える近接スキャン露光装置を用いた露光評価方法であって、前記複数のマスク保持部のいずれかに(1)から(4)のいずれかに記載の露光評価用マスクを保持させる工程と、前記搬送される基板に対して前記露光評価用マスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記露光評価用マスクのパターンを露光する工程と、前記基板に露光転写されたパターンを評価する工程と、を有することを特徴とする露光評価方法。
(6)前記基板に露光転写されたパターンを評価する工程が、CCDカメラによって撮像された前記基板の前記第1の領域と前記第2の領域の画像を差分解析し、差分解析によって得られた画像の閾値から露光評価を行う工程を含む(5)の露光評価方法。
(1)設計値に基づくパターンを有する第1の領域と、該第1の領域に隣接して、前記設計値に対して露光量、位置、ギャップ量の少なくとも1つのずれを与えるパターンを有する第2の領域と、を有することを特徴とする露光評価用マスク。
(2)前記第1の領域と前記第2の領域は交互に並べられるようにそれぞれ複数設けられ、
前記複数の第2の領域では、前記設計値に対して露光量、位置、ギャップ量の少なくとも1つのずれ量がそれぞれ異なることを特徴とする(1)に記載の露光評価用マスク。
(3)前記第1の領域と前記第2の領域は交互に並べられるようにそれぞれ複数設けられ、
前記第1の領域と前記第2の領域との複数の境界部分は、それぞれ異なる角度で傾斜していることを特徴とする(1)または(2)に記載の露光評価用マスク。
(4)前記第1及び第2の領域のパターンは、直線状のパターンあるいは連続的なパターンであることを特徴とする(1)から(3)のいずれかに記載の露光評価用マスク。
(5)所定の方向に沿って往復自在に基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクを前記搬送される基板から離れた状態でそれぞれ保持可能な複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備える近接スキャン露光装置を用いた露光評価方法であって、前記複数のマスク保持部のいずれかに(1)から(4)のいずれかに記載の露光評価用マスクを保持させる工程と、前記搬送される基板に対して前記露光評価用マスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記露光評価用マスクのパターンを露光する工程と、前記基板に露光転写されたパターンを評価する工程と、を有することを特徴とする露光評価方法。
(6)前記基板に露光転写されたパターンを評価する工程が、CCDカメラによって撮像された前記基板の前記第1の領域と前記第2の領域の画像を差分解析し、差分解析によって得られた画像の閾値から露光評価を行う工程を含む(5)の露光評価方法。
本発明の露光評価用マスクによれば、設計値に基づくパターンを有する第1の領域と、第1の領域に隣接して、設計値に対して露光量、位置、ギャップ量の少なくとも1つのずれを与えるパターンを有する第2の領域と、を有するので、評価マスクを使って露光された基板を評価することで、露光装置に起因する露光量差、位置ずれ差、ギャップ差の少なくとも1つが露光ムラにどの程度影響しているかを精度良く把握することができる。
以下、本発明に係る露光評価用マスクおよび露光評価方法の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
(第1実施形態)
本実施形態では、図1〜図3に示す3種類の露光評価用マスクMa〜Mcを用いて、マルチヘッドの露光装置において、露光ムラ(筋ムラ)の原因のうち、装置に起因するものとして挙げられる露光量差、位置ずれ差、ギャップ差をそれぞれ評価する。
本実施形態では、図1〜図3に示す3種類の露光評価用マスクMa〜Mcを用いて、マルチヘッドの露光装置において、露光ムラ(筋ムラ)の原因のうち、装置に起因するものとして挙げられる露光量差、位置ずれ差、ギャップ差をそれぞれ評価する。
図1に示す露光評価用マスクMaには、複数のパターン(矩形状の窓部)が直線状に形成されており、設計値に基づくパターンpを有する複数の第1の領域a1,a3,a5,・・・と、設計値に対して露光量にずれを与えるパターンpaを有する複数の第2の領域a2,a4,・・・と、が交互に並べられており、第2の領域a2,a4,・・・の露光量は、段階的にずれが大きくなるようにそれぞれ異ならせている。
具体的に、マスクMaでは、図1(b),(c)に示すように、第1の領域a1,a3,a5のパターンpの線幅wを100μmとし、第2の領域a2のパターンpaの線幅w1を102μmとし、第2の領域a4のパターンpaの線幅w2を104μmとして、線幅の違いを露光量のずれとして与えている。また、第1の領域a1,a3,a5と、第2の領域a2,a4との境界での位置ずれはなく、各領域a1,a2,a3,a4,a5,・・・のパターン間距離dを0.3mmとしている。なお、第2の領域a2,a4,・・・は、露光量のずれが段階的に少なくなっていくように、線幅を小さくしていってもよい。
図2に示す露光評価用マスクMbでは、複数のパターン(矩形状の窓部)が直線状に形成されており、設計値に基づくパターンpを有する複数の第1の領域b1,b3,b5,・・・と、設計値に対して位置ずれを与えたパターンpbを有する複数の第2の領域a2,a4,・・・と、が交互に並べられており、第2の領域a2,a4,・・・の位置ずれ量は、段階的に広がるようにそれぞれ異ならせている。
具体的に、マスクMbでは、図2(b)〜(d)に示すように、各領域b1、b2,b3,b4,b5,・・・のパターンp,pbの線幅wを100μm、パターン間距離dを0.3mmとする。一方、第1の領域b1,b3の位置に対して第2の領域b2の位置をずれ量β1(=2μm)だけずらして、第1の領域b1と第2の領域b2との間隔を0.302mm、第2の領域b2と第3の領域b3との間隔を0.298mmとしている。また、第1の領域b3,b5の位置に対して第2の領域b4の位置をずれ量β2(=4μm)だけずらして、第1の領域b3と第2の領域b4との間隔を0.304mm、第2の領域b4と第3の領域b5との間隔を0.296mmとしている。
図3に示す露光評価用マスクMcには、複数のパターン(矩形状の窓部)が直線状に形成されており、設計値に基づくパターンpを有する複数の第1の領域c1、c3、c5、・・・と、設計値に対してギャップ量にずれを与えるパターンpc有する複数の第2の領域c2,c4、・・・と、が交互に並べられており、第2の領域c2,c4、・・・のパターンpcによって与えられるギャップ量は、段階的に広がるようにそれぞれ異ならせている。
具体的に、マスクMcでは、図3(b)に示すように、各領域c1,c2,c3,c4,c5,・・・のパターン間距離dを0.3mmとし、第1の領域c1,c3,c5,・・・のパターンpの線幅wを100μmとする。一方、第1の領域c1,c3,c5,・・・に対して第2の領域c2のギャップ量にずれを与えるように、第2の領域c2のパターンpcは、線幅wを100μmとする主開口部と、現像処理後に解像されない主開口部の両側に設けられた副開口部とによって構成される。
これにより、マスクMcと基板Wとの間のギャップを150μmで露光した場合、第1の領域c1,c3,c5のパターンpでは、図4(a)に示すような光の強度分布が得られる一方、第2の領域c2のパターンpcでは、図4(b)に示すような光の強度分布が得られ、ギャップを200μmで露光した場合の強度分布に近似した結果が得られる。
ここで、図1〜図3の露光評価用マスクを用いた露光評価方法について説明する。まず、該露光評価方法に使用されるマルチヘッドの露光装置の一例として、近接露光装置1について図5及び図6を参照して説明する。本実施形態の近接露光装置1は、基板(例えば、液晶ディスプレイ用基板としてのカラーフィルタ基板)Wを浮上させて支持すると共に、所定方向(図5のX方向)に搬送する基板搬送機構10と、複数のマスクMをそれぞれ保持し、所定方向と直交する方向(図5のY方向)に沿って千鳥状に二列配置された複数(図5に示す実施形態において、左右それぞれ6個)のマスク保持部11と、マスク保持部11を駆動するマスク駆動部12と、複数のマスク保持部11の上部にそれぞれ配置されて露光用光を照射する複数の照射部14(図6参照)と、スキャン露光装置1の各作動部分の動作を制御する制御部15と、を主に備える。なお、マスク保持部11、マスク駆動部12、照射部14は、1つのヘッドを構成する。
基板搬送機構10は、基板WをX方向に搬送する領域、即ち、複数のマスク保持部11の下方領域、及びその下方領域からX方向両側に亘る領域に設けられた浮上ユニット16と、基板WのY方向一側(図5において上辺)を保持してX方向に搬送する基板駆動ユニット17とを備える。浮上ユニット16は、複数のフレーム19上にそれぞれ設けられた排気のみ或いは排気と吸気を同時に行なう複数のエアパッド20を備える。
基板駆動ユニット17は、図5に示すように、浮上ユニット16によって浮上、支持された基板Wの一端を保持する吸着パッド22を備え、モータ23、ボールねじ24、及びナット(図示せず)からなるX方向搬送機構であるボールねじ機構25によって、ガイドレール26に沿って基板WをX方向に搬送する。なお、図6に示すように、複数のフレーム19は、地面にレベルブロック18を介して設置された装置ベース27上に他のレベルブロック28を介して配置されている。また、基板Wは、ボールねじ機構25の代わりに、リニアサーボアクチュエータによって搬送されてもよい。
マスク駆動部12は、フレーム(図示せず)に取り付けられ、マスク保持部11をX方向に沿って駆動するX方向駆動部31と、X方向駆動部31の先端に取り付けられ、マスク保持部11をY方向に沿って駆動するY方向駆動部32と、Y方向駆動部32の先端に取り付けられ、マスク保持部11をθ方向(X,Y方向からなる水平面の法線回り)に回転駆動するθ方向駆動部33と、θ方向駆動部33の先端に取り付けられ、マスク保持部11をZ方向(X,Y方向からなる水平面の鉛直方向)に駆動するZ方向駆動部34と、を有する。これにより、Z方向駆動部34の先端に取り付けられたマスク保持部11は、マスク駆動部12によってX,Y,Z,θ方向に駆動可能である。なお、X,Y,θ,Z方向駆動部31,32,33,34の配置の順序は、適宜変更可能である。マスク駆動部12は、後述するラインカメラ35によって撮像された基板WのパターンとマスクMのマークに基づいて、マスクMと基板Wとの相対的なズレを補正する。
また、図5に示すように、Y方向に沿ってそれぞれ直線状に配置された上流側及び下流側の各マスク保持部11a,11b間には、各マスク保持部11のマスクMを同時に交換可能なマスクチェンジャ2が配設されている。マスクチェンジャ2により搬送される使用済み或いは未使用のマスクMは、マスクストッカ3,4との間でマスクローダー5により受け渡しが行なわれる。なお、マスクストッカ3とマスクチェンジャ2とで受け渡しが行なわれる間にマスクプリアライメント機構(図示せず)によってマスクMのプリアライメントが行なわれる。
図6に示すように、マスク保持部11の上部に配置される照射部14は、紫外線を含んだ露光用光ELを放射する、超高圧水銀ランプからなる光源41と、光源41から照射された光を集光する凹面鏡42と、この凹面鏡42の焦点近傍に光路方向に移動可能な機構を有するオプチカルインテグレータ43と、光路の向きを変えるための平面ミラー45及び球面ミラー46と、この平面ミラー45とオプチカルインテグレータ43との間に配置された照射光路を開閉制御するシャッター44と、を備える。なお、光源41としては、YAGフラッシュレーザやエキシマレーザであってもよい。フラッシュ光源を使用する場合には、制御部15は、シャッターを開閉制御する必要がない。なお、露光量は、照度と時間の積によって算出されるが、フラッシュ光源の場合には、照度とショット数の積によって算出される。
また、マスク保持部11の下方に配置されたフレーム19には、基板WとマスクMの相対位置を検知する撮像手段であるラインカメラ35が、マスクMの窓部87を観測可能な位置で、複数のマスク保持部11ごとに配置されている。ラインカメラ35としては、公知の構成のものが適用され、搬送される基板Wに予め形成されたパターン(R,G,Bを露光する場合には、ブラックマトリクスの基準線)と、各マスクMに設けられたラインカメラ用のマークとを、それぞれ同一視野に捕らえて撮像するものであり、光を受光する多数の受光素子を一直線上に並べて備えた受光面としてのラインCCDと、基板Wの基準線やマークをラインCCD上に結像させる集光レンズ等を備える。
このような近接露光装置1は、浮上ユニット16のエアパッド20の空気流によって基板Wを浮上させて保持し、基板Wの一端を基板駆動ユニット17で吸着してX方向に搬送する。そして、アライメント処理を施しながら、各マスクMの下方に搬送された基板Wに対して、照射部14からの露光用光ELが基板Wに近接するマスクMを介して照射され、マスクMのパターンを基板Wに塗布されたレジストに転写する。
上記の近接露光装置1を用いて露光評価を行う場合には、複数のマスク保持部11に露光評価用マスクMa〜Mcの少なくとも一つを配置する。そして、ブラックマトリクスBMが形成された基板Wを搬送して、基板Wに対して露光評価用マスクMa〜Mcを介して露光用光ELを照射して、基板Wに露光評価用マスクMa〜Mcのパターンを露光する。さらに、該基板Wを現像した後に、基板Wに露光転写されたパターンを目視によって評価する。これにより、いずれかの領域の境界部分において筋ムラが発生しているかどうか、即ち、露光量差、位置ずれ差、ギャップ差がどの程度ある場合に筋ムラが発生するかどうかを確認する。
このような評価は、レジストや現像液の材料、レジスト膜厚、レジストの乾燥温度、乾燥時間、現像時間などのプロセス条件が同一であり、また、単一のマスク保持部14によって保持された露光評価マスクによって、また、単一の光源41によって露光されることから、露光評価用マスクに与えたずれによるムラだけが基板Wに現れ、装置に起因する露光ムラを明確に把握することができる。
また、実際の露光は、上記評価結果に基づいて、複数のヘッド(マスク保持部12及び照射部14)間での露光量差、位置ずれ差、ギャップ差を筋ムラが発生しない程度に調整して行われる。
さらに、実際の露光において、複数のヘッド間での露光量差、位置ずれ差、ギャップ差が評価結果で筋ムラが発生しない程度に既に調整されている場合には、材料やプロセス条件にてムラ低減を解決すべく、材料やプロセス条件の変更を検討する。
従って、本実施形態の露光評価用マスクMa〜Mcによれば、設計値に基づくパターンを有する第1の領域a1,a3,a5,・・・(b1,b3,b5,・・・、c1,c3,c5,・・・)と、第1の領域に隣接して、設計値に対して露光量、位置、ギャップ量のいずれかのずれを与えるパターンを有する第2の領域a2,a4,・・・(b2,b4,・・・、c2,c4,・・・)と、を有するので、該マスクMa〜Mcを用いて露光された基板Wを目視評価することで、露光量差、位置ずれ差、ギャップ差が露光ムラにどの程度影響しているかを精度良く把握することができる。
なお、本実施形態の各露光評価用マスクMa〜Mdは、適宜組み合わせて構成可能であり、露光ムラの要因が位置、線幅、ギャップ量の複合による場合にも有効に確認することができる。
また、フラッシュ光源を用いた露光装置においては、連続的に並んだ矩形パターンが配置されるが、その矩形パターン数を変えることで露光量を変えることも可能である。
また、設計値に基づく第1の領域が装置に起因するずれを与える第2の領域と交互に配置されることが、設計値に対するずれの影響を比較しやすいため好ましいが、ずれの要因が確認できる場合には、ずれを与えた第2の領域が連続的に配置されるようにしてもよい。
さらに、各領域のパターンの数は、目視が確認しやすい程度で任意に設定される。また、評価はR,G,Bのいずれか1色を露光・現像後に行ってもよいし、3色を露光・現像後に行ってもよい。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態に係る露光評価用マスク及び露光評価方法について説明する。
次に、本発明の第2実施形態に係る露光評価用マスク及び露光評価方法について説明する。
図7に示すように、本実施形態の露光評価用マスクMdには、複数のパターン(矩形状の窓部)が直線状に形成されており、設計値に基づくパターンpを有する複数の第1の領域d1,d3,・・・と、設計値に対して露光量、位置、ギャップ量の少なくとも一つ(図8では、露光量、即ち線幅)にずれを与えるパターンpdを有する複数の第2の領域d2,d4,・・・と、が交互に並べられている。また、第1の領域d1,d3,・・・と第2の領域d2,d4,・・・との境界部分は、グラデーションがかかるように、それぞれ異なる角度で傾斜している。
具体的に、マスクMdでは、図7(b),(c)に示すように、第1の領域d1,d3,d5のパターンpの線幅wを100μmとし、第2の領域d2,d4のパターンpdの線幅w3を102μmとして、線幅の違いを露光量のずれとして与えている。また、各領域d1,d2,d3,d4,・・・のパターン間距離dを0.3mmとしている。さらに、第1の領域d1,d3,・・・と、第2の領域d2,d4,・・・との境界部分では、パターンpとパターンpdの各矩形状の窓部が位置を変えながら接続されている。第1の領域d1と第2の領域d2との境界部分では、接続位置の間隔l1を25mmで変えており、第2の領域と第1の領域d3との境界部分では、接続位置の間隔を10mmで変えており、第1の領域d3と第2の領域d4との境界部分では、接続位置の間隔l2を5mmで変えている。
このような露光評価用マスクMdは、例えば、第1実施形態の評価用マスクMa,Mb,Mcを用いて評価した結果、評価用マスクMaの第2の領域a2の線幅w1が102μmの場合に筋ムラが発生したことを確認した場合に、いずれの傾斜角度のグラデーションを掛けることで筋ムラが解消されるかを確認することができる。従って、このような評価結果を、実際に着色層を露光する際のマスクMのパターン形状に反映する。
なお、本実施形態の露光評価用マスクMdは、単一のずれ量に対して複数のグラデーションの掛け方を設けているが、複数のずれ量のものをパターンに形成し、ずれ量毎にグラデーションの掛け方を変えたものを複数形成してもよい。その場合には、該マスクを利用することで、どのずれ量で、どのグラデーションで筋ムラが発生しているかどうかを一度に確認することができる。
また、本発明は、基板をCCDカメラで撮像し画像として取り込み、基板上の画像から第一領域と第二領域から差分解析を行い、第一領域と第二領域の差分画像を取得する。取得した差分画像から閾値を求めて、第一領域の閾値と第二領域の閾値を比較することで、露光量差、位置ずれ差、ギャップ差が露光ムラにどの程度影響してくるかを精度良く把握することができる。さらに、目視確認と併用することによって、露光量差、位置ずれ差、ギャップ差が露光ムラにどの程度影響してくるかを精度良く基板の精度を把握することができる。
なお、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
例えば、筋ムラの評価確認は目視及び閾値によって行っているが、検査装置を用いて行われてもよい。
なお、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
例えば、筋ムラの評価確認は目視及び閾値によって行っているが、検査装置を用いて行われてもよい。
また、本発明では、上記露光評価用マスクを用いることで、一定の材料・プロセス条件において露光ムラの程度が把握できる。このため、本発明の露光評価用マスクは、複数のマスク保持部を備えたマルチヘッドの露光装置で露光する場合の評価に限定されるものでなく、1つの光源を有する近接逐次露光装置で露光する場合の評価に用いることで、材料・プロセスの影響を確認することができる。
1 スキャン露光装置
11 マスク保持部(ヘッド)
12 マスク駆動部(ヘッド)
14 照射部(ヘッド)
a1,a3,a5,b1,b3、b5,c1,c3,c5,d1,d3 第1の領域
a2,a4,b2,b4,c2,c4,d2,d4 第2の領域
M マスク
Ma,Mb,Mc,Md 露光評価用マスク
W 基板
11 マスク保持部(ヘッド)
12 マスク駆動部(ヘッド)
14 照射部(ヘッド)
a1,a3,a5,b1,b3、b5,c1,c3,c5,d1,d3 第1の領域
a2,a4,b2,b4,c2,c4,d2,d4 第2の領域
M マスク
Ma,Mb,Mc,Md 露光評価用マスク
W 基板
Claims (6)
- 設計値に基づくパターンを有する第1の領域と、
該第1の領域に隣接して、前記設計値に対して露光量、位置、ギャップ量の少なくとも1つのずれを与えるパターンを有する第2の領域と、
を有することを特徴とする露光評価用マスク。 - 前記第1の領域と前記第2の領域は交互に並べられるようにそれぞれ複数設けられ、
前記複数の第2の領域では、前記設計値に対して露光量、位置、ギャップ量の少なくとも1つのずれ量がそれぞれ異なることを特徴とする請求項1に記載の露光評価用マスク。 - 前記第1の領域と前記第2の領域は交互に並べられるようにそれぞれ複数設けられ、
前記第1の領域と前記第2の領域との複数の境界部分は、それぞれ異なる角度で傾斜していることを特徴とする請求項1または2に記載の露光評価用マスク。 - 前記第1及び第2の領域のパターンは、直線状のパターンあるいは連続的なパターンであることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の露光評価用マスク。
- 所定の方向に沿って往復自在に基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクを前記搬送される基板から離れた状態でそれぞれ保持可能な複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備える近接スキャン露光装置を用いた露光評価方法であって、
前記複数のマスク保持部のいずれかに請求項1から4のいずれかに記載の露光評価用マスクを保持させる工程と、
前記搬送される基板に対して前記露光評価用マスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記露光評価用マスクのパターンを露光する工程と、
前記基板に露光転写されたパターンを評価する工程と、
を有することを特徴とする露光評価方法。 - 前記基板に露光転写されたパターンを評価する工程が、CCDカメラによって撮像された前記工程の前記第1の領域と前記第2の領域の画像を差分解析し、差分解析によって得られた画像の閾値から露光評価を行う工程を含む請求項5の露光評価方法。
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JP2010189350A JP2012047937A (ja) | 2010-08-26 | 2010-08-26 | 露光評価用マスクおよび露光評価方法 |
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KR20160025457A (ko) * | 2014-08-27 | 2016-03-08 | 캐논 가부시끼가이샤 | 평가용 마스크, 평가 방법, 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
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KR101952990B1 (ko) * | 2014-08-27 | 2019-02-27 | 캐논 가부시끼가이샤 | 평가용 마스크, 평가 방법, 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
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