JP6755733B2 - マスク、計測方法、露光方法、及び、物品製造方法 - Google Patents
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Description
第1実施形態の露光装置100について、図4を参照しながら説明する。図4は、第1実施形態の露光装置100を示す図である。第1実施形態の露光装置100は、一例として、液晶表示デバイス(液晶パネル)の製造工程におけるリソグラフィ工程に採用されるものとする。露光装置100はステップ・アンド・スキャン方式にて、マスク1に形成されているパターンを、投影光学系4を介して表面にレジスト(感光剤)層が形成された基板であるプレート(ガラスプレート)5上(基板上)に露光する走査型投影露光装置である。なお、図4では、鉛直方向であるZ軸に垂直な平面内で露光時のマスク1および基板5の走査(移動)方向にY軸をとり、Y軸に直行する非走査方向にX軸をとっている。また、説明文中で使用する「光学系」とは、単数もしくは複数の鏡体または/およびレンズ体で構成される系をいう。露光装置100は、マスクステージ2と、照明光学系3と、投影光学系4と、基板ステージ6と、アライメントスコープ(マーク検出装置)7と、制御部8とを有する。また、マスク1はマスクステージ2に、基板5は基板ステージ6に保持されている。
第2実施形態の露光装置101について、図12を参照しながら説明する。図12は、第2実施形態の露光装置101を示す図である。ここでは第1実施形態との相違点のみを説明し、第1実施形態で説明した内容と重複する説明は省略する。第2の実施形態では第1ショット領域と第2ショット領域が走査方向に平行な方向に並ぶ場合について説明する。
第3実施形態の露光装置102について、図16を参照しながら説明する。図16は第3実施形態の露光装置102を示す図である。ここでは第1実施形態と第2実施形態の相違点のみを説明する。第3実施形態では第1〜第4ショットが走査方向に垂直方向と平行方向との両方に並ぶ場合について説明する。露光装置102は遮光板91、92および遮光機構93の両方を含む。
次に、前述の露光装置を利用した物品(半導体IC素子、液晶表示素子、MEMS等)の製造方法を説明する。デバイスは、前述の露光装置を使用して、感光剤が塗布された基板(ウェハ、ガラス基板等)を露光する工程と、その基板(感光剤)を現像する工程と、現像された基板を他の周知の工程で処理することにより製造される。他の周知の工程には、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等が含まれる。本デバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
Claims (9)
- 基板上に露光される第1ショット領域の位置と、前記第1ショット領域の一部につなぎ領域を設けて露光される第2ショット領域の位置と、のずれを計測するための第1マーク及び第2マークを有するマスクであって、
前記第1マークは、前記第1ショット領域内の前記つなぎ領域に露光されるマークであり、第1減光領域と、前記第1減光領域の光透過率より高い光透過率の第1領域と、前記第1減光領域の光透過率より低い光透過率の第11領域と、を有し、
前記第2マークは、前記第1マークとは異なり、前記第2ショット領域内の前記つなぎ領域に前記第1マークと重ね合わせて露光されるマークであり、第2減光領域と、前記第2減光領域の光透過率より高い光透過率の第2領域と、前記第2減光領域の光透過率より低い光透過率の第22領域と、を有し、
前記第1マークおよび第2マークを重ねた場合に、前記第1マークの第1領域と前記第11領域の境界が前記第2マークの第2減光領域にあり、前記第2マークの第2領域と前記第22領域の境界が前記第1マークの第1減光領域にあることを特徴とするマスク。 - 前記第1減光領域又は前記第2減光領域は、入射光の光量を低下させて出射させる膜を有することを特徴とする請求項1に記載のマスク。
- 前記第1減光領域又は前記第2減光領域は、基板に露光されたときに解像しないパターンを有することを特徴とする請求項1または2に記載のマスク。
- 前記パターンは、ラインアンドスペースパターン又はドットパターンを含むことを特徴とする請求項3に記載のマスク。
- 前記第1マーク及び前記第2マークは互いに垂直な2方向に沿った外形を有するボックス形状であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載のマスク。
- 前記第1マーク及び前記第2マークは互いに垂直な2方向に沿った外形を有するボックス形状であり、
前記パターンは、前記2方向に対して斜めの方向に延びるラインを有するラインアンドスペースパターンを含むことを特徴とする請求項3に記載のマスク。 - 基板上に露光される第1ショット領域の位置と、前記第1ショット領域の一部につなぎ領域を設けて露光される第2ショット領域の位置と、のずれを計測する計測方法であって、
前記第1ショット領域の位置と前記第2ショット領域の位置とのずれを計測するための第1減光領域と、前記第1減光領域の光透過率より高い光透過率の第1領域と、前記第1減光領域の光透過率より低い光透過率の第11領域と、を含む第1マークを有するマスクを用いて、前記第1ショット領域内の前記つなぎ領域に前記第1マークの像を露光する工程と、
前記第1マークとは異なり、前記第1ショット領域の位置と前記第2ショット領域の位置とのずれを計測するための第2減光領域と、前記第2減光領域の光透過率より高い光透過率の第2領域と、前記第2減光領域の光透過率より低い光透過率の第22領域と、を含む第2マークを有するマスクを用いて、前記第2ショット領域内の前記つなぎ領域に前記第1マークと重ね合わせて前記第2マークの像を露光する工程と、
前記第1マークの像と前記第2マークの像とが重なって形成される像において、前記第1領域と前記第11領域の境界に対応する第1エッジの位置と、前記第2領域と前記第22領域の境界に対応する第2エッジの位置と、を計測する工程と、
計測された前記第1エッジ及び前記第2エッジの位置に基づいて、前記つなぎ領域における前記第1ショット領域の位置と前記第2ショット領域の位置とのずれを算出する工程と、を有し、
前記第1マークおよび第2マークを重ねた場合に、前記第1マークの第1領域と前記第11領域の境界が前記第2マークの第2減光領域にあり、前記第2マークの第2領域と前記第22領域の境界が前記第1マークの第1減光領域にあることを特徴とする計測方法。 - 基板を露光する露光方法であって、
請求項7に記載の計測方法を用いて、つなぎ領域を設けて露光される2つのショット領域の位置のずれを算出する工程と、
基板上に第1ショット領域を露光した後、前記第1ショット領域の一部につなぎ領域を設けて第2ショット領域を露光する露光工程と、を有し、
前記露光工程において、算出されたずれに基づいて、前記第1ショット領域又は前記第2ショット領域の形状を補正して、前記第1ショット領域及び前記第2ショット領域を露光する、ことを特徴とする露光方法。 - 物品を製造する製造方法であって、
請求項8に記載の露光方法を用いて基板を露光する工程と、
露光された基板を現像する工程と、
現像された基板を処理して物品を製造する工程と、を有することを特徴とする製造方法。
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