JP7160637B2 - 露光装置の検査方法 - Google Patents
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Description
露光ヘッド及びステージの相対位置を変化させて主走査及び副走査を行うことで被露光材を露光する露光装置の検査方法であって、
ステージに検査用の被露光材を配置する配置工程と、
第1のスケールパターン及び第2のスケールパターンを、露光ヘッド及びステージの相対位置を異ならせて、別々に露光すること、第2のスケールパターン及び第3のスケールパターンを、同時に露光すること、及び、第1のスケールパターン及び第4のスケールパターンを、露光ヘッド及びステージの相対位置を副走査方向において異ならせて、別々に露光することを含む露光工程と、
被露光材に形成された像が潜像である場合に該潜像を顕像化する顕像工程と、
第1のスケールパターン及び第2のスケールパターンの位置相関性、及び、第3のスケールパターン及び第4のスケールパターンの位置相関性のそれぞれを確認することを含む確認工程とを備え、
露光装置の副走査方向ピッチ精度を検査する
ものである。
露光ヘッド及びステージの相対位置を変化させて主走査及び副走査を行うことで被露光材を露光する露光装置の検査方法であって、
ステージに検査用の被露光材を配置する配置工程と、
第1のスケールパターン及び第2のスケールパターンを、露光ヘッド及びステージの相対位置を異ならせて、別々に露光すること、第2のスケールパターン及び第3のスケールパターンを、同時に露光すること、及び、第1のスケールパターン及び第4のスケールパターンを、露光ヘッド及びステージの相対位置を主走査方向において異ならせて、別々に露光することを含む露光工程と、
被露光材に形成された像が潜像である場合に該潜像を顕像化する顕像工程と、
第1のスケールパターン及び第2のスケールパターンの位置相関性、及び、第3のスケールパターン及び第4のスケールパターンの位置相関性のそれぞれを確認することを含む確認工程とを備え、
露光装置の主走査方向ピッチ精度を検査する
ものである。
位置相関性は、本尺と副尺の関係によるものである
との構成を採用することができる。
第1の検査方法は、
ステージ11に検査用の被露光材12を配置する配置工程と、
第1のスケールパターン及び第2のスケールパターンを、露光ヘッド10及びステージ11の相対位置を異ならせて、別々に露光すること、第2のスケールパターン及び第3のスケールパターンを、同時に露光すること、及び、第1のスケールパターン及び第4のスケールパターンを、露光ヘッド10及びステージ11の相対位置を副走査方向において異ならせて、別々に露光することを含む露光工程と、
被露光材12を現像して第1のパターンないし第4のパターンを顕像化する現像工程と、
第1のスケールパターン及び第2のスケールパターンの位置相関性、及び、第3のスケールパターン及び第4のスケールパターンの位置相関性のそれぞれを確認することを含む確認工程とを備え、
露光装置の副走査方向ピッチ精度を検査する方法である。
第2の検査方法は、
ステージ11に検査用の被露光材12を配置する配置工程と、
第1のスケールパターン及び第2のスケールパターンを、露光ヘッド10及びステージ11の相対位置を主走査方向において異ならせた後、露光ヘッド10及びステージ11の相対位置を副走査方向において異ならせて、別々に露光することを含む露光工程と、
被露光材12を現像して第1のパターン及び第2のパターンを顕像化する現像工程と、
第1のスケールパターン及び第2のスケールパターンの位置相関性を確認することを含む確認工程とを備え、
露光装置の主走査方向ピッチ精度を検査する方法である。
第3の検査方法は、
ステージ11に検査用の被露光材12を配置する配置工程と、
第1のスケールパターン及び第2のスケールパターンを、露光ヘッド10及びステージ11の相対位置を異ならせて、別々に露光すること、第2のスケールパターン及び第3のスケールパターンを、同時に露光すること、及び、第1のスケールパターン及び第4のスケールパターンを、露光ヘッド10及びステージ11の相対位置を主走査方向において異ならせて、別々に露光することを含む露光工程と、
被露光材12を現像して第1のパターンないし第4のパターンを顕像化する現像工程と、
第1のスケールパターン及び第2のスケールパターンの位置相関性、及び、第3のスケールパターン及び第4のスケールパターンの位置相関性のそれぞれを確認することを含む確認工程とを備え、
露光装置の主走査方向ピッチ精度を検査する方法である。
第4の検査方法は、
ステージ11に検査用の被露光材12を配置する配置工程と、
第1のスケールパターン及び第2のスケールパターンを、露光ヘッド10及びステージ11の相対位置を異ならせて、別々に露光すること、及び、第1のスケールパターンを、主走査しながら露光することを含む露光工程と、
被露光材12を現像して第1のパターン及び第2のパターンを顕像化する現像工程と、
第1のスケールパターン及び第2のスケールパターンの位置相関性を確認することを含む確認工程とを備え、
露光装置の主走査方向送り精度を検査する方法である。
図1及び図2に示す検査方法Aは、シングル露光ヘッドの露光装置の副走査方向ピッチ精度を検査するものであり、第1の検査方法に該当するものである。
図3に示す検査方法Bは、検査方法Aと同じく、シングル露光ヘッドの露光装置の副走査方向ピッチ精度を検査するものであり、第1の検査方法に該当するものである。
図4及び図5に示す検査方法Cは、マルチ露光ヘッドの露光装置の副走査方向ピッチ精度を検査するものであり、第1の検査方法に該当するものである。検査方法Cは、マルチ露光ヘッド用であるか、シングル露光ヘッド用であるかの違いがある以外は、基本的には、検査方法Aと同じである。
図6に示す検査方法Dは、検査方法Cと同じく、マルチ露光ヘッドの露光装置の副走査方向ピッチ精度を検査するものであり、第1の検査方法に該当するものである。検査方法Dは、マルチ露光ヘッド用であるか、シングル露光ヘッド用であるかの違いがある以外は、基本的には、検査方法Bと同じである。
図7及び図8に示す検査方法Eは、シングル露光ヘッド及びマルチ露光ヘッドの各露光装置の主走査方向ピッチ精度を検査するものであり、第2の検査方法に該当するものである。
図9に示す検査方法Fは、シングル露光ヘッド及びマルチ露光ヘッドの各露光装置の主走査方向ピッチ精度を検査するものであり、第3の検査方法に該当するものである。検査方法Fは、主走査方向ピッチ精度の検査であるか、副走査方向ピッチ精度の検査であるかの違いがある以外は、基本的には、検査方法AないしDと考え方は同じである。
図10及び図11に示す検査方法Gは、シングル露光ヘッド及びマルチ露光ヘッドの各露光装置の主走査方向送り精度を検査するものであり、第4の検査方法に該当するものである。
図12(a)に示す検査方法Hは、シングル露光ヘッド及びマルチ露光ヘッドの各露光装置の副走査方向ピッチ精度を検査するものであり、第1の検査方法に該当するものである。
図12(b)に示す検査方法Hは、シングル露光ヘッド及びマルチ露光ヘッドの各露光装置の主走査方向ピッチ精度を検査するものであり、第2の検査方法に該当するものである。
図13(a)に示す検査方法Jは、シングル露光ヘッド及びマルチ露光ヘッドの各露光装置の副走査方向ピッチ精度を検査するものであり、第1の検査方法に該当するものである。
図13(b)に示す検査方法Hは、シングル露光ヘッド及びマルチ露光ヘッドの各露光装置の主走査方向ピッチ精度を検査するものであり、第2の検査方法に該当するものである。
Claims (3)
- 露光ヘッド及びステージの相対位置を変化させて主走査及び副走査を行うことで被露光材を露光する露光装置の検査方法であって、
前記ステージに検査用の被露光材を配置する配置工程と、
第1のスケールパターン及び第2のスケールパターンを、前記露光ヘッド及び前記ステージの相対位置を異ならせて、別々に露光すること、前記第2のスケールパターン及び第3のスケールパターンを、同時に露光すること、及び、前記第1のスケールパターン及び第4のスケールパターンを、前記露光ヘッド及び前記ステージの相対位置を副走査方向において異ならせて、別々に露光することを含む露光工程と、
前記被露光材に形成された像が潜像である場合に該潜像を顕像化する顕像工程と、
前記第1のスケールパターン及び前記第2のスケールパターンの位置相関性、及び、前記第3のスケールパターン及び前記第4のスケールパターンの位置相関性のそれぞれを確認することを含む確認工程とを備え、
前記露光装置の副走査方向ピッチ精度を検査する
露光装置の検査方法。 - 露光ヘッド及びステージの相対位置を変化させて主走査及び副走査を行うことで被露光材を露光する露光装置の検査方法であって、
前記ステージに検査用の被露光材を配置する配置工程と、
第1のスケールパターン及び第2のスケールパターンを、前記露光ヘッド及び前記ステージの相対位置を異ならせて、別々に露光すること、前記第2のスケールパターン及び第3のスケールパターンを、同時に露光すること、及び、前記第1のスケールパターン及び第4のスケールパターンを、前記露光ヘッド及び前記ステージの相対位置を主走査方向において異ならせて、別々に露光することを含む露光工程と、
前記被露光材に形成された像が潜像である場合に該潜像を顕像化する顕像工程と、
前記第1のスケールパターン及び前記第2のスケールパターンの位置相関性、及び、前記第3のスケールパターン及び前記第4のスケールパターンの位置相関性のそれぞれを確認することを含む確認工程とを備え、
前記露光装置の主走査方向ピッチ精度を検査する
露光装置の検査方法。 - 前記位置相関性は、本尺と副尺の関係によるものである
請求項1又は請求項2に記載の検査方法。
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Publication Number | Publication Date |
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ID=70724159
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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2018
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