JP2006173470A - 自動補正方法および自動補正装置 - Google Patents
自動補正方法および自動補正装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006173470A JP2006173470A JP2004366268A JP2004366268A JP2006173470A JP 2006173470 A JP2006173470 A JP 2006173470A JP 2004366268 A JP2004366268 A JP 2004366268A JP 2004366268 A JP2004366268 A JP 2004366268A JP 2006173470 A JP2006173470 A JP 2006173470A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- sensor
- elements
- heads
- automatic correction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B7/00—Control of exposure by setting shutters, diaphragms or filters, separately or conjointly
- G03B7/20—Control of exposure by setting shutters, diaphragms or filters, separately or conjointly in accordance with change of lens
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】 自動補正方法は、露光対象基板の相対移動方向に複数並ぶ露光ヘッド内に、この相対移動方向に対して傾斜して2次元配列された露光素子のうち、隣接する露光ヘッドに別々に含まれかつ露光対象物の同一ライン上を露光すべき2つの露光素子を点灯するステップと、露光ヘッドの発光する側において露光ヘッドの並ぶ方向に移動するセンサボード11を用いて2つの露光素子の点灯を検知するステップと、2つの露光素子が上記同一ライン上を露光することができるよう補正するための補正量を、センサボード11による露光素子の点灯の検知結果に基づいて算出するステップと、を備える。
【選択図】 図1
Description
12 計算機
13−A、13−B、13−C、13−N 露光ヘッド制御装置
20A、20B センサセット
29A、29B、29C、29D スリット
30A、30B、30C、30D 光検知センサ
200−A、200−B、200−C、200−N 露光ヘッド
Claims (13)
- 露光対象物の相対移動の方向に対して傾斜して2次元配列された露光素子を有する露光ヘッドが、前記相対移動の方向に直交する方向に複数並ぶ直接露光装置の自動補正方法であって、
前記露光素子のうち、隣接する前記露光ヘッドに別々に含まれかつ前記露光対象物の同一ライン上を露光すべき2つの露光素子を点灯する点灯ステップと、
前記露光ヘッドの発光する側において前記露光ヘッドの並ぶ方向に移動するセンサを用いて前記2つの露光素子の点灯を検知する検知ステップと、
前記2つの露光素子が前記露光対象物の同一ライン上を露光することができるよう補正するための補正量を、前記センサによる前記露光素子の点灯の検知結果に基づいて算出する補正ステップと、
を備えることを特徴とする自動補正方法。 - 前記センサは、センサボードと、互いに平行に並ぶライン状の2つの光検知センサが前記露光ヘッドの並ぶ方向に対して所定の角度で配置された2組のセンサセットとを有し、
光検知センサは、各前記センサセットごとで異なる前記所定の角度を有するように前記センサボード上に配置される請求項2に記載の自動補正方法。 - 各前記センサセットは、前記センサボード上に、前記露光ヘッドの並ぶ方向に横並びで配置される請求項2に記載の自動補正方法。
- 各前記センサセットは、前記センサボード上に、互いに重なって配置される請求項2に記載の自動補正方法。
- 前記補正ステップは、
前記センサボードの移動中に各前記光検知センサが前記露光素子の点灯を検知した時間のズレを、検知時間差として各前記センサセットごとに算出し、これら2つの検知時間差に基づいて、前記補正量を算出する請求項2に記載の自動補正方法。 - 前記補正ステップは、
各前記センサセットごとの前記検知時間差に前記センサボードの移動速度をそれぞれ乗算し、各センサセットごとの乗算値を算出する第1の計算ステップと、
前記2つの露光素子のうちの一方の露光素子を基準としたときの他方の露光素子の設計上の位置を原点としかつ前記同一ラインを1つの軸とする2次元平面上において、前記所定の角度の正接を傾きとしかつ前記乗算値を切片とするような1次関数を、各前記センサセットごとに算出する第2の計算ステップと、
前記2次元平面上における2つの前記1次関数の交点を算出する第3の計算ステップと、
前記交点の各座標値にマイナス1をそれぞれ乗算して得られた各値を、前記補正量とする第4の計算ステップと、を備える請求項5に記載の自動補正方法。 - 露光対象物の相対移動の方向に対して傾斜して2次元配列された露光素子を有する露光ヘッドを、前記相対移動の方向に直交する方向に複数備える直接露光装置のための自動補正装置であって、
互いに平行に並ぶライン状の2つの光検知センサが前記露光ヘッドの並ぶ方向に対して所定の角度で配置されたセンサセットを2組有するセンサであって、光検知センサが、各前記センサセットごとで異なる前記所定の角度を有するように配置されるセンサと、
前記露光素子のうち、隣接する前記露光ヘッドに別々に含まれかつ前記露光対象物の同一ライン上を露光すべき2つの露光素子の点灯が検知可能となるように、前記センサを、前記露光ヘッドの発光する側において前記露光ヘッドの並ぶ方向に移動させる移動手段と、
を備えることを特徴とする自動補正装置。 - 各前記センサセットは、センサボード上に、前記露光ヘッドの並ぶ方向に横並びで配置される請求項7に記載の自動補正装置。
- 各前記センサセットは、センサボード上に、互いに重なって配置される請求項7に記載の自動補正装置。
- 前記光検知センサは、センサ本体の受光面上にスリットが設けられることでライン状に形成される請求項7に記載の自動補正装置。
- 前記センサによる前記2つの露光素子の点灯の検知結果に基づいて、前記2つの露光素子が前記露光対象物の同一ライン上を露光することができるよう補正するための補正量を算出する補正手段をさらに備える請求項7に記載の自動露光装置。
- 前記補正手段は、
前記センサボードの移動中に各前記光検知センサが前記露光素子の点灯を検知した時間のズレを、検知時間差として各前記センサセットごとに算出し、これら2つの検知時間差に基づいて、前記補正量を算出する請求項11に記載の自動補正装置。 - 前記補正手段は、
各前記センサセットごとの前記検知時間差に、前記センサボードの移動速度をそれぞれ乗算し、各センサセットごとの乗算値を算出する第1の計算手段と、
前記2つの露光素子のうちの一方の露光素子を基準としたときの他方の露光素子の設計上の位置を原点としかつ前記同一ラインを1つの軸とする2次元平面上において、前記所定の角度の正接を傾きとしかつ前記乗算値を切片とするような1次関数を、各前記センサセットごとに算出する第2の計算手段と、
前記2次元平面上における2つの前記1次関数の交点を算出する第3の計算手段と、
前記交点の各座標値にマイナス1をそれぞれ乗算して得られた各値を、前記補正量とする第4の計算手段と、を備える請求項12に記載の自動補正装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004366268A JP4557703B2 (ja) | 2004-12-17 | 2004-12-17 | 自動補正方法および自動補正装置 |
US11/303,900 US7440080B2 (en) | 2004-12-17 | 2005-12-15 | Method and apparatus for automatic correction of direct exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004366268A JP4557703B2 (ja) | 2004-12-17 | 2004-12-17 | 自動補正方法および自動補正装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006173470A true JP2006173470A (ja) | 2006-06-29 |
JP2006173470A5 JP2006173470A5 (ja) | 2007-10-25 |
JP4557703B2 JP4557703B2 (ja) | 2010-10-06 |
Family
ID=36595241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004366268A Expired - Fee Related JP4557703B2 (ja) | 2004-12-17 | 2004-12-17 | 自動補正方法および自動補正装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7440080B2 (ja) |
JP (1) | JP4557703B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006129535A1 (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-07 | Fujifilm Corporation | 描画方法および装置 |
JP2008276168A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-11-13 | Hitachi Displays Ltd | 評価パターンを配置した液晶表示装置およびその製造方法 |
JP2010102084A (ja) * | 2008-10-23 | 2010-05-06 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP2011107569A (ja) * | 2009-11-20 | 2011-06-02 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
US8953146B2 (en) | 2009-02-26 | 2015-02-10 | V Technology Co., Ltd. | Exposure apparatus for improving alignment accuracy of a pattern generated by light modulating elements |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG193240A1 (en) | 2011-03-29 | 2013-10-30 | Asml Netherlands Bv | Measurement of the position of a radiation beam spot in lithography |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1486826A2 (en) * | 2003-06-10 | 2004-12-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Pixel position specifying method, method of correcting image offset, and image forming device |
JP2005001153A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画素位置特定方法、画像ずれ補正方法、および画像形成装置 |
JP2005003762A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画素位置特定方法、画像ずれ補正方法、および画像形成装置 |
JP2005316461A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置の校正方法及び露光方法並びに露光装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10112579A (ja) | 1996-10-07 | 1998-04-28 | M S Tec:Kk | レジスト露光方法及びその露光装置 |
WO1998047042A1 (en) | 1997-04-14 | 1998-10-22 | Dicon A/S | An apparatus and a method for illuminating a light-sensitive medium |
JP4188712B2 (ja) | 2003-01-21 | 2008-11-26 | 富士フイルム株式会社 | 露光装置及び露光装置の調整方法 |
-
2004
- 2004-12-17 JP JP2004366268A patent/JP4557703B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-12-15 US US11/303,900 patent/US7440080B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1486826A2 (en) * | 2003-06-10 | 2004-12-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Pixel position specifying method, method of correcting image offset, and image forming device |
JP2005001153A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画素位置特定方法、画像ずれ補正方法、および画像形成装置 |
JP2005003762A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画素位置特定方法、画像ずれ補正方法、および画像形成装置 |
JP2005316461A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置の校正方法及び露光方法並びに露光装置 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006129535A1 (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-07 | Fujifilm Corporation | 描画方法および装置 |
JP2006337614A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Fujifilm Holdings Corp | 描画方法および装置 |
JP2008276168A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-11-13 | Hitachi Displays Ltd | 評価パターンを配置した液晶表示装置およびその製造方法 |
JP2010102084A (ja) * | 2008-10-23 | 2010-05-06 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
US8953146B2 (en) | 2009-02-26 | 2015-02-10 | V Technology Co., Ltd. | Exposure apparatus for improving alignment accuracy of a pattern generated by light modulating elements |
JP2011107569A (ja) * | 2009-11-20 | 2011-06-02 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7440080B2 (en) | 2008-10-21 |
US20060132745A1 (en) | 2006-06-22 |
JP4557703B2 (ja) | 2010-10-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6573516B2 (en) | Electron-beam lithography method and electron-beam lithography system | |
WO2006088262A2 (en) | Image-drawing method, image-drawing device, image-drawing system, and correction method | |
JP5731864B2 (ja) | 描画データの補正装置および描画装置 | |
JP2005003762A (ja) | 画素位置特定方法、画像ずれ補正方法、および画像形成装置 | |
US7440080B2 (en) | Method and apparatus for automatic correction of direct exposure apparatus | |
US20120140193A1 (en) | Dynamic wafer alignment method in exposure scanner system | |
US8367284B2 (en) | Exposure device, exposure method, and method for manufacturing semiconductor device | |
US20060289797A1 (en) | Electron beam writing method, electron beam writing apparatus and semiconductor device manufacturing method | |
US20230367230A1 (en) | Exposure apparatus | |
KR20140062600A (ko) | 마스크리스 노광장비 및 이의 왜곡차 측정 및 매칭방법 | |
KR20130044385A (ko) | 레티클 형성용 노광 장치 및 이를 이용한 레티클 제조 방법 | |
US7495745B2 (en) | Patterning method and computer readable medium therefor | |
KR20190105245A (ko) | 패턴 배치 보정의 방법 | |
KR20070121834A (ko) | 묘화 방법 및 그 장치 | |
US20160048081A1 (en) | Maskless exposure method and a maskless exposure device for performing the exposure method | |
KR20190044507A (ko) | 하전 입자 빔 묘화 장치 및 하전 입자 빔 묘화 방법 | |
JP2009104024A (ja) | 露光マスク、フォーカス測定方法及びパターン形成方法 | |
JP2007293099A (ja) | 直接露光装置 | |
JP2009237255A (ja) | 露光装置、及び露光方法 | |
JP2004281434A (ja) | ショットマップ作成方法、露光方法、プロセッサ、半導体装置の製造方法及びプログラム | |
JP4511707B2 (ja) | 電子ビーム露光装置、露光方法、及び半導体素子製造方法 | |
JP2004311735A (ja) | 近接露光における位置検出方法、および半導体装置の製造方法、ウェハ、露光マスク、位置検出装置 | |
JPH1130850A (ja) | 投影露光装置用マスク,投影露光方法および投影露光装置 | |
TWI544275B (zh) | 校正光束圖案化的方向和位置的方法 | |
JP2005167030A (ja) | マスクおよび露光方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070910 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070910 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100302 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100428 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100622 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100720 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4557703 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130730 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |