KR101952990B1

KR101952990B1 - 평가용 마스크, 평가 방법, 노광 장치 및 물품의 제조 방법

Info

Publication number: KR101952990B1
Application number: KR1020150116433A
Authority: KR
Inventors: 미와코 안도
Original assignee: 캐논 가부시끼가이샤
Priority date: 2014-08-27
Filing date: 2015-08-19
Publication date: 2019-02-27
Also published as: TWI597562B; JP2016048299A; CN105388699A; TW201608330A; CN105388699B; JP6415186B2; KR20160025457A

Abstract

본 발명은 기판을 노광하는 노광 장치의 성능을 평가할 때에 사용되는 평가용 마스크로서, 상기 노광 장치의 제1 성능을 평가하기 위한 제1 패턴 및 제2 패턴과, 상기 제1 패턴을 포함하는 제1 부분 영역에서의 단위 면적당의 개구부와 차광부의 제1 비율과, 상기 제2 패턴을 포함하는 제2 부분 영역에서의 단위 면적당의 개구부와 차광부의 제2 비율의 차분을 ±10％ 이내로 하기 위한 더미 패턴을 갖는 것을 특징으로 하는 평가용 마스크를 제공한다.

Description

평가용 마스크, 평가 방법, 노광 장치 및 물품의 제조 방법{MASK FOR EVALUATION, EVALUATING METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING AN ARTICLE}

본 발명은 노광 장치의 성능을 평가할 때에 사용되는 평가용 마스크, 평가 방법, 노광 장치 및 물품의 제조 방법에 관한 것이다.

노광 장치는, 마스크 또는 레티클의 패턴을, 투영 광학계를 통하여, 레지스트 등의 감광제가 도포된 기판(반도체 웨이퍼나 유리 플레이트)에 투영(결상)하여 기판 상에 패턴을 전사한다. 최근에는, 마스크의 일부 영역을 조명하여, 투영 광학계에 대하여 마스크와 기판을 주사하여 기판을 노광하는 주사형의 노광 장치, 소위, 스텝 앤드 스캔 방식의 노광 장치가 주류가 되었다.

최근에는, 디바이스의 미세화에 수반하여, 노광 장치의 고성능화가 요구되고 있기 때문에, 평가용 마스크를 사용하여 노광 장치의 성능을 높은 정밀도로 평가하는 것이 필요하게 되었다. 이러한 평가용 마스크에는, 예를 들어, 노광 장치의 결상 성능을 평가하기 위한 기능, 노광 장치 상에서의 투영 광학계의 결상 성능을 평가하기 위한 기능, 주사 노광을 위한 구동계를 조정하기 위한 기능 등이 요구되고 있다. 특히, 액정 노광 장치에 사용되는 평가용 마스크는, 대형이고 고가이기 때문에, 다양한 기능을 가질 것이 요구되고 있다. 여기서, 노광 장치의 결상 성능은, 포커스, 선폭(CD: Critical Dimension), 디스토션, 오버레이(중첩) 등을 포함한다. 투영 광학계의 결상 성능은, 투영 광학계의 유효 영역 내의 포커스(상면, 비점수차, 어스티그머티즘), 디스토션 등을 포함한다. 또한, 주사 노광을 위한 구동계의 조정은, 마스크를 보유 지지하여 이동하는 마스크 스테이지나 기판을 보유 지지하여 이동하는 기판 스테이지의 조정, 마스크 상의 노광하지 않는 부분을 차광하는 마스킹 블레이드의 위치 조정 등을 포함한다.

이러한 평가용 마스크에 있어서도, 상술한 기능의 정밀도의 향상이 요구되고 있다. 특히, 결상 성능의 고정밀화에 수반하여 투영 광학계의 유효 영역이 좁아져 있어, 유효 영역 내의 결상 성능을 종래와 동등한 분해능으로 평가하기 위해서는, 예를 들어, 디스토션을 평가하기 위한 패턴을 종래보다도 미세한 피치로 배치할 필요가 있다.

노광 장치나 투영 광학계의 결상 성능을 평가하는 때에는, 평가용 마스크를 통하여 레지스트가 도포된 기판을 노광하고, 이러한 기판을 현상하고, 평가용 마스크의 패턴에 대응하는 레지스트상을 계측 장치로 계측한다. 평가용 마스크는, 노광 장치나 투영 광학계의 결상 성능을 평가하기 위한 광투과형 패턴 이외의 영역으로부터의 광의 영향을 받지 않도록 하기 위해서, 광투과형 패턴 이외의 영역은 차광부로 되어 있다. 단, 평가용 마스크에는, 일반적으로, 복수 종류의 패턴이 배치되어 있고, 광투과형 패턴과 이러한 패턴의 주위의 차광부의 비율(이하, 「개구율」이라 칭한다)이 기판 상의 영역마다 상이하다. 여기서, 예를 들어, 광이 조사된 부분의 레지스트가 제거되는 포지티브 레지스트를 평가에 사용하는 경우를 생각한다. 이 경우, 노광된 기판 상의 포지티브 레지스트를 현상할 때, 개구율이 높은 영역은, 개구율이 낮은 영역에 비하여 현상하는 영역이 넓어, 많은 포지티브 레지스트가 현상액에 용해되기 때문에, 그 영역의 현상액의 현상력이 국소적으로 저하되어버린다. 이러한 경우, 부분적인 현상력의 저하에 의한 영향(예를 들어, CD의 변화 등)을 레지스트상이 받게 되기 때문에, 노광 장치의 성능을 정확하게 평가할 수 없다. 따라서, 기판을 현상하는 현상 장치측의 대응으로서, 현상액의 현상력의 저하를 억제하는 기술이 일본 특허 공개 제2006-319350호 공보에 제안되어 있다.

그러나, 노광 장치나 투영 광학계의 결상 성능의 평가는, 노광 장치의 설치 시에 검사로서 행하여지지만, 현상 장치는 노광 장치의 설치처에 따라 상이하여, 특허문헌 1과 같은 대응을 하고 있지 않은 현상 장치를 사용해야 하는 경우가 있다.

또한, 현상력의 저하에 의한 영향을 고려하여 평가용 마스크를 설계(제조)하는 것도 생각된다. 그러나, 현상력의 저하에 의한 영향은, 현상 장치의 조정 상태에 따라 상이하기 때문에, 노광 장치의 설치 시에 그 영향을 확인하여 평가용 마스크를 제조해야 하기 때문에, 현실적이지 않다.

본 발명은 노광 장치의 성능을 높은 정밀도로 평가하는데도 유리한 평가용 마스크를 제공한다.

본 발명의 일측면으로서의 평가용 마스크는, 기판을 노광하는 노광 장치의 성능을 평가할 때에 사용되는 평가용 마스크로서, 상기 노광 장치의 제1 성능을 평가하기 위한 제1 패턴 및 제2 패턴과, 상기 제1 패턴을 포함하는 제1 부분 영역에서의 단위 면적당의 개구부와 차광부의 제1 비율과, 상기 제2 패턴을 포함하는 제2 부분 영역에서의 단위 면적당의 개구부와 차광부의 제2 비율의 차분을 ±10％ 이내로 하기 위한 더미 패턴을 갖는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 추가적인 목적 또는 기타의 측면은, 이하, 첨부 도면을 참조하여 설명되는 바람직한 실시 형태에 의해 밝혀질 것이다.

도 1은, 본 발명의 일측면으로서의 노광 장치의 구성을 도시하는 개략도이다.
도 2는, 평가용 마스크의 비교예로서의 구성을 도시하는 개략도이다.
도 3은, 도 2에 도시하는 평가용 마스크의 제1 패턴에 대응하는 레지스트상의 선폭차의 일례를 도시하는 도면이다.
도 4는, 본 실시 형태에 있어서의 평가용 마스크의 구성을 도시하는 개략도이다.
도 5a 내지 도 5c는, 도 4에 도시하는 평가용 마스크의 패턴을 포함하는 부분 영역을 도시하는 확대도이다.

이하, 첨부 도면을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시 형태에 대하여 설명한다. 또한, 각 도면에 있어서, 동일한 부재에 대해서는 동일한 참조 번호를 부여하고, 중복되는 설명은 생략한다.

도 1은, 본 발명의 일측면으로서의 노광 장치(100)의 구성을 도시하는 개략도이다. 노광 장치(100)는 마스크의 패턴을 기판에 전사하는, 즉, 기판을 노광하는 리소그래피 장치이다. 노광 장치(100)는 마스크 스테이지(2)와, 조명 광학계(3)와, 투영 광학계(4)와, 기판 스테이지(6)와, 제어부(7)를 갖는다.

마스크 스테이지(2)는 기판(5)에 전사해야 할 패턴을 갖는 마스크(1)와, 노광 장치(100)의 성능을 평가하기 위한 평가용 마스크(10)를 교환 가능하게 보유 지지한다. 조명 광학계(3)는 마스크 스테이지(2)에 보유 지지된 마스크(1)나 평가용 마스크(10)를 조명한다. 투영 광학계(4)는 조명 광학계(3)에 의해 조명된 마스크(1)나 평가용 마스크(10)의 패턴을 기판(5)에 투영한다. 기판 스테이지(6)는 기판(5)을 보유 지지한다. 제어부(7)는 CPU나 메모리 등을 포함하고, 노광 장치(100)의 전체(노광 장치(100)의 각 부)를 제어한다. 제어부(7)는 예를 들어, 기판(5)을 노광하는 처리, 노광 장치(100)의 성능을 평가하는 처리, 노광 장치(100)의 성능을 조정하는 처리 등을 제어한다.

마스크(1)와 기판(5)은, 투영 광학계(4)를 개재하여, 광학적으로 대략 공액의 위치에 배치되어 있다. 조명 광학계(3)는 원호 형상 또는 사다리꼴 형상의 노광 영역을, 균일한 조도 분포로 마스크(1) 상에 형성한다. 마스크(1)의 패턴으로부터의 광은, 투영 광학계(4)를 통하여, 기판 스테이지(6)에 보유 지지된 기판(5) 상에 결상한다. 이때, 투영 광학계(4)의 광축에 대하여 마스크 스테이지(2) 및 기판 스테이지(6)의 양쪽을 구동시킴으로써, 조명 광학계(3)에 의해 형성된 노광 영역보다도 넓은 영역을 노광할 수 있다.

여기서, 도 2를 참조하여, 평가용 마스크(10)의 비교예로서의 구성에 대하여 설명한다. 도 2에서는, 간략화를 위해, 설명에 필요한 패턴만을 도시하고 있다. 도 2에 도시하는 평가용 마스크(10)는 노광 장치(100)의 제1 성능을 평가하기 위한 패턴(요소)(11 내지 19)과, 노광 장치(100)의 제1 성능과는 상이한 제2 성능을 평가하기 위한 패턴(20)을 포함한다. 또한, 구체적으로는, 제1 성능은, 선폭(CD: Critical Dimension) 및 포커스 중 적어도 한쪽을 포함하고, 제2 성능은, 투영 광학계(4)의 디스토션을 포함한다.

패턴(11 내지 19)은 각각, 예를 들어, 소위, 라인·앤드·스페이스 패턴으로 구성된다. 단, 도 2에서는, 간략화하여, 원 형상의 개구로 도시하고 있다. 패턴(11 내지 19)은 노광 장치(100)의 최대의 노광 영역을 커버하기 위해서, 평가용 마스크(10)의 중심 및 주변을 포함하는 전체에 배치되어 있다. 또한, 패턴(20)은 예를 들어, 십자 형상의 개구가 복수 배열된 패턴으로 구성된다. 단, 도 2에서는, 간략화하여, 직사각형의 개구로 도시하고 있다. 패턴(20)은 투영 광학계(4)의 유효 영역을 커버할 정도의 크기의 영역 내에, 패턴(14, 15 및 16)의 주위에 배치된다. 노광 장치(100)는 주사형의 노광 장치이기 때문에, 투영 광학계(4)의 유효 영역은, 노광 장치(100)의 최대의 노광 영역보다도 좁아져 있다. 패턴(11, 12 및 13)과, 패턴(14, 15 및 16)과, 패턴(17, 18 및 19)은, 길이 방향(y 방향)으로 어긋나게 배치되어 있다. 노광 장치(100)는 평가용 마스크(10)를 y 방향으로 주사하면서, 순차 노광한다. 노광 장치(100)의 성능을 평가할 때에 패턴(11 내지 19)과 패턴(20)은 조명 광학계(3)로부터의 광을 투과(통과)시키는 개구부(광투과부)로서 기능한다. 또한, 비교예에서는, 노광 장치(100)의 성능을 평가할 때에 노광 장치(100)의 성능을 평가하기 위한 패턴 이외의 영역으로부터의 광의 영향을 받지 않도록 하기 위해서, 노광 장치(100)의 성능을 평가하기 위한 패턴 이외의 영역을 차광부로 하고 있다.

도 2에 도시하는 평가용 마스크(10)는 패턴(11 내지 19) 사이에 있어서, 패턴(11 내지 19)의 각각의 주위, 즉, 패턴(11 내지 19) 각각을 포함하는 부분 영역 내에 있어서의 개구부와 차광부의 비율(개구율)이 상이하다. 예를 들어, 패턴(제1 패턴)(15)을 포함하는 부분 영역(15a)은 패턴(제3 패턴)(20)도 포함하고 있기 때문에, 개구부의 비율이 높다(즉, 개구율이 높다). 한편, 패턴(제2 패턴)(12)을 포함하는 부분 영역(12a)은 패턴(20)을 포함하고 있지 않기 때문에, 개구부의 비율이 낮다(즉, 개구율이 낮다).

노광 장치(100)의 성능을 평가하는 때에는, 평가용 마스크(10)를 통하여, 예를 들어, 포지티브 레지스트가 도포된 평가용의 기판을 노광하고, 이러한 기판을 현상한다. 이때, 개구율이 높은 부분 영역(15a)은 개구율이 낮은 부분 영역(12a)에 비하여, 현상하는 영역이 넓어, 많은 포지티브 레지스트가 현상액에 용해되기 때문에, 개구율이 높은 부분 영역의 현상액의 현상력이 국소적으로 저하되어버린다. 따라서, 패턴(11 내지 19)이 잔류 패턴(평가용 마스크(10)에 있어서의 차광부로 평가하는 패턴)일 경우, 패턴(15)에 대응하는 레지스트상의 선폭이 패턴(12)에 대응하는 레지스트상의 선폭보다도 굵어진다. 또한, 패턴(11 내지 19)이 제거 패턴(평가용 마스크(10)에 있어서의 개구부로 평가하는 패턴)일 경우, 패턴(15)에 대응하는 레지스트상의 선폭이 패턴(12)에 대응하는 레지스트상의 선폭보다도 가늘어진다. 또한, 네가티브 레지스트의 경우에는 노광된 부분이 현상으로 남겨지기 때문에, 네가티브 레지스트가 도포된 평가용의 기판을 노광하고, 이러한 기판을 현상하는 때에는, 개구율이 낮은 부분 영역의 현상액의 현상력이 국소적으로 저하되어버린다. 이하에서는, 포지티브 레지스트의 경우에 대하여 설명한다.

도 3은, 패턴(12, 15 및 18) 각각에 대응하는 레지스트상의 선폭차(CD차)의 일례를 도시하는 도면이다. 여기에서는, 패턴(12, 15 및 18)을 잔류 패턴으로 하고, 패턴(12, 15 및 18)의 선폭을 2.0㎛로 하고 있다. 패턴(12, 15 및 18) 각각을 포함하는 부분 영역에서의 개구율은, 패턴(12 및 18) 각각을 포함하는 부분 영역에서 낮고, 패턴(15)을 포함하는 부분 영역에서 높아져 있다. 따라서, 도 3에 도시한 바와 같이, 패턴(12 및 18) 각각에 대응하는 레지스트상의 선폭이 2.0㎛보다도 가늘고, 패턴(15)에 대응하는 레지스트상의 선폭이 2.0㎛보다도 굵어져 있다. 이와 같이, 현상액의 부분적인 현상력의 저하에 의한 영향으로 노광 장치(100)의 성능을 평가하기 위한 각 패턴에 대응하는 레지스트상의 선폭이 변화해버리면, 노광 장치(100)의 성능을 정확하게 평가할 수 없다. 이러한 경우, 그 평가 결과에 기초하여 노광 장치(100)의 성능이 조정되기 때문에, 노광 장치(100)의 성능을 정확하게 조정할 수 없다.

따라서, 본 실시 형태에서는, 평가용 마스크(10)는 도 4에 도시한 바와 같이, 패턴(11 내지 19)과 패턴(20)에 추가로, 더미 패턴(21 및 22)을 포함한다. 도 4에서는, 간략화를 위해, 선폭 및 포커스 중 적어도 한쪽을 평가하기 위한 패턴(11 내지 19), 투영 광학계(4)의 디스토션을 평가하기 위한 패턴(20), 더미 패턴(21 및 22)만을 도시하고 있다. 단, 본 실시 형태에 있어서의 평가용 마스크(10)는 노광 장치(100)나 투영 광학계(4)의 다른 결상 성능이나 주사 노광을 위한 구동계를 평가(조정)하기 위한 패턴 외에, 텔레센트리시티, 플레어, 공중상 등을 평가하기 위한 패턴을 포함해도 된다.

본 실시 형태에 있어서의 평가용 마스크(10)에서는, 패턴(11 내지 19) 각각을 포함하는 부분 영역에서의 단위 면적당의 개구부와 차광부의 비율(개구율)의 차분이 ±10％ 이내가 되도록 더미 패턴(21 및 22)을 형성하고 있다. 본 실시 형태에서는, 패턴(11 내지 19) 각각을 포함하는 부분 영역에서의 단위 면적당의 개구율이 동등해지도록, 패턴(11 내지 13)의 주위 및 패턴(17 내지 19)의 주위의 각각에, 더미 패턴(21 및 22)을 형성하고 있다. 바꾸어 말하면, 더미 패턴(21 및 22)은 패턴(11 내지 19) 각각을 포함하는 부분 영역에서의 단위 면적당의 개구부의 면적을 일치시키기 위하여 형성되어 있다. 또한, 더미 패턴(21 및 22)은 평가용 마스크(10)를 통하여 기판을 노광 장치(100)로 노광하고, 이러한 기판을 현상했을 때에, 패턴(11 내지 19) 각각에 대응하는 레지스트상의 각각의 선폭을 동일하게 하기 위하여 형성되어 있다고도 할 수 있다.

도 4에서는, 투영 광학계(4)의 디스토션을 평가하기 위한 패턴(20)이 형성된 영역을 파선으로 도시하고, 더미 패턴(21 및 22) 각각이 형성된 영역을 2점 쇄선으로 도시하고 있다. 더미 패턴(21 및 22)은 상술한 바와 같이, 패턴(11 내지 19) 각각을 포함하는 부분 영역에서의 단위 면적당의 개구율의 차분을 ±10％ 이내로 할 목적으로 형성되어 있다. 따라서, 투영 광학계(4)의 디스토션을 평가하는 때에는, 더미 패턴(21 및 22)은 사용하지 않는다. 또한, 더미 패턴(21 및 22) 각각은, 투영 광학계(4)의 디스토션을 평가하기 위한 패턴(20)과 동일한 개구 패턴으로 하고 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 더미 패턴(21 및 22)은 패턴(20)과 동일한 개구 패턴일 필요는 없고(즉, 패턴(20)과 상이한 개구 패턴이어도 됨), 패턴(11 내지 13) 및 패턴(17 내지 19) 각각을 포함하는 부분 영역만에 형성해도 된다.

도 5a 내지 도 5c 각각은, 패턴(11, 15 및 19)의 각각의 근방, 구체적으로는, 패턴(11, 15 및 19) 각각을 포함하는 부분 영역(11a, 15a 및 19a)을 도시하는 확대도이다. 패턴(제1 패턴)(15)을 포함하는 부분 영역(제1 부분 영역)(15a)에 있어서의 단위 면적당의 개구율(제1 비율)과, 패턴(제2 패턴)(11)을 포함하는 제2 부분 영역(제2 부분 영역)(11a)에 있어서의 단위 면적당의 개구율(제2 비율)이 동등하게 되어 있다. 마찬가지로, 패턴(15)을 포함하는 부분 영역(15a)에 있어서의 단위 면적당의 개구율과, 패턴(제2 패턴)(19)을 포함하는 제2 부분 영역(제2 부분 영역)(19a)에 있어서의 단위 면적당의 개구율(제2 비율)이 동등하게 되어 있다.

본 실시 형태에서는, 패턴(11)을 포함하는 부분 영역(11a)은 패턴(11)을 중심으로 하는 원 형상의 영역이며, 패턴(15)을 포함하는 부분 영역(15a)은 패턴(15)을 중심으로 하는 원 형상의 영역이다. 마찬가지로, 패턴(19)을 포함하는 부분 영역(19a)은 패턴(19)을 중심으로 하는 원 형상의 영역이다. 또한, 부분 영역(11a, 15a 및 19b)은 평가용 마스크(10)를 사용하여 평가하는 포커스나 노광량 등의 노광 조건을 바꾸어서 노광할 때의 영향(기판 상의 노광 영역을 바꾸는 것)을 고려하여, 직경 5mm 이상 80mm 이하의 영역으로 하고 있다.

이어서, 평가용 마스크(10)를 사용하여 선폭 및 포커스를 평가할 때의 처리(평가 방법)에 대하여 설명한다. 이러한 처리는, 상술한 바와 같이, 제어부(7)가 노광 장치(100)의 각 부를 통괄적으로 제어함으로써 행하여진다.

먼저, 노광량의 조건 제시를 행한다. 구체적으로는, 평가용 마스크(10)를 마스크 스테이지(2)에 보유 지지시켜서, 평가용 마스크(10)(패턴(11 내지 19))를 통하여, 레지스트를 도포한 기판 상의 X 방향의 위치를 어긋나게 한 개소를, 포커스와 노광량을 바꾸면서 노광한다. 그리고, 이러한 기판을 현상하고, 기판 상에 형성된 패턴(11 내지 19) 각각에 대응하는 레지스트상의 선폭을 계측하고, 그 계측 결과에 기초하여 베스트 포커스의 최적의 노광량을 구한다.

이어서, 최적의 노광량으로, 평가용 마스크(10)(패턴(11 내지 19))를 통하여, 레지스트를 도포한 기판 상의 X 방향의 위치를 어긋나게 한 개소를, 포커스를 바꾸면서 노광한다. 그리고, 이러한 기판을 현상하고, 기판 상에 형성된 패턴(11 내지 19) 각각에 대응하는 레지스트상의 선폭을 계측하고, 그 계측 결과에 기초하여 포커스와 선폭의 관계를 구한다.

이어서, 포커스와 선폭의 관계에 기초하여, 선폭 및 포커스를 평가한다. 구체적으로는, 패턴(11 내지 19)의 모두에서 허용되는 선폭의 범위를 만족하는 공통의 포커스 범위를 구하고, 노광 장치(100)의 초점 심도(DOF: Depth of Focus)로 한다. 또한, 패턴(11 내지 19)의 모든 평균 베스트 포커스에서의 선폭의 편차를 선폭 균일성이라고 한다.

본 실시 형태에 따르면, 도 4에 도시하는 평가용 마스크(10)를 사용함으로써 패턴(11 내지 19) 각각을 포함하는 부분 영역에서의 단위 면적당의 개구율의 차분에 의한 현상의 영향을 받지 않아, 노광 장치(100)의 성능을 높은 정밀도로 평가할 수 있다.

또한, 본 실시 형태에서는, 도 4에 도시하는 평가용 마스크(10)를 사용하여 평가된 노광 장치(100)의 성능에 기초하여, 노광 장치(100)의 성능을 조정한다. 또한, 노광 장치(100)의 성능 조정은, 예를 들어, 선폭을 조정하기 위하여 조명 광학계(3)의 조도 불균일을 조정하는 것이나 포커스를 조정하기 위하여 투영 광학계(4)의 광학 소자를 조정하는 것 등을 포함한다. 이에 의해, 상술한 현상의 영향을 받지 않고, 노광 장치(100)의 성능을 조정하는 것이 가능하게 되어, 우수한 성능을 갖는 노광 장치(100)를 제공할 수 있다. 따라서, 노광 장치(100)는 높은 스루풋으로 경제성 양호하게 고품위의 디바이스(액정 표시 디바이스, 반도체 디바이스 등)를 제공할 수 있다.

본 발명의 실시 형태에 있어서의 물품의 제조 방법은, 예를 들어, 액정 표시 디바이스 등의 물품을 제조하기에 적합하다. 이러한 제조 방법은, 노광 장치(100)를 사용하여, 감광제가 도포된 기판을 노광하는 공정과, 노광한 기판을 현상하는 공정을 포함한다. 또한, 상기 형성 공정에 이어서, 이러한 제조 방법은, 다른 주지의 공정(산화, 성막, 증착, 도핑, 평탄화, 에칭, 레지스트 박리, 다이싱, 본딩, 패키징 등)을 포함할 수 있다. 본 실시 형태에 있어서의 물품의 제조 방법은, 종래에 비하여, 물품의 성능, 품질, 생산성 및 생산 비용 중 적어도 하나에 있어서 유리하다.

이상, 본 발명의 바람직한 실시 형태에 대하여 설명했지만, 본 발명은 이들 실시 형태에 한정되지 않는 것은 말할 필요도 없고, 그 요지의 범위 내에서 다양한 변형 및 변경이 가능하다.

본 발명이 예시적인 실시 형태에 관련하여 설명되었지만, 본 발명은 개시된 예시적인 실시 형태에 한정되지 않는 것이 이해되어야 한다. 계속되는 청구범위에는, 구성 및 기능의 모든 변형예 및 균등물이 포함되도록, 가장 넓은 해석이 부여되어야 한다.

Claims

기판을 노광하는 노광 장치의 성능을 평가할 때에 사용되는 평가용 마스크로서,
상기 노광 장치의 제1 성능을 평가하기 위한 제1 패턴 및 제2 패턴과,
상기 노광 장치의 상기 제1 성능과는 상이한 제2 성능을 평가하기 위한 제3 패턴과,
상기 제1 패턴을 포함하는 제1 부분 영역에서의 단위 면적당의 개구부와 차광부의 제1 비율과, 상기 제2 패턴을 포함하는 제2 부분 영역에서의 단위 면적당의 개구부와 차광부의 제2 비율의 차분을 ±10％ 이내로 하기 위한 더미 패턴
을 갖고,
상기 제3 패턴이, 상기 제1 부분 영역 내에 있어서 상기 제1 패턴의 주위에 배치되고,
상기 더미 패턴이, 상기 제2 부분 영역 내에 있어서 상기 제2 패턴의 주위에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 평가용 마스크.
제1항에 있어서,
상기 더미 패턴은 상기 제1 비율과 상기 제2 비율을 동등하게 하도록 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 평가용 마스크.
제1항에 있어서,
상기 제1 부분 영역은, 상기 제1 패턴을 중심으로 하는 원 형상의 영역이며,
상기 제2 부분 영역은, 상기 제2 패턴을 중심으로 하는 원 형상의 영역인 것을 특징으로 하는 평가용 마스크.
제3항에 있어서,
상기 제1 부분 영역 및 상기 제2 부분 영역은, 직경 5mm 이상 80mm 이하의 영역인 것을 특징으로 하는 평가용 마스크.
삭제
제1항에 있어서,
상기 제1 패턴, 상기 제2 패턴, 상기 제3 패턴 및 상기 더미 패턴은, 개구 패턴인 것을 특징으로 하는 평가용 마스크.
제6항에 있어서,
상기 더미 패턴은, 상기 제3 패턴과 동일한 개구 패턴으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 평가용 마스크.
제1항에 있어서,
상기 제1 성능은, 선폭 및 포커스 중 하나 이상을 포함하고,
상기 제2 성능은, 디스토션(distortion)을 포함하는 것을 특징으로 하는 평가용 마스크.
기판을 노광하는 노광 장치의 성능을 평가할 때에 사용되는 평가용 마스크로서,
상기 노광 장치의 제1 성능을 평가하기 위한 제1 패턴 및 제2 패턴과,
상기 노광 장치의 상기 제1 성능과는 상이한 제2 성능을 평가하기 위한 제3 패턴과,
상기 평가용 마스크를 통하여 레지스트가 도포된 기판을 상기 노광 장치로 노광하고, 상기 기판을 현상했을 때에, 상기 기판 상의 상기 제1 패턴에 대응하는 레지스트상의 선폭과, 상기 제2 패턴에 대응하는 레지스트상의 선폭을 동일하게 하기 위한 더미 패턴
을 갖고,
상기 제3 패턴이, 상기 제1 패턴을 포함하는 제1 부분 영역 내에 있어서 상기 제1 패턴의 주위에 배치되고,
상기 더미 패턴이, 상기 제2 패턴을 포함하는 제2 부분 영역 내에 있어서 상기 제2 패턴의 주위에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 평가용 마스크.
기판을 노광하는 노광 장치의 성능을 평가할 때에 사용되는 평가용 마스크로서,
상기 노광 장치의 제1 성능을 평가하기 위한 제1 패턴 및 제2 패턴과,
상기 노광 장치의 상기 제1 성능과는 상이한 제2 성능을 평가하기 위한 제3 패턴과,
상기 제1 패턴을 포함하는 제1 부분 영역에서의 단위 면적당의 개구부의 면적과, 상기 제2 패턴을 포함하는 제2 부분 영역에서의 단위 면적당의 개구부의 면적을 일치시키기 위한 더미 패턴
을 갖고,
상기 제3 패턴이, 상기 제1 부분 영역 내에 있어서 상기 제1 패턴의 주위에 배치되고,
상기 더미 패턴이, 상기 제2 부분 영역 내에 있어서 상기 제2 패턴의 주위에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 평가용 마스크.
기판을 노광하는 노광 장치의 성능을 평가하는 평가 방법으로서,
상기 노광 장치를 사용하여, 평가용 마스크를 통하여, 레지스트가 도포된 기판을 노광하는 공정과,
노광된 상기 기판을 현상하는 공정과,
현상된 상기 기판 상의 레지스트상에 기초하여, 상기 노광 장치의 성능을 평가하는 공정을 갖고,
상기 평가용 마스크는, 제1항에 따른 평가용 마스크인 것을 특징으로 하는 평가 방법.
기판을 노광하는 노광 장치로서,
상기 기판에 전사해야 할 패턴을 갖는 마스크와, 상기 노광 장치의 성능을 평가하기 위한 평가용 마스크를 교환 가능하게 보유 지지하는 마스크 스테이지와,
상기 평가용 마스크를 사용하여 평가된 상기 노광 장치의 성능에 기초하여 상기 노광 장치의 성능 조정을 제어하는 제어부를 갖고,
상기 평가용 마스크는, 제1항에 따른 평가용 마스크인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
제12항에 따른 노광 장치를 사용하여 기판을 노광하는 공정과,
노광한 상기 기판을 현상하는 공정
을 갖는 것을 특징으로 하는 물품의 제조 방법.