JP2008276168A - 評価パターンを配置した液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マルチヘッドを有する直描露光機が基板を露光する際の露光ヘッド間の重複露光領域や折り返し露光領域に線幅や抵抗を評価するTEGを配置し、それらの測定値の変動を捕らえることで、複露光ヘッドの位置調整ずれを検出する。
【選択図】 図23
Description
従って基板端601から、露光ヘッド102aと露光ヘッド102bの重複露光領域の中心部分までの距離(Lab)623は
Lab=HD−OF+OW/2 式1
となる。
Lbc=2HD−OF+OW/2 式2
となる。同様に基板端601から、露光ヘッド102cと露光ヘッド102dの重複露光領域611の中心までの距離(Lcd)625は
Lcd=3HD−OF+OW/2 式3
となる。このように重複露光領域すなわちヘッド露光境界の基板上の位置を求めることが出来る。
重複露光領域としては図6で示した露光ヘッド102aと露光ヘッド102bの重複露光領域607を例にとって説明する。そのほかの重複露光領域でも同様に考えればよい。
Ltg>2HW−OW 式4
を満たしていることが特徴である。
千鳥格子の段数は千鳥格子パターン1708の抵抗が検出しやすいレンジに入るよう、設計する。
上述したように評価用パターンを配置していくと、ひとつの製品パネル内に概略等間隔に複数個並ぶことになる。評価用パターンの配置幅は概略ステージ副走査方向の移動幅に等しい。
Ly=(Ly1+Ly2)/2
として定義する。このLyと計測用パターンを配置する際の設計上の設定値Lydを比較し、
Lyd=Lyならば、所望の寸法で描画されている、
Lyd<Lyならば、描画された間隔は所望の寸法より長い、
Lyd>Lyならば、描画された間隔は所望の寸法より短い、
と評価する。
L1=(L1a+L1b)/2
L2=(L2a+L2b)/2
として
(1) L1、L2が等しいとき
Ly=√2*(L1−L0)、Dx=0
(2) L1、L2が等しくないとき
Dx=Rsinθ、Ly=Rcosθ
ここで、R=SQRT(((L1+L2−2L0)2+(L1−L2)2)/2)
θ=Arctan((L1+L2−2L0)/(L1−L2))
となる。関数SQRT()は、平方根を求めるものであり、関数Arctan()は逆正接を求めるものである。
しかし、図27bにおいて、
Bx1(外側ボックスと内側ボックスの左側の外側境界間の距離)、
Bx2(外側ボックスと内側ボックスの左側の内側境界間の距離)、
Bx3(外側ボックスと内側ボックスの右側の内側境界間の距離)、
Bx4(外側ボックスと内側ボックスの右側の外側境界間の距離)を計測し
BL=(Bx1+Bx2)/2
BR=(Bx3+Bx4)/2
を算出する。BLとBRが等しければ、外側パターンと内側パターンの位置に関して主走査方向のずれはないと評価する。BLがBRに比して大きければ、内側パターンが外側パターンに比して右に寄っていることになり、BLがBRに比して大きければ、内側パターンが外側パターンに比して左に寄っていることになる。これにより、露光ヘッド102aと露光ヘッド102bの描画結果が主操作方向109にずれていると評価できる。
By1(外側ボックスと内側ボックスの上側の外側境界間の距離)、
By2(外側ボックスと内側ボックスの上側の内側境界間の距離)、
By3(外側ボックスと内側ボックスの下側の内側境界間の距離)、
By4(外側ボックスと内側ボックスの下側の外側境界間の距離)を計測し
BU=(By1+By2)/2
BD=(By3+By4)/2
を算出する。BUとBDが等しければ、外側パターンと内側パターンの位置に関して主走査方向のずれはないと評価できる。BUがBDに比して大きければ、内側パターンが外側パターンに比して下に寄っていることになり、BUがBDに比して大きければ、内側パターンが外側パターンに比して上に寄っていることになる。これにより露光ヘッド102aと露光ヘッド102bの描画結果は副操作方向110にずれていると評価できる。
101:製品パネル
102a〜102d:露光ヘッド
103a〜103e:評価TEGの配置位置
104〜106:ヘッド間の描画境界
107:オリフラ
108:露光ヘッド幅
109:主走査方向
110:副走査方向
111:露光ヘッド間の間隔
1101:製造ライン
1102:基板
1107:現像後検査
1109:エッチング後検査
1111:異常チェック
1112:原因推定
1113:露光ヘッドの位置等の調整
2310〜2315:折り返し描画領域
2310a〜2315a:折り返し描画領域部に配置したTEGの位置を示す。
2404〜2405:重複して露光する領域を挟んで、対向して配置した長方形状のTEG
2604〜2607:重複して露光する領域を挟んで、45度傾けて配置した正方形状のTEG
2706〜2707:重複して露光する領域内に配置した、ボックスインボックスTEG
Claims (16)
- 複数の露光ヘッドを有する直描露光機を用いた基板製造において、
基板上のヘッド描画境界に評価用TEG(Test Element Group)を配置し、ヘッド描画境界内の当該評価TEGの測定値と単一露光領域内の当該評価TEGの測定値を比較することで、露光ヘッドの位置調整ずれを検知し、露光ヘッドの位置調整ずれを修正することで、当該直描露光機の安定した露光を実現する基板製造方法。 - 請求項1に記載した評価TEGは、線幅評価用TEGであることを特徴とする基板製造方法。
- 請求項2に記載した線幅評価TEGは、ヘッド描画境界の幅より長い長さを有し、ヘッド描画境界を横断するライン状の線幅評価TEGであることを特徴とする基板製造方法。
- 請求項2に記載した線幅評価TEGは、ヘッド描画境界に並行するライン状の線幅評価TEGであることを特徴とする基板製造方法。
- 請求項2に記載した線幅評価TEGは、ヘッド描画境界の幅より長い斜めライン状の線幅評価TEGであることを特徴とする基板製造方法。
- 請求項2に記載した評価TEGは、抵抗評価用TEGであることを特徴とする基板製造方法。
- 請求項6に記載した抵抗評価用TEGは、つづら折状の形状を有することを特徴とする基板製造方法。
- 請求項6に記載した抵抗評価用TEGは、千鳥格子状の形状を有することを特徴とする基板製造方法。
- 請求項6に記載した抵抗評価用TEGは、菱形状の形状を有することを特徴とする基板製造方法。
- 請求項6に記載した抵抗評価用TEGは、ライン状の形状を有することを特徴とする基板製造方法。
- 複数の露光ヘッドを有する直描露光機を用いた基板製造方法において、
単一の露光ヘッドで描画される領域と、複数の露光ヘッドで重複描画される領域とに、それぞれ評価用パターンが配置されるように、前記基板に露光処理を行い、
単一の露光ヘッドで描画された領域内の前記評価用パターンと、複数の露光ヘッドで重複描画された領域内の前記評価用パターンとの測定値を比較することにより、前記露光ヘッドの位置調整ずれを検知する
ことを特徴とする基板製造方法。 - 複数の露光ヘッドを有する直描露光機を用いた基板製造方法において、
複数の露光ヘッドで重複描画される領域を挟んで位置する、単一の露光ヘッドで描画される2つの領域に、それぞれ、評価用パターンが配置されるように、前記基板に露光処理を行い、
前記2つの領域にそれぞれ形成された前記評価用パターンの位置関係を測定することにより、前記露光ヘッドの位置調整ずれを検知する
ことを特徴とする基板製造方法。 - 液晶表示装置であって、
複数の評価用パターンが、直線上に並び列を構成し、かつ、前記列が概略等間隔で並んでいる
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 上記評価用パターンは、斜め45度に傾斜した4つの矩形からなることを特徴とする請求項13に記載の液晶表示装置。
- 上記評価用パターンは、対向した2つの長方形からなることを特徴とする請求項13に記載の液晶表示装置。
- 上記評価用パターンは、ボックスインボックスの形状を取ることを特徴とする請求項13に記載の液晶表示装置。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009244831A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-10-22 | Hitachi Displays Ltd | マスクレス露光方法 |
JP2020076899A (ja) * | 2018-11-08 | 2020-05-21 | 株式会社エスケーエレクトロニクス | 露光装置の検査方法及び露光装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0634587A (ja) * | 1992-03-14 | 1994-02-08 | Toshiba Corp | 半導体製造装置の評価装置およびその評価方法 |
JP2002258489A (ja) * | 2000-04-20 | 2002-09-11 | Nikon Corp | 露光装置および露光方法 |
JP2006173470A (ja) * | 2004-12-17 | 2006-06-29 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 自動補正方法および自動補正装置 |
JP2006276696A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画ずれ測定方法、露光方法、目盛パターン、目盛パターン描画方法、および目盛パターン描画装置 |
JP2006301301A (ja) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 搬送誤差計測方法、校正方法、描画方法、露光描画方法、描画装置及び露光描画装置 |
JP2007067018A (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-15 | Sharp Corp | 露光装置の露光動作評価方法および半導体デバイスの製造方法 |
-
2007
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0634587A (ja) * | 1992-03-14 | 1994-02-08 | Toshiba Corp | 半導体製造装置の評価装置およびその評価方法 |
JP2002258489A (ja) * | 2000-04-20 | 2002-09-11 | Nikon Corp | 露光装置および露光方法 |
JP2006173470A (ja) * | 2004-12-17 | 2006-06-29 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 自動補正方法および自動補正装置 |
JP2006276696A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画ずれ測定方法、露光方法、目盛パターン、目盛パターン描画方法、および目盛パターン描画装置 |
JP2006301301A (ja) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 搬送誤差計測方法、校正方法、描画方法、露光描画方法、描画装置及び露光描画装置 |
JP2007067018A (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-15 | Sharp Corp | 露光装置の露光動作評価方法および半導体デバイスの製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009244831A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-10-22 | Hitachi Displays Ltd | マスクレス露光方法 |
JP2020076899A (ja) * | 2018-11-08 | 2020-05-21 | 株式会社エスケーエレクトロニクス | 露光装置の検査方法及び露光装置 |
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