KR20070121834A - 묘화 방법 및 그 장치 - Google Patents

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미츠루 무사노
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후지필름 가부시키가이샤
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Abstract

화상은 묘화점 데이터를 기초로 기판(12) 상에 묘화점을 형성함으로써 기판(12) 상에 묘화된다. 묘화점 데이터는 화상을 표시하는 벡터 형식 화상 데이터를 얻고, 기판(12)상에 위치에 대응하는 화상 데이터 상의 위치 좌표를 얻고, 벡터 형식 화상 데이터 및 위치 좌표를 기초로 묘화점의 묘화점 데이터를 얻음으로써 얻어진다.

Description

묘화 방법 및 그 장치{METHOD OF AND SYSTEM FOR DRAWING}
본 발명은, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성되는 묘화점 영역을 묘화 대상에 상대적으로 이동시키고 묘화점 형성 영역의 이동에 따라 순차적으로 묘화점 영역을 형성함으로써 묘화 대상 상에 화상을 묘화하기 위한 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치와, 상기 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치에 의해 얻어진 묘화점을 기초로 묘화 대상에 화상을 묘화하는 방법 및 장치에 관한 것이다.
프린트 배선판(printed circuit board) 및 액정 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이의 기판 상에 소정 패턴을 기록하는 장치로서 포토리소그래피를 사용하는 다양한 노광 장치가 제안되어 있다.
그러한 노광 장치로서 포토레지스트가 적용된 기판에 라이트 빔을 주 주사 방향(main scanning direction)과 부 주사 방향(sub scanning direction)으로 주사함과 동시에 배선 패턴을 나타내는 화상 데이터를 기초로 라이트 빔이 변조됨으로써 배선 패턴을 형성하는 것이 제안되어 있다.
또한, 상술한 노광 장치로서, DMD(digital micro mirror device) 등 공간광 변조 소자를 사용하고 라이트 빔이 화상 데이터에 기초하여 변조되는 것이 제안되어 있다.
DMD를 사용하는 노광 장치로서, DMD의 마이크로 미러에 대응하는 묘화점군을 시구분적이고 순차적으로 형성되도록 주사 방향으로 DMD의 이동에 응하여 DMD의 메모리 셀에서 마이크로 미러의 수에 대응하는 화상 데이터를 입력하면서 노광면에 상대적으로 소정 주사 방향으로 DMD를 이동시킴으로써 원하는 화상이 형성되는 것이 제안되어 있다. 예를 들면, 일본특허공개 2004-233718호를 참조하라.
노광 패턴이 상기 노광 장치로 형성되는 경우, 노광면에 대한여 DMD의 위치에 대응하는 묘화점 데이터를 DMD의 이동과 함께 DMD에 순차적으로 입력한다. CAD 스테이션 또는 CAM(computer aided manufacturing) 스테이션을 갖는 데이터 제작 장치에서 벡터 형식 화상 데이터는 래스터 형식 화상 데이터로 변환하고 래스터 형식 화상 데이터로부터 노광면에 대해서 DMD의 위치에 따라 화소 데이터를 읽어냄으로써 묘화점 데이터를 얻는다. 예를 들면, 일본특허공개 2003-057834호 및 2003-050469호 참조.
묘화점 데이터를 상술한 방식으로 얻는 경우, 예를 들면, 노광된 기판이 변형되면, 묘화점 데이터는 기판의 변형에 따라 조정된 래스터 형식 화상 데이터에서 읽어낸 화소의 위치로 얻어진다. 그러나, 래스터 형식 화상 데이터는 해상도가 벡터 형식 화상 데이터보다 낮기 때문에, 선폭 등의 정도(accuracy)가 열화되는 경우가 있을 수 있고, 배선 패턴에 사선 등이 존재하는 경우 재기(jaggies)가 사선에 생성될 수 있어서 노광의 정도가 열화할 수 있다.
상술한 문제를 피하기 위해서 래스터 형식 화상 데이터의 해상도가 증가되면, 데이터 양이 팽대해지고 따라서, 화상 데이터에서 읽기 화소의 위치 연산은 장시간이 요구되고 또는 화상 데이터도 증가된 회수로 억세스되어서 처리속도의 열화를 초래한다. 또한, 화상 데이터를 저장하는 메모리의 용량 증대 필요성을 야기할 수 있고 비용증가를 초래한다.
상기 관찰과 기술의 관점에 있어서, 본 발명의 우선적인 목적은 처리속도의 열화 또는 비용 증가없이 정도를 증가시킬 수 있는 상술한 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상술한 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치에 의해서 얻어진 묘화점 데이터의 사용에 의하여 화상을 묘화하는 방법 및 장치를 제공하는 것이다.
본 발명에 따르면, 묘화점 데이터를 기초로 묘화 대상 상에 묘화점을 형성함으로써 묘화 대상 상에 화상을 묘화하는데 사용되는 묘화점 데이터를 얻는 제1 방법을 제공되고, 그 제1 방법은 화상의 원 벡터 형식 화상 데이터를 얻는 단계; 묘화점이 묘화 대상 상에 형성되어야 하는 위치에 대응하는 화상 데이터 상의 위치 좌표를 얻는 단계; 및 벡터 형식 화상 데이터 및 위치 좌표를 기초로 묘화점의 묘화점 데이터를 얻는 단계를 포함한다.
본 발명의 묘화점을 얻는 제1의 방법에 있어서, 묘화점 데이터는 위치 좌표 상의 화상 데이터를 기초로 결정된 묘화 영역을 중첩함으로써 위치 좌표가 속하는 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 얻어질 수 있다.
이 경우, 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성되는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상 묘화에 사용될 수 있고, 위치 좌표는 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역의 위치에 대응할 수 있다.
묘화 영역 상의 선을 중첩시킴으로써 위치 좌표를 포함하는 선이 중첩하는 화상 데이터를 기초로 결정된 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 묘화점 데이터를 얻을 수 있다.
화상 데이터와 선의 교점 위치를 기초로 얻은 묘화점 데이터를 얻을 수 있다.
묘화점 데이터 취득 방법은 화상 데이터로 표시되거나 또는 화상 데이터에서 구할 수 있는 화상의 윤곽과 선 사이의 교점을 나타내는 교점 배치 데이터를 얻는 단계를 더 포함하고, 상기 묘화점 데이터는 상기 교점 배치 데이터를 기초로 얻어지는 묘화점 데이터 취득 방법이 사용될 수 있다.
선은 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표에 연결할 수 있다.
선은 시계열 순으로 배치된 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표에 연결할 수 있다.
묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성되는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상 묘화에 사용되고; 선은 시계열 순으로 배치된 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표에 연결할 수 있다.
묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 하여 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상 묘화에 사용될 수 있고, 선은 묘화 대상 또는 상기 묘화 대상 상의 화상 공간에서 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적에 대응할 수 있다.
묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 복수의 묘화점 형성 영역을 포함하는 묘화점 형성 영역군을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역군의 이동과 함께 묘화 대상 상의 묘화점 형성 영역군에 대응하는 묘화점을 순차적으로 형성함으로써 화상 묘화에 사용될 수 있고, 선은 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역군의 적어도 일 부분의 묘화점 형성 영역을 결합한 선에 대응할 수 있다.
샘플링 피치에 관한 데이터는 선에 부속시킬 수 있다.
묘화점 데이터는 묘화 영역 상 소정 영역을 중첩함으로써 위치 좌표를 포함하는 소정 영역이 묘화 영역을 중첩한 화상 데이터를 기초로 결정된 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 얻어질 수 있다.
묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 복수의 묘화점 형성 영역을 포함하는 묘화점 형성 영역군을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역군의 이동과 함께 묘화 대상 상의 묘화점 형성 영역군에 대응하는 묘화점을 순차적으로 형성함으로써 화상 묘화에 사용될 수 있고, 소정 영역은 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 적어도 일 부분의 묘화점 형성 영역군에 대응할 수 있다.
본 발명에 따르면, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 하여 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 묘화 대상 상에 화상을 묘화하는데 사용되는 묘화점 데이터를 얻는 제2 방법이 더 제공되고, 그 제2 방법은 화상의 원 벡터 형식 화상 데이터를 얻는 단계, 화상의 묘화를 위한 묘화 대상 또는 상기 묘화 대상의 화상 공간에 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적에 대한 정보를 얻는 단계, 화상 데이터로 표시되는 또는 화상 데이터에서 구할 수 있는 화상 윤곽과 묘화 궤적 상의 정보에 대응하는 묘화 대상 상에 묘화점 데이터의 묘화 궤적의 교점 배치에 대한 정보를 얻는 단계 및 교점 배치에 대한 정보를 기초로 묘화점 데이터의 궤적 상에 대한 정보에 대응하는 묘화점 데이터를 얻는 단계를 포함한다.
묘화점 데이터를 얻는 제2 방법에 있어서, 묘화점 데이터 궤적은 교점 배치 데이터로 나타낸 교점에 의하여 부분 묘화점 궤적으로 구분될 수 있으며, 2진 데이터는 부분 묘화점 궤적이 배치된 순서로 부분 묘화점 궤적에 교대로 할당될 수 있으며 부분 묘화점 궤적에 할당된 2진 데이터는 이동 방향에 대응하는 화상 데이터 상 주사 방향으로 샘플링되어 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 묘화점 데이터를 얻을 수 있다.
또한, 데이터 방향에 대응하는 화상 데이터 상의 주사 방향에서 교점 배치 데이터의 좌표값이 얻어질 수 있고 얻어진 좌표값은 화상 데이터 상의 주사 방향에서 소정 간격의 값으로 나누어져 양자화된 값을 얻을 수 있으며, 화상 데이터 상의 주사 방향에 인접하는 양자화된 값들 간의 차이는 실행 길이 데이터로서 얻어져 실행 길이 데이터를 복호화함으로써 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 묘화점 데이터를 얻을 수 있다.
묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대하여 화상 묘화에서 묘화 대상의 실제 이동 속도 변동을 표시하는 속도 변동 정보를 얻을 수 있고 얻어진 속도 변동 정보에 기초하여 묘화 대상의 실제 이동이 더 느린 묘화 영역만큼 묘화점 데이터의 수를 증가시키도록 소정 간격을 변화시키면서 묘화점 데이터를 얻을 수 있다.
또한, 묘화 대상 상에 소정 위치에 제공된 복수의 기준 마크는 기준 마크의 위치를 표시하는 검출 위치 정보를 얻어 검출될 수 있고, 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보는 얻어진 검출 위치 정보를 기초로 얻어질 수 있다.
또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향으로부터 화상 묘화시 묘화 대상의 실제 이동 방향의 편차에 대한 정보를 얻을 수 있고, 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보는 얻어진 편차 정보를 기초하여 얻어질 수 있다.
또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향으로부터 화상 묘화시 묘화 대상의 실제 이동 방향의 편차에 대한 정보를 얻을 수 있고 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보는 얻어진 편차 정보와 검출 위치 정보를 기초로 얻을 수 있다.
본 발명에 따르면, 묘화점 데이터를 기초로 묘화 대상 상에 묘화점을 형성함으로써 묘화 대상 상에 화상을 묘화하기 위한 제1 묘화 방법이 더 제공되고, 그 제1 묘화 방법은 화상의 원 벡터 형식 화상 데이터를 얻는 단계, 묘화점이 묘화 대상 상에 형성되어야 하는 위치에 대응하는 묘화 데이터 상의 위치 좌표를 얻는 단계, 벡터 형식 화상 데이터 및 위치 좌표를 기초로 묘화점의 묘화점 데이터를 얻는 단계, 및 얻어진 묘화점 데이터를 기초로 묘화 대상 상의 묘화점을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명의 제1 묘화 방법에 있어서, 묘화점 데이터는 위치 좌표 상에 화상 데이터를 기초로 결정된 묘화 영역을 중첩함으로써 좌표가 속하는 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 얻어질 수 있다.
이 경우에서, 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 하여 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상 묘화에 사용될 수 있고, 위치 좌표는 묘화 대상의 소정 위치에서 묘화점 형성 영역의 위치에 대응할 수 있다.
묘화점 데이터는 선을 중첩함으로써 위치 좌표를 포함하는 선을 중첩하는 화상 데이터를 기초로 결정된 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 얻어질 수 있다.
화상 데이터 및 선 교점의 위치에 기초하여 묘화점 데이터가 얻을 수 있다.
묘화점 데이터 취득 방법은 화상 데이터로 표시되거나 또는 화상 데이터에서 구할 수 있는 화상의 윤곽과 선 사이의 교점을 나타내는 교점 배치 데이터를 얻는 단계를 더 포함하고, 묘화점 데이터는 교점 배치 데이터를 기초로 얻어질 수 있는 방법이 사용될 수 있다.
상기 선은 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표를 연결할 수 있다.
상기 선은 시계열 순으로 배치된 복수의 묘화점에 대응하고 복수의 위치 좌표를 연결할 수 있다.
묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 하여 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상 묘화에 사용될 수 있고, 상기 선은 시계열 순으로 배치된 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표에 연결할 수 있다.
묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 하여 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상 묘화에 사용될 수 있고, 선은 묘화 대상 상에 또는 상기 묘화 대상의 화상 공간에 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적에 대응한다.
묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 복수의 묘화점 형성 영역을 포함하는 묘화점 형성 영역군을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역군의 이동과 함께 묘화 대상 상의 묘화점 형성 영역군에 대응하는 묘화점을 순차적으로 형성함으로써 화상 묘화에 사용될 수 있고, 선은 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역군의 묘화점 형성 영역의 한 부분 이상에 결합한 선에 대응할 수 있다.
샘플링 피치에 대한 데이터가 선에 부수될 수 있다.
묘화점 데이터는 묘화 영역 상에 소정 여역을 중첩함으로써 위치 좌표를 포함하는 소정 영역이 묘화 영역을 중첩하는 화상 데이터를 기초로 결정된 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 얻어질 수 있다.
묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 복수의 묘화점 형성 영역을 포함하는 묘화점 형성 영역군을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역군의 이동과 함께 묘화 대상 상의 묘화점 형성 영역군에 대응하는 묘화점을 순차적으로 형성함으로써 화상 묘화에 사용될 수 있고, 소정 영역은 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역군의 적어도 일 부분의 영역에 대응할 수 있다.
본 발명에 따르면, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 하여 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 묘화 대상에 화상을 묘화하기 위한 제2 묘화방법이 더 제공되고, 그 제2 묘화방법은 화상의 본래의 벡터 형식 화상 데이터를 얻는 단계, 묘화 대상 상에 또는 화상 묘화를 위한 상기 묘화 대상의 화상 공간에 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적에 대한 정보를 얻는 단계, 화상 데이터로 표시되거나 또는 화상 데이터로부터 구할 수 있는 화상의 윤곽과 묘화 궤적에 대한 정보에 대응하는 묘화 대상 상의 묘화점 데이터의 묘화 궤적의 교점 배치에 대한 정보를 얻는 단계, 교점 배치에 대한 정보를 기초로 묘화점 데이터의 궤적에 대한 정보에 대응하는 묘화점 데이터를 얻고 얻어진 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역에 의해 묘화 대상 상에 묘화점을 형성하는 단계를 포함한다.
제2 묘화방법에 있어서, 묘화점 궤적은 교점 배치 데이터에 의해 나타낸 교부분 묘화점 궤적으로 구분될 수 있으며, 2진 데이터는 부분 묘화점 궤적이 배치된 순서대로 부분 묘화점 궤적에 교대로 할당될 수 있고 부분 묘화점 궤적에 할당된 2진 데이터는 이동 방향에 대응하는 화상 데이터 상의 주사 방향에서 샘플링되어 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 묘화점 데이터를 얻을 수 있다.
또한, 이동 방향에 대응하는 화상 데이터의 주사 방향에서 교점 배치 데이터의 좌표값을 얻을 수 있고 얻어진 좌표값은 화상 데이터 상의 주사 방향에서 소정 간격의 값으로 나누어 양자화된 값을 얻을 수 있고, 화상 데이터 상의 주사 방향에 인접하는 양자화된 값 사이의 차이는 실행 길이 데이터로서 얻어져 실행 길이 데이터를 복호화함으로써 묘화점 데이터에 대응하는 묘화점 데이터를 얻을 수 있다.
미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대해서 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동의 변동을 나타내는 속도 변동 정보를 얻을 수 있고 얻어진 속도 변동 정보를 기초로 하여 묘화 대상의 실제 이동이 더 느려진 묘화 영역만큼 묘화점 데이터의 수를 증가시키도록 소정 간격을 변화시키면서 묘화점 데이터가 얻어질 수 있다.
또한, 묘화 대상 상의 소정 위치에 제공되는 복수의 기준 마크가 기준 마크의 위치를 표시하는 검출 위치 정보를 얻어 검출될 수 있고, 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보는 얻어진 검출 위치 정보를 기초로 얻어질 수 있다.
또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향으로부터 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동 방향의 편차에 대한 정보를 얻을 수 있고 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보를 얻어진 편차 정보를 기초로 얻을 수 있다.
또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향으로부터 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동 방향의 편차에 대한 정보를 얻을 수 있고 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보를 얻어진 편차 정보 및 상술한 검출 위치 정보에 기초하여 얻을 수 있다.
본 발명에 따르면, 묘화점 데이터를 기초로 묘화 대상 상에 묘화점을 형성함으로써 묘화 대상 상에 화상을 묘화하는데 사용하는 묘화점 데이터를 얻기 위한 제1 장치가 더 제공되고, 그 제1 장치는 묘화점이 묘화 대상 상에 형성되어야 하는 위치에 대응하는 화상 데이터상의 위치 좌표를 얻기 위한 위치 좌표 취득 수단과, 화상의 원 벡터 형식 화상 데이터를 얻고, 얻어진 원 벡터 형식 화상 데이터 및 위치 좌표 취득 수단에 의해 얻어진 위치 좌표를 기초로 묘화점의 묘화점 데이터를 얻기 위한 묘화점 데이터 취득 수단을 포함한다.
본 발명의 묘화점 데이터를 얻기 위한 제1 장치에 있어서, 묘화점 데이터 취득 수단은 위치 좌표 상의 화상 데이터를 기초로 결정된 묘화 영역을 중첩함으로써 좌표가 속하는 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 묘화점 데이터가 얻어지도록 할 수 있다.
이 경우에 있어서, 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 하여 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상 묘화에 사용될 수 있고, 위치 좌표는 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역의 위치에 대응할 수 있다.
묘화점 데이터 취득 수단은 묘화 영역 상에 선을 중첩함으로써 위치 좌표를 포함하는 선이 중첩하는 화상 데이터를 기초로 하여 결정된 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 하여 묘화점 데이터를 얻을 수 있게 한다.
묘화점 데이터 취득 수단은 화상 데이터와 선 교점의 위치를 기초로 묘화점 데이터를 얻을 수 있다.
묘화점 데이터를 얻기 위한 제1 장치는 화상 데이터로 표시되거나 또는 화상 데이터로부터 구할 수 있는 화상의 윤곽과 선 사이의 교점을 나타내는 교점 배치 데이터를 얻기 위한 교점 배치 데이터 취득 수단을 더 포함할 수 있고, 상기 묘화점 데이터 취득 수단은 교점 배치 데이터를 기초로 묘화점 데이터를 얻을 수 있다.
선은 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표에 연결할 수 있다.
선은 시계열적으로 배치된 복수의 묘화점에 대응하여 복수의 위치 좌표에 연결할 수 있다.
묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 하여 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 묘화점을 화상을 묘화하는데 사용하고, 선은 시계열적으로 배치된 복수의 복수의 위치 좌표에 연결할 수 있다.
묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 하여 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 묘화점 데이터가 화상을 묘화하는데 사용될 수 있고, 선은 묘화 대상 상에 또는 상기 묘화 대상의 화상 공간에서 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적에 대응할 수 있다.
묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 복수의 묘화점 형성 영역을 포함하는 묘화점 형성 영역군을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역군의 이동과 함께 묘화 대상 상의 묘화점 형성 영역군에 대응하는 묘화점을 순차적으로 형성함으로써 화상 묘화에 사용될 수 있고, 선은 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역군의 적어도 일 부분의 묘화점 형성 영역을 연결하는 선에 대응할 수 있다.
샘플링 피치에 대한 데이터는 선에 부수될 수 있다.
묘화점 데이터는, 묘화 영역 상에 소정 영역을 중첩함으로써 위치 좌표를 포함하는 소정 영역이 묘화 영역을 중첩하는 화상 데이터를 기초로 결정된 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 얻어질 수 있다.
묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 복수의 묘화점 형성 영역을 포함하는 묘화점 형성 영역군을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역군의 이동과 함께 묘화 대상 상의 묘화점 형성 영역군에 대응하는 묘화점을 순차적으로 형성함으로써 화상 묘화에 사용될 수 있고, 소정 영역은 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역군의 적어도 일 부분의 영역에 대응할 수 있다.
본 발명에 따르면, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 복수의 묘화점 형성 영역을 포함하는 묘화점 형성 영역군을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역군의 이동과 함께 묘화 대상 상의 묘화점 형성 영역군에 대응하는 묘화점을 순차적으로 형성함으로써 묘화 대상 상에 화상을 묘화하는데 사용되는 묘화점 데이터를 얻기 위한 제2 장치가 더 제공되며, 그 제2 장치는 묘화 대상 상 또는 화상 묘화를 위한 상기 묘화 대상의 화상 공간에서 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적에 대한 정보를 얻기 위한 묘화 궤적 정보 취득 수단, 화상의 원 벡터 형식 화상 데이터를 얻고 화상 데이터로 표시되거나 또는 화상 데이터로부터 구할 수 있는 화상의 윤곽과 묘화 궤적에 대한 정보에 대응하는 묘화 대상 상에 묘화점 데이터의 묘화 궤적의 교점 배치 정보를 얻기 위한 교점 배치 데이터 취득 수단과 상기 교점 배치 데이터 취득 수단에 의해 얻어진 교점 배치에 대한 정보를 기초로 묘화 궤적에 대한 정보에 대응하는 묘화점 데이터를 얻기 위한 묘화점 데이터 취득 수단을 포함한다.
묘화점 데이터를 얻기 위한 제2 장치에 있어서, 상기 묘화점 데이터 취득 수단은 묘화점 데이터 궤적을 교점 배치 데이터에 의해 나타낸 교점에 의해 부분 묘화점 궤적으로 구구분 수 있고, 2진 데이터는 부분 묘화점 궤적이 배치된 순서로 부분 묘화점 궤적에 교대로 할당되고 상기 부분 묘화점 궤적에 할당된 2진 데이터는 이동 방향에 대응하는 화상 데이터 상의 주사 방향으로 샘플링되어 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 묘화점 데이터를 얻는다.
또한, 묘화점 데이터 취득 수단은 이동 방향에 대응하는 화상 데이터 상의 주사 방향에서 교점 배치 데이터의 좌표값이 얻어지도록 할 수 있고, 화상 데이터 상의 주사 방향에서 얻어진 좌표값은 소정 간격 값으로 나누어져 화상 데이터 상의 주사 방향에 인접하는 양자화된 값 사이의 차이를 얻을 수 있고, 실행 길이 데이터로서 얻어진 차이는 실행 길이 데이터를 복호화함으로써 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 묘화점을 얻을 수 있다.
미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 관해서 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동의 변동을 표시하는 속도 변동 정보를 얻기 위한 속도 변동 정보 취득 수단이 더 제공될 수 있고, 묘화점 데이터 취득 수단은, 얻어진 속도 변동 정보를 기초로 묘화 대상의 실제 이동이 느려진 묘화 영역만큼 묘화점 데이터의 수가 증가하도록 소정 간격을 변화시키면서 묘화점 데이터를 얻을 수 있다.
또한, 묘화 대상 상의 소정 위치에 제공된 복수의 기준 마크를 검출하고 기준 마크의 위치를 표시하는 검출 위치 정보를 얻기 위한 위치 정보 검출 수단이 더 제공될 수 있고, 묘화 궤적 취득 수단은 위치 정보 검출 수단으로 얻어진 검출 위치 정보를 기초로 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보를 얻을 수 있다.
또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향으로부터 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동 방향의 편차에 대한 정보를 얻기 위한 편차 정보 취득 수단이 더 제공될 수 있고, 묘화점 궤적 정보는 편차 정보 취득 수단에 의해 얻어진 편차 정보를 기초로 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보를 얻을 수 있다. 또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향으로부터 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동 방향의 편차에 대한 정보를 얻기 위한 변차 정보 취득 수단이 더 제공될 수 있고, 묘화점 궤적 정보는 편차 정보 취득 수단에 의해 얻어진 편차 정보 및 위치 정보 검출 수단으로 얻어진 검출 위치 정보를 기초로 점 형성 영역의 궤적에 대한 정보를 얻을 수 있다.
본 발명에 따르면, 묘화점 데이터를 기초로 묘화 대상 상에 묘화점을 형성함으로써 묘화 대상 상에 화상을 묘화하기 위한 제1 묘화 장치가 더 제공되며, 그 제1 묘화 장치는 묘화 대상 상에 묘화점의 위치에 대응하는 원 벡터 형식 화상 데이터 상에 위치 좌표를 얻기 위한 위치 좌표 취득 수단과 화상의 원 벡터 형식 화상 데이터를 얻고 얻어진 원 벡터 형식 화상 데이터 및 위치 좌표 취득 수단에 의해 얻어진 위치 좌표를 기초로 묘화점의 묘화점 데이터를 얻기하기 위한 묘화점 데이터 취득 수단을 포함한다.
본 발명의 제1 묘화 장치에 있어서, 묘화점 데이터 취득 수단은 위치 좌표 상에 화상 데이터를 기초로 결정된 묘화 영역을 중첩함으로써 좌표가 속한 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 묘화점 데이터가 얻어지도록 할 수 있다.
이 경우에 있어서, 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 하여 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상 묘화에 사용될 수 있고, 위치 좌표는 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역의 위치에 대응할 수 있다.
묘화점 데이터 취득 수단은 묘화 영역 상에 선을 중첩함으로써 위치 좌표를 포함하는 선이 중첩하는 화상 데이터를 기초로 결정된 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 묘화점 데이터가 얻어지도록 할 수 있다.
묘화점 데이터 취득 수단은 화상 데이터 및 선 교점의 위치를 기초로 묘화점 데이터를 얻을 수 있다.
제1 묘화 장치는 화상 데이터로 표시되거나 또는 화상 데이터로부터 구할 수 있는 화상의 윤곽과 선 사이의 교점을 나타내는 교점 배치 데이터를 취득하기 위한 교점 배치 데이터 취득 수단을 더 포함할 수 있고, 상기 교점 배치 데이터 취득 수단은 교점 배치 데이터를 기초로 묘화점 데이터를 얻을 수 있다.
선은 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표에 연결할 수 있다.
선은 시계열 순으로 배치된 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표에 연결할 수 있다.
묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 하여 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상 묘화에 사용될 수 있고, 선은 시계열 순으로 배치된 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표에 연결할 수 있다.
묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 하여 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상 묘화에 사용될 수 있고, 선은 묘화 대상 상에 또는 상기 묘화 대상의 화상 공간에서 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적에 대응할 수 있다.
묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 복수의 묘화점 형성 영역을 포함하는 묘화점 형성 영역군을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역군의 이동과 함께 묘화 대상 상의 묘화점 형성 영역군에 대응하는 묘화점을 순차적으로 형성함으로써 화상 묘화에 사용될 수 있고, 선은 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역군의 적어도 일 부분의 묘화점 형성 영역을 연결하는 선에 대응할 수 있다.
샘플링 피치에 대한 데이터가 선에 부수될 수 있다.
묘화점 데이터는 묘화 영역 상에 소정 영역을 중첩함으로써 위치 좌표를 포함하는 소정 영역이 묘화 영역을 중첩하는 화상 데이터를 기초로 결정된 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 얻어질 수 있다.
묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 복수의 묘화점 형성 영역을 포함하는 묘화점 형성 영역군을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역군의 이동과 함께 묘화 대상 상의 묘화점 형성 영역군에 대응하는 묘화점을 순차적으로 형성함으로써 화상 묘화에 사용될 수 있고, 소정 영역은 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 적어도 일 부분의 묘화점 형성 영역군에 대응할 수 있다.
본 발명에 따르면, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 하여 형성되는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 하여 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 묘화 대상 상에 화상을 묘화하기 위한 제2 묘화 장치가 더 제공되며, 제2 묘화 장치는 묘화 대상 상에 또는 화상 묘화를 위한 상기 묘화 대상의 화상 공간에서 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적에 대한 정보를 얻기 위한 묘화 궤적 정보 취득 수단, 화상을 표시하는 벡터 형식 화상 데이터을 얻고 묘화 궤적에 대한 정보에 대응하는 묘화 대상 상에 묘화점 데이터의 묘화 궤적과 화상 데이터로 표시되거나 또는 화상 데이터로부터 구할 수 있는 화상의 윤곽의 교점의 배치에 대한 정보를 얻는 교점 배치 데이터 취득 수단 및 상기 교점 배치 데이터 취득 수단에 의해 얻어진 교점 배치 정보를 기초로 묘화 궤적에 대한 정보에 대응하는 묘화점 데이터를 얻는 묘화점 데이터 취득 수단을 포함한다.
제2 묘화 장치에 있어서, 묘화점 데이터 취득 수단은 묘화점 데이터 궤적을 교점 배치 데이터에 의해 나타낸 교점에 의해 부분 묘화점 궤적으로 구분을 야기할 수 있고, 2진 데이터는 부분 묘화점 궤적이 배치된 순서로 부분 묘화점 궤적에 교대로 할당되고 부분 묘화점 궤적에 할당된 2진 데이터는 이동 방향에 대응하는 화상 데이터 상의 주사 방향에서 샘플링되어 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 묘화점 데이터를 얻는다.
또한, 묘화점 데이터 취득 수단은 이동 방향에 대응하는 화상 데이터 상의 주사 방향에서 교점 배치 데이터의 좌표값이 얻어지도록 할 수 있고, 화상 데이터 상의 주사 방향으로 얻어진 좌표값이 소정 간극의 값으로 나누어져 화상 데이터 상에 주사 방향에 인접한 양자화된 값들 사이의 차이를 얻고, 실행 길이 데이터로서 얻어진 차이는 실행 길이 데이터를 복호화함으로써 묘화점 데이터에 대응하는 묘화점 데이터를 얻을 수 있다.
미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대해서 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동의 변동을 표시하는 속도 변동의 정보를 얻기 위한 속도 변동 정보 취득 수단이 더 제공될 수 있고, 묘화점 데이터 취득 수단은 얻어진 속도 변동 정보를 기초로 묘화 대상의 실제 이동이 더 느려진 묘화 영역만큼 묘화점 데이터의 수가 증가하도록 소정 간격을 변화시키면서 묘화점 데이터를 얻을 수 있다.
또한, 묘화 대상 상의 소정 위치에 제공되는 복수의 기준 마크를 검출하고 기준 마크의 위치를 표시하는 검출 위치 정보를 얻는 위치 정보 검출 수단이 더 제공될 수 있고, 묘화 궤적 취득 수단은 위치 정보 취득 수단에 의해 얻어진 검출 위치 정보를 기초로 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보를 얻을 수 있다.
또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향으로부터 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동 방향의 편차에 대한 정보를 얻는 편차 정보 취득 수단이 더 제공될 수 있고, 묘화점 궤적 정보는 편차 정보 취득 수단에 의해 얻어진 편차 정보를 기초로 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보를 얻을 수 있다. 또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향으로부터 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동 방향의 편차에 대한 정보를 얻는 편차 정보 취득 수단이 더 제공될 수 있고, 묘화점 궤적 정보는 편차 정보 취득 수단에 의해 얻어진 편차 정보 및 위치 정보 검출 수단에 의해 얻어진 검출 위치 정보에 기초하여 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보를 얻을 수 있다.
여기서 사용된 "점 형성 영역"은 묘화 대상 상에 점 형성 영역을 형성하는 한 여하한 수단에 의해서도 형성될 수 있다. 예를 들면, 묘화점은 DMD 등 공간광 변조기의 변조 소자에 의해 반사된 라이트 빔에 의해서 또는 광원 또는 잉크 젯 프린터의 노즐에서 토출되는 잉크에 의해서 발산되는 라이트 빔에 의해서 형성될 수 있다.
또한, "교점 배치 데이터로 나타낸 교점에 의해서 묘화점 데이터 궤적을 부분 묘화점 궤적으로 구분하는"이란 표현은 "교점 배치 데이터에 의해서 나타내는 모든 교점에 의해 묘화점 데이터 궤적을 부분 묘화점 궤적으로 구분하는 것"을 의미할 수 있고, 또는 예를 들면 두 개의 화상이 서로 중첩하고 두 개의 화상 중의 하나의 일 부분이 다른 화상의 내측에 존재하는 경우, 내측 화상의 윤곽과 묘화점 데이터의 궤적 사이의 교점은 부분 묘화점 궤적을 얻는 경우 그 부분에 존재하지 않는 것으로 간주될 수 있다.
또한, "0" 데이터와 "1" 데이터는 "2진 데이터"로서 사용될 수 있다. 또한, 2진 된 데이터의 다른 형태로 사용될 수 있다.
본 발명에 있어서, 묘화점 데이터는 다가화된 정보를 사용함으로써 2진 데이터 외에 예를 들면, 벡터 형식 화상 데이터가 다가화된 정보를 갖는 경우 다가화된 테이터로서 얻어질 수 있다.
본 발명의 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치와 본 발명의 묘화를 위한 방법 및 장치에 따르면, 화상의 원 벡터 형식 화상 데이터가 얻어지고 묘화점이 상기 벡터 형식 화상 데이터로부터 직접적으로 얻어지기 때문에, 묘화점 데이터는 종래와 마찬가지로 벡터 형식 화상 데이터에서 래스터 형식 화상 데이터로 변환하지 않고 벡터 형식 화상 데이터로부터 직접적으로 얻어짐으로써, 처리 속도의 악화 또는 비용 증가 없이 화상 묘화에서 정도가 향상될 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1 내지 제4 실시형태를 사용하는 노광 장치의 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 노광 장치의 스캐너의 사시도이다.
도 3a는 기판의 노광면 상의 노광된 영역을 도시한 평면도이다.
도 3b는 각 노광 헤드에 의해 노광된 영역의 배치를 도시한 평면도이다.
도 4는 도 1에 도시된 노광 장치의 노광 헤드에 있어서 DMD를 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시형태를 사용하는 노광 장치의 전기 장치를 도시한 블록도이다.
도 6a는 벡터 형식의 노광된 화상 데이터에 의해 표시되는 노광된 화상의 예를 도시한 도면이다.
도 6b는 도 6a에 도시된 노광된 화상의 노광된 화상 데이터를 기초로 생성된 중간 벡터 데이터에 의해 표시되는 벡터를 도시한 도면이다.
도 7은 노광된 화상이 서로 중첩하는 경우 중간 벡터 데이터 생성 방법을 설명한 도면이다.
도 8은 최적 형상의 기판 상에 기준 마크 및 소정 마이크로 미러의 통과 위 치에 대한 정보 사이의 관계를 도시한 모식도이다.
도 9는 마이크로 미러의 노광 궤적에 대한 정보의 취득을 설명하는 도면이다.
도 10은 마이크로 미러의 노광 궤적에 대한 정보를 기초로 노광점 데이터 궤적의 취득을 설명하는 도면이다.
도 11은 노광점 데이터 궤적 및 중간 벡터 데이터로부터 교점 배치 데이터 취득을 설명하는 도이다.
도 12는 중간 벡터 데이터에 의해 표시되는 벡터가 선분인 경우 교점 배치 데이터의 산출 방법을 설명하기 위한 플로차트이다.
도 13은 중간 벡터 데이터에 의해 표시되는 벡터가 원호인 경우 교점 배치 데이터의 산출 방법을 설명하는 플로차트이다.
도 14는 중간 벡터 데이터에 의해 표시되는 벡터가 원호인 경우 교점 배치 데이터의 산출 방법을 설명하는 도면이다.
도 15는 교점 배치 데이터를 기초로 마이크로 미러의 노광점 데이터 취득을 설명하는 도면이다.
도 16은 각 마이크로 미러의 노광점 데이터열을 설명하는 도면이다.
도 17은 프레임 데이터를 도시한 도면이다.
도 18은 교점 배치 데이터를 기초로 마이크로 미러의 노광점 데이터를 취득하는 다른 방법을 도시한 도면이다.
도 19는 기판의 신축에 따른 노광점 데이터 취득 방법을 설명하는 도면이다.
도 20은 본 발명의 제2 실시형태를 사용하는 노광 장치의 전기 장치를 도시한 블록도이다.
도 21은 이동 스테이지의 이동 방향으로부터 편차를 설명한 도면이다.
도 22는 마이크로 미러의 노광 궤적를 도시한 도면이다.
도 23은 노광점 및 중간 벡터 데이터로부터 교점 배치를 취득하는 방법을 설명하는 도면이다.
도 24는 본 발명의 제3 실시형태를 사용하는 노광 장치의 전기 장치를 도시한 블록도이다.
도 25는 마이크로 미러의 노광 궤적에 대한 정보를 기초로 노광점 데이터 궤적을 취득하는 방법을 설명하는 도면이다.
도 26은 본 발명의 제4 실시형태를 사용하는 노광 장치의 전기 장치를 도시한 블록도이다.
도 27은 마이크로 미러의 노광 궤적 및 마이크로 미러의 노광 타이밍을 도시한 도면이다.
도 28은 본 발명의 제1 내지 제4 실시형태 모두를 사용하는 노광 장치를 설명하는 플로차트의 일부분이다.
도 29는 본 발명의 제1 내지 제4 실시형태 모두를 사용하는 노광 장치를 설명하는 플로차트의 다른 일 부분이다.
도 30a는 종래 노광 장치에 의해 노광된 화상을 도시한 모식도이다.
도 30b는 본 발명의 일 실시형태를 사용한 노광 장치에 의해 노광된 화상을 도시한 모식도이다.
도 31은 중간 벡터 데이터 생성 없이 교점 좌표를 취득하는 방법을 설명한 도면이다.
도 32는 노광점 데이터의 취득 방법의 다른 실시예를 설명하는 도면이다.
도 33은 노광점 데이터의 취득 방법의 또 다른 실시예를 설명하는 도면이다.
도 34는 노광점 데이터의 취득 방법의 또 다른 실시예를 설명하는 도면이다.
도 35는 노광점 데이터의 취득 방법의 또 다른 실시예를 설명하는 도면이다.
도 36은 노광점 데이터의 취득 방법의 또 다른 실시예를 설명하는 도면이다.
도 37은 노광점 데이터의 취득 방법의 또 다른 실시예를 설명하는 도면이다.
도 38은 노광점 데이터의 취득 방법의 또 다른 실시예를 설명하는 도면이다.
도 39는 노광점 데이터의 취득 방법의 또 다른 실시예를 설명하는 도면이다.
도 40a 및 40b는 노광점 데이터의 취득 방법의 다른 실시예를 설명하는 도면이다.
도 41은 변형된 윤곽 벡터를 도시한 것이다.
이하, 본 발명의 화상 데이터 취득 방법 및 장치의 제1 실시형태를 사용하는 노광 장치와 본 발명의 화상 형성 방법 및 장치를 도면을 참조하여 설명한다. 도 1은 본 발명의 제1 실시형태를 사용하는 노광 장치를 간단하게 도시한 사시도이다. 노광 장치는 다층 프린트 배선판의 각 층의 배선 패턴을 노광하기 위한 것으로 다층 프린트 배선판의 각 층의 배선 패턴 노광용 노광점 데이터 취득 방법으로 특징 져진다. 노광 장치의 구조를 먼저 간단히 설명한다.
도 1에서, 노광 장치(10)는 유리 기판(12)을 그 표면에 흡착시켜서 유리 기판(12)을 보유하고 있는 평판상의 이동 스테이지(14)를 구비하고 있다. 두꺼운 평판상 설치대(18)는 네 개의 각부(16)로 지지되고 한 쌍의 가이드(20)가 설치대(18)의 상면 상에 이동 스테이지(14)의 이동 방향으로 뻗어 있다. 이동 스테이지(14)는 그 길이방향이 이동 스테이지(14)의 이동 방향을 향하여 가이드(20)를 따라 왕복으로 이동할 수 있도록 배치된다.
실질적으로 U자형 게이트(22)가 설치대(18)의 중앙에서 이동 스테이지(14)의 이동 경로를 걸쳐서 뻗어있다. 게이트(22)의 반대 선단들은 각각 설치대(18)의 측면에 고정된다. 게이트(22)의 일측 상에 스캐너(24)가 설치되어 있고, 게이트(22)의 다른 일측 상에 유리 기판(12)의 선단 및 후단과 기판(12) 상에 있는 복수의 원형 기준 마크(12a)를 검지하기 위한 복수의 카메라(26)가 설치되어 있다.
기판(12) 상의 기준 마크(12a)는 예를 들면, 기준 마크의 위치에 대한 미리 설정된 정보를 기초로 미리 기판(12)상에 형성된 구멍이다. 랜드 또는 에칭 표시는 구멍 대신에 사용될 수 있다. 또한, 예를 들면, 기판(12) 상에 노광되는 배선 패턴의 일부가 기준 마크(12a)로서 사용될 수 있다. 도 1에는 오직 6개의 기준 마크(12a)가 도시되어 있지만, 실제로 더 많은 기준 마크(12a)가 형성되어 있다. 또는 기판(12)의 에지를 검출하여 기준 마크(12a)로서 사용할 수 있다.
스캐너(24) 및 카메라(26)는 게이트(22) 상에 탑재되어 이동 스테이지(14)의 이동 경로 상방에 고정적으로 위치되고, 스캐너(24) 및 카메라(26)의 제어를 위해 콘트롤러(후술할 것임)에 연결된다.
도 2 및 3b에 도시된 바와 같이, 스캐너(24)는 실질적으로 2행×5열의 매트릭스에 배치된 10개의 노광 헤드(30)(30A~30J)를 구비하고 있다.
도 4에 도시된 바와 같이, 그 위에 입사하는 라이트 빔의 공간 변조를 위한 공간 변조 소자(SLM)인 디지탈 마이크로 미러 장치(DMD)(36)가 각 노광 헤드(30)의 내부에 배치된다. DMD(36)는 마이크로 미러(38)가 직교하는 방향에 2차원으로 배치된 복수의 마이크로 미러(38)를 갖고 있으며, 마이크로 미러(38)의 행이 주사 방향과 소정 설정 경사각θ가 되도록 탑재되어 있다. 이 배치로, 각 노광 헤드(30)에 의한 노광 영역(32)은 주사 방향에 대해서 경사진 직사각형 영역이 된다. 따라서, 이동 스테이지(14)의 이동에 수반하여 띠상의 노광 영역(34)은 각 노광 헤드(30)에 대한 기판(12) 상에 형성된다. 라이트 빔이 각 노광 헤드(30)에 입사하도록 하는 노광원은 도시하지 않았으나 예를 들면 레이저가 사용될 수 있다.
각 노광 헤드(30)의 DMD(36)는 마이크로 미러(38) 단위를 기초로 on/off 되어 DMD(36)의 마이크로 미러(38)에 대응하는 도트 패턴(흑/백)은 기판(12) 상에 노광된다. 띠상 노광 영역(34)은 도 4에 도시된 마이크로 미러(38)에 대응하는 2차원 배치 도트에 의해 형성된다. 2차원으로 배치된 도트 패턴은 주사 방향에 대하여 경사져 있기 때문에, 주사 방향으로 배치된 도트는 주사 방향과 교차하는 방향으로 배치된 도트들 사이를 통과함으로써 고해상도가 실현될 수 있다. 사용되지 않는 도트는 경사각 조정의 변동에 기인하여 존재할 수 있다. 예를 들면 도 4에서 사선을 새긴 도트는 사용되지 않고 도트에 대응하는 DMD(36)의 미러(38)는 항상 오프상태 이다.
도 3a 및 3b에 도시된 바와 같이, 각 선에서 노광 헤드(30)는, 각 띠상 노광된 영역(34) 각각이 그들 인접부와 부분적으로 중첩하도록 배치 방향으로 소정 거리만큼 이동된다. 따라서, 예를 들면 첫 행에서 극좌 노광 영역(32a)과 첫 행에서 다음 극좌 노광 영역(32c) 사이의 다른 노광 영역으로 노광될 수 없는 영역이 두 번째 행에서 극좌 노광 영역(32b)에 의해서 노광된다. 동일하게 노광 영역(32b)과 노광 영역(32b)에 인접한 노광 영역(32d) 사이의 다른 노광 영역으로 노광될 수 없는 영역이 노광 영역(32c)에 의해서 노광된다.
다음으로 노광 장치(10)의 전기적 구성을 설명한다.
도 5에 도시된 바와 같이, 노광 장치(10)는 CAM(computer aided manufacturing) 스테이션을 갖는 데이터 작성 장치(40)로부터 출력되어 노광되는 노광 화상을 표시하는 벡터의 형식으로 데이터를 얻어 중간 벡터 데이터를 발생하는 중간 벡터 생성 수단(50), 카메라(26)에 의해 얻은 기준 마크(12a)의 화상을 기초로 기준 마크(12a)의 위치에 대한 정보를 얻는 검출 위치 정보 취득 수단(52), 검출 위치 정보 취득 수단(56)에 의해 얻은 위치에 대한 정보를 기초로 실제 노광 시 기판(12) 상에 마이크로 미러(38) 각각의 노광 궤적에 대한 정보를 얻는 노광 궤적 정보 취득 수단(54), 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 의해 얻은 마이크로 미러(38) 각각의 노광 궤적에 대한 정보 및 중간 벡터 생성 수단(50)으로부터 중간 벡터 데이터 출력에 대응하는 중간 벡터 데이터 상에 묘화점 데이터의 궤적과 중간 벡터 데이터에 의해 표시되는 벡터의 교점 배치 정보를 산출하는 교점 배치 데이터 산출 수단(56), 교점 배치 데이터 산출 수단(56)에 의해 얻어진 교점 배치에 대한 정보를 기초로 마이크로 미러(38) 각각의 노광점 데이터 궤적에 대응하는 노광점 데이터를 얻는 노광점 데이터 취득 수단(58), 노광점 데이터 취득 수단(58)에 의해 얻은 노광점 데이터를 기초로 노광 헤드(30) 각각의 마이크로 미러(38) 각각을 제어하는 노광 헤드 제어부(59), 스테이지 이동 방향으로 이동 스테이지(14)를 이동시키는 이동 기구(60) 및 본 실시형태의 전체 장치를 제어하는 콘트롤러(70)를 포함한다. 이동 기구(60)는 가이드(20)를 따라서 왕복으로 이동 스테이지(14)를 이동시키는 한 공지의 여하한 기구를 사용할 수 있다. 중간 벡터 데이터, 노광점 데이터, 교점 배치 데이터 및 상술한 요소는 이후 구체적으로 설명한다.
이하, 노광 장치(10)의 작동을 도면을 참조하여 설명한다.
데이터 작성 장치(40)에 있어서, 기판(12) 상에 노광되는 노광 화상의 원 벡터 형식 화상 데이터가 먼저 작성되고 중간 벡터 생성 수단(50)에 출력된다. 중간 벡터 생성 수단(50)은 입력 벡터 형식 화상 데이터를 기초로 중간 벡터 데이터를 생성한다. "중간 벡터 데이터"는 벡터 형식으로 노출된 화상의 윤곽이 벡터 형식으로 표현된 데이터이다. 도 6a는 벡터 형식 화상 데이터에서 표현된 화상의 예를 도시하고, 도 6b는 도 6a에서 도시된 화상의 화상 데이터를 기초로 생성된 중간 벡터 데이터로 표시되는 벡터를 도시한다. 도 6a에서 사선 부분은 화상 데이터로 표시되는 화상이고 도 6b에서 화살표로 나타내는 부분은 중간 벡터 데이터에 의해 표시되는 벡터이다. 본 명세서에서, "벡터"란 직선으로 표현되는 벡터뿐만 아니라 도 6b에서 도시된 바와 같이 곡선으로 표현되는 것도 포함한다. 중간 벡터 데이터 생성 방법에 대해서, 예를 들면, 벡터 형식 화상 데이터가 영역 벡터 데이터인 경우, 중간 벡터 데이터는 영역 벡터 데이터에 있어서 화상의 윤곽을 표시하는 데이터의 사용에 의해 생성될 수 있다. 또한, 벡터 형식 화상 데이터가 선분의 방향을 나타내는 데이터와 선분의 두께를 나타내는 데이터를 포함하는 경우, 입력 벡터 형식 화상 데이터는 선분의 두께를 나타내는 데이터를 기초로 영역 벡터 형식 데이터로 변환될 수 있고 중간 벡터 데이터는 영역 벡터 데이터의 화상 윤곽을 표시하는 데이터를 사용하여 생성될 수 있다.
중간 벡터 데이터를 형성하는 동안 윤곽을 표시하는 벡터는 경계로서 지정될 수 있음을 주의한다. 다음으로 경계의 일측이 on 또는 off인지 여부를 나타내는 데이터는 중간 벡터 데이터에 부가될 수 있다. 예를 들면, Y가 증가하는 방향이 on 또는 off인지(벡터가 Y방향으로 평행한 경우는 X가 증가하는 방향이 on 또는 off인 경우) 나타내는 데이터가 부가될 수 있다. 또는 시점부터 종점까지 윤곽 벡터는 우측이 on으로 지정되고 좌측이 off로서 지정되도록 생성될 수 있다. 이러한 식으로 중간 벡터 데이터를 형성함으로써 후술하는 노광점 데이터를 취득하는 동안 on/off 값의 할당이 용이하게 된다.
본 실시형태에 있어서, 도 6a에서 도시된 바와 같이 두 개의 화상이 서로 중첩하도록 배치된 경우, 두 개의 화상이 통합되어 단일 윤곽에 의해 표시되는 화상을 형성하고 그 단일 화상의 중간 벡터 데이터가 도 6b 및 7에 도시된 바와 같이 생성된다. 그러나, 이 형태에 한정되지 않고 각각의 중간 벡터 데이터가 서로 중첩한 두 개의 화상에 대하여 생성될 수 있다.
이렇게 생성된 중간 벡터 데이터는 중간 벡터 생성 수단으로부터 교점 배치 데이터 산출 수단(56)에 출력된다.
중간 벡터 데이터가 이렇게 생산되면서, 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)의 마이크로 미러(38) 각각을 실제 노광할 때 기판(12) 상에 노광 궤적에 대한 정보가 얻어진다. 다층 기판이 형성되는 경우, 상층의 패턴이 하층의 패턴과 조화되도록 묘화할 필요가 있음을 주의한다. 이 경우에 있어서, 기판 상부에 화상 공간 내에 노광 궤적이 규정된다.
구체적으로는, 콘트롤러(70)는 이동 기구(60)에 제어신호를 출력하고, 이동 기구(60)는 도 1에 도시된 위치로부터 가이드(20)를 따라서 상류측으로 이동 스테이지(14)를 일단 이동시킨 후 제어 신호에 응하여 희망하는 속도로 이동 스테이지(14)의 이동 방향으로 이동시킨다.
상기 방식으로 이동하는 이동 스테이지(14) 상에 기판(12)이 복수의 카메라(26) 아래를 통과하는 경우, 카메라(26)는 기판(12)의 화상을 촬영하고 카메라(26)로 촬영된 화상을 표시하는 화상 데이터를 검출 위치 정보 취득 수단(52)에 입력한다. 검출 위치 정보 취득 수단(52)은 입력 화상 데이터를 기초로 기판(12) 상에 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보를 표시하는 검출 위치 정보를 얻는다. 예를 들면, 원형 화상을 추출함으로써 얻어질 수도 있지만, 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보는 여하한 공지의 방법으로 검출될 수 있다. 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보는 구체적으로는 원점이 기판(12)의 화상 데이터에 의해 표시되는 4개의 각 중의 하나의 각이거나, 화상 데이터의 소정 위치 또는 기준 마크(12a) 중 하나의 위치 좌표값으로서 얻어진다. 검출 위치 정보 및 기준 마크(12a)의 위치 정보는 좌표계에서 서로 합치하는 것으로 추측된다. 본 실시형태에서 카메라(26) 및 검출 위치 정보 취득 수단(54)은 위치 정보 검출 수단을 구성한다.
이렇게 얻어진 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보는 검출 위치 정보 취득 수단(52)으로부터 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 출력된다.
노광 궤적 정보 취득부(54)에 있어서, 실제 노광 시 기판(12) 상에 마이크로 미러(38) 각각으로부터 노광의 궤적에 대한 정보가 입력 검출 위치 정보를 기초로 얻어진다. 구체적으로, 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)의 마이크로 미러(38) 각각의 화상이 통과하는 위치를 표시하는 통과 위치 정보는 노광 궤적 정보 취득부(54)의 마이크로 미러(38) 각각에 대하여 미리 설정되어 있다. 통과 위치 정보는 이동 스테이지(14) 상에 기판(12)의 설치 위치에 관해서 각 노광 헤드(30)의 위치에 따라 미리 설정되어 있고 복수의 벡터 또는 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보 및 위치 정보로서 동일한 위치상에 원점을 갖는 복수의 점들의 좌표값으로 표시된다. 또한, 통과 위치 정보의 좌표계는 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보 및 위치 정보의 좌표계와 동일하다. 도 8은 프레스 공정 등을 거치치 않은, 즉 기판(12)의 변형품으로서 변형의 발생이 없고 기준 마크(12a)가 미리 설정된 기준 마크 위치 정보(12b)에 의해 나타내는 위치에 정확하게 위치되도록 하는 이상적인 형상의 기판(12)과 소정 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보(12c) 사이의 관계를 나타낸다. 통과 위치 정보(12c)는 기판(12) 상에 빔 점(beam spot)의 위치를 측정한 결과를 기초로 얻어질 수 있다.
노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 있어서, 주사 방향에 직교하는 방향으로 서로 인접한 검출 위치 정보(12d)의 직선 결합의 교점의 좌표값과 각 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보(12c)로 표시되는 직선은 도 9에 도시된 바와 같이 얻어진다. 즉, 도 9에서 x 표시가 부착된 점 좌표값이 얻어지고 x표시가 부착된 점과 직교하는 방향으로 인접하는 검출 위치 정보(12d) 사이의 거리가 얻어지고, x 표시가 부착된 점과 수직 방향으로 인접하는 검출 위치 정보(12d) 사이의 거리 및 x표시가 부착된 점과 다른 검출 위치 정보(12d) 사이의 거리의 비가 얻어진다. 구체적으로는, 도 9에서 a1:b1, a2:b2, a3:b3 및 a4:b4가 노광 궤적 정보로서 얻어진다. 상기 방식으로 얻어진 비는 변형 후 기판(12) 상의 마이크로 미러(38)의 노광 궤적을 표시한다. 즉, 상기 방식으로 얻어진 비는 실제 노광에 대해서 기판(12) 상에 마이크로 미러(38)의 노광 궤적(기판(12)의 화상 공간 내의 노광 궤적)을 표시한다.
마이크로 미러(38) 각각에 대해서 이렇게 얻어진 노광 궤적 정보는 교점 배치 데이터 산출 수단(56)에 입력된다.
교점 배치 데이터 산출 수단(56)에 있어서, 도 10에 도시된 바와 같은 중간 벡터 데이터의 좌표계가 미리 설정되어 있다. 중간 벡터 데이터의 좌표계는 또한 화상 데이터의 좌표계이고 기준 마크(12a)의 위치 정보, 검출 위치 정보 및 통과 위치 정보의 좌표계 모두에 일치한다. 도 10에 도시된 바와 같이, 화상 데이터 기준 위치 정보(12e)는 기준 마크 위치 정보(12b)에 의해 나타낸 위치에 대응하는 위치에 배치된다. 교점 배치 데이터 산출 수단(56)에 있어서, 상기와 같이 얻어진 노광 궤적 정보로 나타낸 비에 의해 주사 방향에 직교하는 방향으로 서로 인접하는 화상 데이터 기준 위치 정보(12e)의 직선 결합을 분할하는 점의 좌표값이 구해진다. 즉, 하기의 식을 만족하는 점의 좌표값이 얻어진다.
a1:b1=A1:B1
a2:b2=A2:B2
a3:b3=A3:B3
a4:b4=A4:B4.
그래서 상기 방식으로 얻어진 분할점을 연결하는 직선이 얻어진다. 직선은 실제 노광 시 기판(12) 상의 마이크로 미러(38)의 노광 데이터 궤적에 대응하는 화상 데이터에 대한 노광점 데이터 궤적을 나타낸다.
노광점 데이터 궤적은 노광점 궤적 정보에 의해 나타낸 비를 기초로 얻어진 분할점을 연결하는 직선이거나 또는 예를 들면 스플라인 보간에 의해 분할점을 연결하는 곡선일 수 있다. 스플라인 보간 등에 의한 곡선과 분할점의 연결의 경우, 기판(12)의 변형에 더욱 충실한 노광점 데이터 궤적이 얻어질 수 있다.
그래서, 도 11에 도시된 바와 같이 상기 방식으로 얻어진 노광점 데이터 궤적과 중간 벡터 데이터는 동일한 좌표계에 플롯되고, 중간 벡터 데이터에 의해 표시되는 벡터와 노광점의 교점의 배치 정보가 얻어진다. 여기서 교점 배치에 대한 정보란 교점의 좌표를 의미한다. 즉, 도 11에서 교점 A~F의 좌표가 얻어진다. 도 11에서 교점 A~F에 의해 구분되는 노광점 데이터 궤적은 부분 묘화점 데이터 궤적이다.
교점 배치 데이터 산출 방법은 이하에서 구체적으로 설명한다. 예를 들면 중 간 벡터 데이터에 의해 표시되는 벡터는 하기 식(1)에 의해 표시되는 선분이고 노광점 데이터 궤적은 하기 식(2)에 의해 표시되는 선분이다. 이 경우 교점 배치 데이터 산출 방법은 도 12에 도시된 플로차트를 참조하여 설명한다.
x=a1y+b1, xs1≤x≤xe1, ys1≤y≤ye1…⑴
x=a2y+b2, xs2≤x≤xe2, ys2≤y≤ye2…⑵
도 12의 플로차트에 도시된 바와 같이, 식(1)의 a1과 식(2)의 a2는 서로 비교되는데, 즉 선분의 경사가 서로 비교된다(단계 S10). 식(1)의 a1과 식(2)의 a2가 서로 동일한 경우, 교점이 없기 때문에 연산이 종료된다(단계 S12). 단계 S10에서 식(1)의 a1과 식(2)의 a2가 서로 같지 않다고 결정된 경우, 교점의 산출이 실시된다(단계 S14). 구체적으로는 교점의 x 좌표와 y 좌표가 하기에 따라 산출된다.
a1y+b1=a2y+b2이기 때문에
y=(b2-b1)/(a1-a2)
x=a1y+b1
그래서 교점이 노광점 궤적 상에 존재하는지 여부는 상기 방식으로 얻어진 y 좌표값과 ys2 및 ye2를 비교함으로써 결정된다(단계 S16). ys2<y≤ye2를 만족하지 않는 경우에는 교점이 없는 것으로 결정되고 연산은 종료된다(단계 S12). 반면 ys2<y≤ye2을 만족하는 경우, 중간 벡터 데이터에 의해 표시되는 벡터가 x 축과 평행한지 여부를 ys1 ye1이 동일한지 여부를 확인함으로써 확인된다(단계 S18). 벡터가 x축에 평행하지 않는 경우, 상기 방식으로 얻어진 교점이 중간 벡터 데이터에 의해 표시되는 벡터에 존재하는지 여부는 Y 좌표값과 ys1 및 ye1을 비교하여 확인된다(단계 S20). ys1<y≤ye1을 만족하지 않는 경우, 교점이 없는 것으로 결정되고 연산이 종료된다(단계 S12). ys1<y≤ye1을 만족하는 경우, 교점이 있는 것으로 결정되고 상기와 같은 방식으로 얻어진 x 좌표값과 y 좌표값을 얻는다. 반면 단계 S18에서 중간 벡터 데이터에 의해 표시되는 벡터가 x축에 평행한 것으로 결정되는 경우, 상기 방식으로 얻어진 교점이 중간 벡터 데이터에 의해 표시되는 벡터 상에 존재하는지 여부를 x 좌표값과 xs1 및 xe1을 비교함으로써 확인된다(단계 S22). xs1<x≤xe1을 만족하지 않는 경우, 교점이 없는 것으로 결정되고 연산이 종료된다(단계 S24). xs1<x≤xe1을 만족하는 경우, 교점이 있는 것으로 결정되고 상기 방식으로 얻어진 x 좌표와 y 좌표가 얻어진다.
중간 벡터 데이터로 표시되는 벡터는 하기 식(3)으로 표시되는 곡선(원호)이고 노광점 데이터 궤적은 하기 식(4)으로 표시되는 선분이다. 이 경우 교점 배치 데이터 산출 방법은 도 13에 도시된 플로차트를 참조하여 설명한다.
(x-a1)2+(y-b1)2=c2…⑶
x=a2y+b2, xs≤x≤xe, ys≤y≤ye…⑷
도 13에 도시된 플로차트에 도시된 바와 같이, 이들 선분의 교점이 상기 식(3)과 상기 식(4)을 기초로 먼저 산출된다(단계 S30). 여기서 식(3)과 (4)이 원의 중심에 원점을 갖는 다음 식(5)과 (6)으로 변환된 후, 이들 선분의 교점(X,Y)가 산출된다. X=x-a1, Y=y-b1일 경우, 상기 식(3)은 x2+y2=c2…⑸로 변화될 수 있고, 상기 식(4)는 X=a2Y+d, d=b2+a2b1-a1, xs-a1≤X≤xe-a1, ys-b1≤Y≤ye-b1…⑹으로 변환될 수 있다.
상기 식(5)과 (6)에 의해 얻어진 교점의 수가 0 또는 1인 경우, 교점이 없는 것으로 결정되어 연산이 종료된다(단계 S34). 여기서 접점은 교점으로 세지 않는다. 교점의 수가 2 이상인 경우, 상기 방식으로 얻어진 교점이 노광점 데이터 궤적상에 존재하는지 여부를 y 좌표값과 (ys-b1) 및 (ye-b1)을 비교하여 확인한다(단계 S36). ys-b1<y≤ye-b1을 만족하지 않는 경우, 교점이 없는 것으로 결정되고 연산은 종료된다(단계 S34). ys-b1<y≤ye-b1을 만족하는 경우, 교점이 있는 것으로 결정되고 상기 방식으로 얻어진 교점이 상기 식(5)으로 표시되는 원의 원호에 존재하는지 여부를 y 좌표값과 ysn 및 yen과 비교함으로써 확인한다. n은 1 이상의 자연수를 나타낸다. ysn 및 yen은 원호가 도 14에 도시된 바와 같이 4분원으로 분할된 경우 4분원에서 각 원호의 y 좌표값의 범위를 나타낸다. ysn<y≤yen을 만족하지 않는 경우, 교점이 없는 것으로 결정되어 연산이 종료된다(단계 S34). 반면 ysn<y≤yen을 만족 하는 경우, 교점이 상기 식(5)으로 표시되는 원의 원호 상에 존재하는 것으로 결정된다(단계 S40). 반면 단계 S38에 있어서 교점이 있는 것으로 결정되는 경우, 교점의 y 좌표값은 하기 식(7)을 계산함으로써 y 좌표를 원래의 좌표계로 되돌림으로써 얻어진다(단계 S42).
y=Y+b…⑺
그래서 교점 A~F의 y 좌표는 노광점 데이터 취득 수단(58)에 출력되고, 노광점 데이터 취득 수단(58)에 있어서 각 마이크로 미러(38)의 노광점 데이터열이 입력된 교점의 y 좌표를 기초로 얻어진다. 구체적으로는, 노광점 데이터 취득 수단(58)은 교점 A~F의 y 좌표를 플롯하고 2진 노광점 데이터를 도 15에 도시된 바와 같이 플롯된 y 좌표를 기초로 실질적으로 할당한다. 도 15에서 y 좌표값(-1)은 마이크로 미러(38)의 초기 위치에 대응하는 y 위치 좌표이다.
또한, y 좌표에서 -1 내지 10 사이의 공간은 도 15에 도시된 바와 같이 0.5 피치에서 구분되어 0.5피치에서 y 좌표의 -1~10 사이의 2진 화상 데이터를 샘플링하여 도 15에 도시된 바와 같이 마이크로 미러(38)의 노광점 데이터열을 얻는다. 후술하는 바와 같이 피치가 일정하지 않는 경우가 있음을 주의한다.
동일한 방식으로 각 마이크로 미러(38)의 노광점 데이터열이 얻어져 노광 헤드 제어부(59)에 출력된다.
각 마이크로 미러(38)에 대한 노광점 데이터열이 노광 헤드 제어부(59)에 출력되면서, 이동 스테이지(14)는 도 1에 도시된 하류측 위치로부터 희망하는 속도로 상류측으로 이동한다.
기판(12)의 선단이 카메라(26)에 의해 검출되는 경우, 노광이 개시된다. 즉, 제어 신호가 노광점 데이터를 기초로 노광 헤드 제어부(59)로부터 노광 헤드(30)의 DMD(36)에 출력되고, 노광 헤드(30)가 입력된 제어 신호를 기초로 DMD(36)의 마이크로 미러를 on/off시켜 기판(12)을 노광한다.
제어 신호가 노광 헤드 제어부(59)로부터 노광 헤드(30)에 출력된 경우, 기판(12)에 대하여 노광 헤드(30)의 위치에 대응하는 제어 신호가 이동 스테이지(14)의 이동과 함께 순차적으로 출력된다. 이때, 도 16에 도시된 바와 같이, 예를 들면 노광 헤드(3)의 위치에 따라서 노광점 데이터가 읽혀져 각 마이크로 미러(38)에 대해서 얻어진 m개의 노광 데이터를 포함하는 노광점 데이터열에서 하나씩 순차적으로 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)에 출력되거나, 또는 도 16에 도시된 바와 같이 얻어진 노광점 데이터열에서 90°회전 또는 행렬을 이용하여 전치변환을 실시한 후, 도 17에 도시된 바와 같이 기판(12)에 대하여 노광 헤드(30)의 위치에 따라서 프레임 데이터 1~m이 생성되어 프레임 데이터 1~m이 순차적으로 노광 헤드(3)에 출력될 수 있다.
상술한 제1 실시형태에 있어서, 노광점 데이터 취득 수단(58)에 의한 노광점 데이터 취득 방법은 상술한 방법에 한정할 필요는 없지만, 예를 들면 노광점 데이터열은 도 18에 도시된 바와 같이 샘플링 피치인 0.5로 교점의 y 좌표값을 나눈 후에 정수화하여 양자화된 값을 얻고, 인접한 양자화된 값들 사이의 차이를 실행 길이 데이터로 보아 복호화하여 얻어질 수 있다. 노광점 데이터열이 상술한 방식으로 얻어진 경우, 노광점 데이터열은 도 15에 도시된 것과 유사하게 마이크로 미러의 초기 위치에 대응하는 0 데이터를 노광점 데이터의 선두에 부가함으로써 얻을 수 있다.
상기 설명에서 노광점 데이터를 취득하는 방법은 프레스 공정 등에 기인하여 변형된 기판(12) 상에 화상을 노광하는데 사용되지만, 상기 것과 유사한 방법이 변형되지 않고 이상적인 형상을 갖는 기판에서 노광점 데이터를 얻는데 사용될 수 있다. 기판의 변형을 고려하지 않아도 되는 경우에 동일하게 적용한다. 이들 경우에 있어서 기판(12) 상에 노광 궤적을 기초로 윤곽 벡터와 노광점 데이터 궤적 사이의 교점이 얻어진다.
도 19에 도시된 바와 같이 기판(12)이 주사 방향으로 신축하는 경우, 노광점 데이터 취득 수단(58)에서 노광점 데이터 샘플링 피치는 신축의 정도에 따라서 변화될 수 있다. 구체적으로, 주사 방향에서 서로 인접하는 검출 위치 정보(12d) 사이의 공간이 이상적인 (L)인 영역 A, 공간이 2L로 증가한 영역 B 및 공간이 L/2로 감소한 영역 C가 서로 섞이도록 기판(12)이 상기 바와 같이 신축되고 검출 위치 정보(12d)와 통과 위치 정보(12c)의 관계가 도 19에 도시된 바와 같은 경우, 샘플링 피치는 영역 A에서 0.5(통상의 샘플링 피치와 동일)가 될 수 있고, 영역 B에서는 0.25(통상의 샘플링 피치의 1/2)가 될 수 있으며 영역 C에서 1.0(통상의 샘플링 피치의 두 배)이 될 수 있다. 기판(12)이 주사 방향으로 신축할 때 노광점 데이터 취득 방법이 상기 설명에 기술되어 있지만, 기판(12)이 다른 방향으로 변형되고 통과 위치 정보(12c)의 길이가 검출 위치 정보(12d)에 의해 구분된 영역에 따라 다른 경우 동일한 방식으로 신축의 정도에 따라서 샘플링 피치는 변할 수 있다. 기판(12) 의 신축에 따른 샘플링 피치의 변화에 의해서 희망하는 화상이 기판(12)상에 희망하는 위치에서 노광될 수 있다.
상기 실시형태에 있어서 노광 궤적 정보가기준 마크 위치 정보와 검출 위치 정보를 기초하여 노광 궤적 정보 취득 수단(54)으로 얻어질지라도, 기판(12)의 변형을 고려하여 노광 궤적 정보를 얻을 필요는 없다. 예를 들면, 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 있어서, 기판(12)의 설치 위치에 대하여 각 노광 헤드(30)의 설치 위치에 따라서 미리 설정된 통과 위치 정보를 통과 위치 정보가, 통과 위치 정보와 중간 벡터 데이터로 표시되는 벡터 사이의 교점이 산출되는 교점 배치 데이터 산출 수단(56)에 출력되면서 노광 궤적 정보로서 얻어질 수 있고, 노광점 데이터가 상기 바와 같은 방식과 동일한 방식으로 y 좌표를 기초로 얻어진다. 이 경우, 기준 마크(12a)를 제공할 필요가 없다. 또한, 도 1에 도시된 바와 같이 하기 실시형태에서도 사용되지 않는 경우에는 기준 마크(12a)를 제공할 필요가 없다. 기판(12)의 위치 오차는 기판(12)의 에지를 검출하는 등에 의해서 얻어질 수 있다.
본 발명의 제2 실시형태를 사용하는 노광 장치(20)는 이하에서 상세히 설명한다. 노광 장치(20)는 대체로 외관상 도 1에 도시된 본 발명의 제1 실시형태를 사용한 노광 장치(10)와 동일하다.
도 20에 도시된 바와 같이, 노광 장치(20)는 중간 벡터 생성 수단(50), 스테이지 이동 방향에 직교하는 방향으로 이동 스테이지(14)의 변동에 대한 정보를 얻는 변동 정보 취득 수단(80), 변동 정보 취득 수단(80)에 의해 얻어진 이동 스테이지(14)의 변동에 대한 정보를 기초로 기판(12)상에 각 마이크로 미러(38)의 노광 궤적 정보를 얻는 노광 궤적 정보 취득 수단(82), 노광 궤적에 대한 정보에 대응하는 중간 벡터 데이터에 대한 노광 궤적 정보 및 노광 궤적 정보 취득 수단(82)과 중간 벡터 생성 수단(50)으로부터 출력된 중간 벡터 데이터에 의해 얻어진 기판(12)상에 각 마이크로 미러(38)의 노광 궤적에 대한 정보를 기초로 중간 벡터 데이터로 표시되는 벡터의 교점 설치를 표시하는 교점 배치 데이터를 산출하는 교점 배치 데이터 산출 수단(84), 교점 배치 데이터 산출 수단(84)에 의해 얻어진 교점 배치 데이터를 기초로 각 마이크로 미러(38)의 노광점 데이터를 얻는 노광점 데이터 취득 수단(85), 노광 헤드 제어부(59), 이동 기구(60) 및 본 실시형태의 전체 노광 장치를 제어하는 콘트롤러(70)를 포함한다. 도 20에 있어서 도 5와 동일한 참조 번호를 가는 구성요소들은 본 발명의 제1 실시형태의 노광 장치(10)의 구성요소들과 동일한 작동을 한다.
노광 장치(20)의 작동은 도면을 참조로 하여 이하에서 설명한다.
노광 장치(20)의 작동은 교점 배치 데이터 산출 수단(84)에 중간 벡터 데이터의 출력 단계까지는 상기 바와 같다.
그래서 스테이지 이동 방향에 직교한 방향으로 이동 스테이지(14)의 변동에 대한 정보는 변동 정보 취득 수단(80)에 의해 얻어진다. 변동에 대한 정보는 도 21에 도시된 바와 같이 그 스테이지 이동 방향에 대해서(소정 상대 이동 방향) 이동 스테이지(14)의 실제 이동의 변동량을 의미한다. 구체적으로, 변동에 대한 정보는 도 21에 도시된 바와 같이 이동 스테이지(14)의 미리 설정된 이동 궤적 방향에 대하여 스테이지 이동 방향에 직교한 방향으로 소정 공간에서 이동 스테이지(14)의 변동을 얻음으로써 얻어진다. 도 21에서 파선으로 나타낸 화살표의 방향과 길이는 변동량을 표시한다.
이동 스테이지(14)의 이동 궤적의 변동이 있는 경우, 실제 노광 시 기판(12)에 대한 각 마이크로 미러(38)의 노광의 실제 궤적은 도 22에 도시된 바와 같이 각 마이크로 미러(38)의 미리 설정된 통과 위치 정보(12c)로부터 상기 변동량에 따라서 변동한다. 따라서, 각 마이크로 미러(38)의 실제 노광 궤적에 대응하는 노광점 데이터를 얻는 것이 필요하다. 마이크로 미러 m1과 m2는 기판(12)상에 동일한 위치를 통과해야 하지만, 그의 실제 노광 궤적은 도 22에 도시된 바와 같이 그의 위상이 변동한다. 따라서, 위상의 변동을 고려하여 노광점 데이터를 얻을 필요가 있다.
노광 장치(20)에 있어서, 노광점 데이터는 마이크로 미러(38)의 노광 궤적의 변동량에 따라서 얻어진다. 구체적으로는 이동 스테이지(14)의 변동량이 미리 측정되고, 측정된 변동량은 변동 정보 취득 수단(80)에 의해 얻어진다. 변동 정보 취득 수단(80)은 노광 궤적 정보 취득 수단(82)에 얻어진 변동량을 출력한다. 변동량의 측정 방법으로서 IC 웨이퍼 스테퍼 장치에서 사용되는 레이저 빔을 사용하는 방법 등이 사용될 수 있다. 예를 들면, 스테이지 이동 방향으로 확장하는 반사 표면이 이동 스테이지(14)에 형성되고 동시에 레이저가 반사 표면을 향해 레이저빔을 조사하여 반사광을 반사표면에서 검출하는 검출부가 형성되면서,이동 스테이지(14)의 이동과 함께 검출부에 의해 반사광의 위상 변동을 순차적으로 검출함으로써 변동량을 측정될 수 있다.
노광 궤적 정보 취득 수단(82)에 있어서, 각 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보(12c)가 설정되어 있고 노광 궤적 정보 취득 수단(82)은 이동 스테이지(14)의 변동에 대한 입력 정보와 각 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보(12c)를 기초로 노광 시 기판(12)상의 각 마이크로 미러(38)의 노광 궤적에 대한 정보를 얻는다. 통과 위치 정보(12c)는 본 발명의 제1 실시형태를 사용한 노광 장치(10)에서와 동일하다.
기판(12)상의 각 마이크로 미러(38)의 노광 궤적에 대한 정보는 교점 배치 데이터 산출 수단(84)에 출력되고 교점 배치 데이터 산출 수단(84)은 도 23에 도시된 바와 같은 노광점 데이터의 궤적으로서 중간 벡터 데이터와 동일한 좌표계상에 노광 궤적에 대한 입력 정보를 플롯하여 제1 실시형태에서와 동일한 방식으로서 중간 벡터 데이터와 노광점 데이터의 궤적으로 표시되는 벡터의 교점의 배치에 대한 정보를 얻는다. 교점 배치에 대한 정보 산출 방법은 상기 바와 같다.
도 23의 노광점 데이터 궤적 M1은 도 22에 도시된 마이크로 미러의 노광점 데이터 궤적 m1이고 도 23의 노광점 데이터 궤적 M2는 도 22에 도시된 마이크로 미러의 노광점 데이터 궤적 m2이다.
그래서 상기에 기술된 방식으로 얻어진 교점의 배치에 대한 정보의 y 좌표값은 노광점 데이터 취득 수단(85)에 출력되고 노광점 데이터 취득 수단(85)에 있어서 각 마이크로 미러(38)의 노광점 데이터열은 입력된 y 좌표를 기초로 얻어진다. 노광점 데이터열 취득 방법은 상술한 바와 같다.
각 마이크로 미러(38)의 노광점 데이터열은 노광 헤드 제어부(59)에 출력된다.
한편, 이동 스테이지(14)는 희망하는 속도로 도 1에 도시된 하류측 부분으로부터 상류측으로 이동된다.
기판(12)의 선단이 카메라(26)에 의해 검출되는 경우, 노광이 개시된다. 즉, 제어 신호는 노광점 데이터를 기초로 노광 헤드 제어부(59)로부터 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)에 출력되고, 입력 제어 신호를 기초로 노광 헤드(30)는 DMD(36)의 마이크로 미러를 on/off 하여 기판(12)을 노광한다.
본 발명의 제3 실시형태를 사용하는 노광 장치(30)는 이하에서 상세히 설명한다.
노광 장치(30)는 도 24에 도시된 바와 같이 본 발명의 제1 실시형태를 사용하는 노광 장치(10)와 본 발명의 제2 실시형태를 사용하는 노광 장치(20)를 이중으로 구비하고 있다.
노광 장치(30)에 있어서, 검출 위치 정보 취득 수단(52)에 의해 얻어진 기준(12a)의 검출 위치 정보와 변동 정보 취득 수단(80)에 의해 얻어진 이동 스테이지(14)의 변동에 대한 정보는 노광 궤적 정보 취득 수단(86)에 입력된다.
노광 궤적 정보 취득 수단(86)은 상기 입력 위치 정보와 변동 정보를 기초로 각 마이크로 미러(38)의 기판(12)(상기 기판의 화상 공간에서 실제 노광 궤적) 상에 노광의 실제 궤적을 표시하는 노광 궤적 정보를 얻는다.
구체적으로, 노광 궤적 정보 취득 수단(86)에 있어서, 주사 방향에 직교하는 방향에 서로 인접한 검출 위치 정보(12d)의 직선 결합부와 각 마이크로 미러의 통과 위치 정보(12c)를 표시하는 직선의 교점 좌표값은 제1 실시형태와 같이 얻어지 고 교점과 주사 방향에 직교한 방향으로 거기에 인접한 검출 위치 정보(12d) 사이의 거리가 얻어지고 각 교점의 주사 방향에 직교한 방향으로 거기에 인접한 검출 위치 정보(12d)들 중 하나와 교점 사이의 거리와 각 교점의 주사 방향에 직교한 방향으로 거기에 인접한 검출 위치 정보(12d)들 중 다른 하나 사이와 교점 사이의 거리의 비가 얻어진다.
노광 궤적 정보 취득 수단(86)은 제2 실시형태와 같이 입력된 변동량과 각 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보(12c)를 기초로 도 23의 곡선에 의해 나타낸 것과 같이 각 마이크로 미러(38)의 기판(12)상에 임의의 노광 궤적 정보를 얻는다.
그래서, 노광 궤적 정보 취득 수단(86)은 이렇게 얻어진 비와 임의의 노광 궤적 정보를 노광 궤적 정보로서 교점 배치 데이터 산출 수단(88)에 출력한다.
교점 배치 데이터 산출 수단(88)은 제1 실시형태와 마찬가지로 도 25에 도시된 바와 같이 입력된 비를 기초로 주사 방향에 직교한 방향에서 인접하는 화상 데이터 기준 위치 정보(12e)를 결합한 직선을 분할한 점을 얻은 후에 점을 연결하는 직선을 얻은 다음, 임의의 노광 궤적 정보를 주사 방향에 대하여 직선의 기울기에 의해 기울여 노광 궤적 정보를 표시하는 곡선 M1' 및 M2'를 얻는다. 곡선 M1' 및 M2'는 교점 배치 데이터 산출 수단(88)에 의해 노광점 정보로서 얻어진다. 도 26에서 A1:B1과 A2:B2는 노광 궤적 정보 취득 수단(86)으로부터 입력된 비가 a1:b1과 a2:b2일 경우 a1:b1=A1:B1과 a2:b2=A2:B2를 만족하는 비이다.
각 마이크로 미러의 노광점 데이터 정보는 상기 바와 동일한 방식으로 얻어진다.
그래서 교점 배치 데이터 산출 수단(88)은 상술한 바와 같은 방식으로 중간 벡터 데이터와 동일한 좌표계 상에 동일한 방식으로 얻어진 노광점 데이터 정보를 플롯하여 중간 벡터 데이터와 노광점 데이터의 궤적으로 표시되는 벡터의 교점 배치에 대한 정보를 얻는다. 교점의 배치에 대한 정보 산출 방법은 상술한 바와 동일하다.
상술한 바와 같은 방식으로 얻어진 교점 배치에 대한 정보의 y 좌표값은 노광점 데이터 취득 수단(89)에 출력되고 노광점 데이터 취득 수단(89)에 있어서, 각 마이크로 미러(38)의 노광점 데이터열은 입력된 y 좌표를 기초로 얻어진다. 노광점 데이터열의 취득 방법은 상기 바와 동일하다.
각 마이크로 미러(38)의 노광점 데이터열은 노광 헤드 제어부(59)에 출력된다.
한편, 이동 스테이지(14)는 도 1에 도시된 하류측 위치에서부터 원하는 속도로 상류측으로 이동시킨다.
기판(12)의 선단이 카메라(26)에 의해 검출되는 경우, 노광이 개시된다. 즉, 제어 신호가 노광점 데이터를 기초로 노광 헤드 제어부(59)로부터 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)에 출력되고, 입력된 제어 신호를 기초로 노광 헤드(30)는 DMD(36)의 마이크로 미러를 on/off시켜 기판(12)을 노광한다.
본 발명의 제4 실시형태를 사용하는 노광 장치(40)를 이하에서 설명한다. 노광 장치(40)는 실질적으로 외관상 도 1에 도시된 본 발명의 제1 실시형태를 사용하는 노광 장치(10)와 동일하다.
도 26에 도시된 바와 같이 노광 장치(40)는 도 1에 도시된 본 발명의 제1 실시형태를 사용하는 노광장치(10)의 구조 외에 기판(12)의 이동 속도 변동에 대한 정보를 미리 얻는 노광점 데이터 취득 수단(91)을 더 포함한다.
이동 스테이지(14)의 이동 속도가 속도 변동 정보 취득 수단(90)에 의해 얻어진 기판(12)의 이동 속도에 있어서 변동에 대한 정보를 기초로 느려지는 만큼 노광점 데이터 취득 수단(91)은 샘플링 피치를 짧게 한다. 도 26에 있어서, 도 5와 동일한 참조 번호를 갖는 구성요소는 도 1에 도시된 본 발명의 제1 실시형태를 사용한 노광 장치(10)의 구성요소와 그 작동이 동일하다. 본 실시형태에 있어서, "기판(12)의 이동 속도의 변동에 대한 정보"는 이동 스테이지(14)의 이동 기구(60)의 제어의 정도에 따른 이동 속도의 불균일을 의미한다.
도 27은 소정의 마이크로 미러(38)의 기판(12)상에 노광 궤적과 노광점이 실제 노광 시 마이크로 미러(38)에 의해 노광되는 경우의 노광 타이밍을 도시한 도면이다. 도 27의 파선 화살표는 마이크로 미러(38)의 노광 궤적과 이동 스테이(14)의 이동 속도의 변동이 없는 노광 타이밍을 나타내는 반면, 실선 화살표는 마이크로 미러(38)의 노광 궤적과 이동 스테이지(14)의 이동 속도의 변동이 있는 노광 타이밍을 나타낸다. 또한, 화살표가 부여된 직선 부분은 노광점이 마이크로 미러(38)에 의해 노광되는 타이밍을 나타낸다. 설명의 편의를 위해 한 쌍의 노광 궤적은 도 27의 한 쌍의 직선으로 나타내지만, 동일한 마이크로 미러의 노광 궤적이다. 도 27의 P1~P8은 기판(12)상에 노광되는 화상의 화소를 나타낸다. 노광 타이밍 및 이동 스테이지(14)의 이동 속도는 화상이 원하는 해상도에서 기판(12) 상에 노광되도록 상 대적인 관계를 갖게 미리 설정된다.
도 27에 도시된 바와 같이 P1~P8의 각 화소는 이동 스테이지(14)의 이동 속도의 변동이 없으면 노광점에서 노광된다. 즉, 마이크로 미러(38)가 하나의 화소에 대하여 노광하는 노광점의 수는 1이다.
반면 이동 스테이지(14)의 이동 속도에 변동이 있는 경우, 화소 P1~P8을 노광하는 노광점의 수는 이동 속도에 따라 변한다. 즉, 이동 스테이지(14)가 이동하는 동안 노광 타이밍이 하나의 화소당 2회 이상인 경우, 즉, 이동 스테이지(14)가 상대적으로 천천히 이동하는 영역은 각 화소가 2 이상의 노광점에 의해 노광된다. 하나의 화소당 이동 스테이지(14)가 이동하는 동안 노광 타이밍이 없는 경우, 즉 이동 스테이지(14)가 상대적으로 빠르게 이동하는 영역은 각 화소가 노광되지 않는다.
도 27에 있어서 화소 P1~P5가 노광되는 경우, 이동 스테이지(14)가 상대적으로 천천히 이동되고, 화소 P4와 P8이 노광되는 경우, 이동 속도(14)가 상대적으로 빠르게 이동되며, 화소 P2, P3, P6 및 P7이 노광되는 경우, 이동 스테이지(14)는 미리 설정된 일정한 속도로 이동된다.
따라서, 이동 스테이지(14)의 이동 속도의 변동에 따라서 노광점 데이터를 얻는 것이 필요하다.
노광점 데이터 취득 수단(91)은 속도 변동 정보 취득 수단(90)에 의해 얻어진 속도 변동에 대한 정보에 따른 노광점 데이터가 얻어질 수 있도록 샘플링 피치를 변화시킨다. "속도 변동에 대한 정보"는 구체적으로 예를 들면 이동 스테이 지(14)가 소정 노광 피치에서 스테이지 이동방향으로 이동하는 거리 변동에 대한 정보를 의미하고 속도 변동 정보 취득 수단(90)에 미리 설정된다.
속도 변동 정보 취득 수단(90)에 미리 설정된 속도 변동에 대한 정보는 노광점 데이터 취득 수단(91)에 출력되고, 이동 스테이지(14)의 이동에 속도 변동이 없는 경우 노광점 데이터 취득 수단(91)은 샘플링 피치 0.5(통상의 샘플링 피치와 동일)를 생성하며, 이동 스테이지(14)의 이동에 속도 변동이 있는 경우 이동 스테이지(14)의 이동에 속도 변동에 따라서 샘플링 피치를 생성한다. 예를 들면, 도 27에서 직선으로 나타낸 이동 스테이지(14)의 이동 속도 변동이 있는 경우, 화소 P1과 P5를 노광하기 위한 노광점 데이터를 얻는 때에 세 개의 노광점 데이터가 얻어질 수 있도록 노광점 데이터 취득 수단(91)은 샘플링 피치를 짧게 한다. 화소 P4와 P8을 노광하기 위한 노광점 데이터를 얻는 경우, 노광점 데이터 취득 수단(91)은 노광점 데이터가 얻어질 수 없도록 샘플링 피치를 길게 한다. 반면, 화소 P2, P3, P6 및 P7을 노광하기 위해서 노광점 데이터를 얻는 경우, 노광점 데이터 취득 수단(91)은 하나의 노광점 데이터를 얻을 수 있도록 통상의 샘플링 피치를 생성한다.
이렇게 얻어진 노광점 데이터는 이동 스테이지(14)의 이동에 따라 순차적으로 노광 헤드 제어부(59)에 출력되고 노광점 데이터에 따른 제어 신호는 노광 헤드 제어부(59)로부터 각 노광 헤드(30)의 마이크로 미러(38)에 출력된다. 마이크로 미러(38)는 제어 신호에 반응하여 on/off되고 노광점은 기판(12)에 노광된다.
제4 실시형태의 노광 장치(40)에 있어서, 검출 위치 정보가 검출 위치 정보 취득 수단(52)에 의해 얻어지고, 노광 궤적 정보가 검출 위치 정보를 기초로 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 의해 얻어지고 노광점 데이터 궤적을 노광점 궤적 정보를 기초로 교점 배치 데이터 산출 수단(56)으로 얻은 후에, 중간 벡터 데이터 및 교점의 y 좌표에 할당된 2진 화상 데이터에 의해 표시되는 벡터와 노광점 데이터 궤적의 교점을 얻는 단계까지의 작동은 제1 실시형태의 노광 장치(10)에서와 동일하다. 이렇게 할당된 2진 화상 데이터를 샘플링하여 노광점 데이터를 얻는 경우, 상기 방법이 사용될 수 있다.
노광점 데이터는 상기 것과 동일한 방법으로 제2 및 제3 실시형태의 노광 장치에서 또한 얻어질 수 있다. 또한, 그러한 경우에 있어서 제2 및 제3 실시형태의 노광 장치에 관련하여 2진 화상 데이터를 노광점 데이터 궤적과 중간 벡터 데이터에 의해 표시되는 벡터의 교점의 y 좌표에 할당하는 단계까지의 작동은 상기와 동일하다.
제2 실시형태의 노광 장치에 있어서, 제4 실시형태와 같이 속도 변동 정보에 따라 얻어지는 노광점 데이터의 수를 변경함으로써 이동 스테이지(14)의 사행을 보정할 수 있을 뿐 아니라 보정이 이동 스테이지(14)의 요잉(yawing)을 고려하여 이루어질 수 있다. "요잉"은 이동 스테이지(14)의 사행에 회전이 첨가된 것이다. 따라서 이동 스테이지(14)의 회전에 의해 기판(12) 상에 각 마이크로 미러(38)의 화상의 위치가 변함과 동시에, 이동 스테이지(14)의 국소적 속도 변동이 회전에 의해 발생되기 때문에 이동 스테이지(14)가 소정 노광 타이밍 피치에서 이동하는 거리가 변하며, 얻어지는 노광점 데이터의 수가 기판(12)상에 각 마이크로 미러(38)의 화상의 위치 변동과 스테이지 이동 속도의 변동에 대한 정보에 따라 변화된다. 또한, 사행 성분을 0으로 간주하여 회전 성분만을 고려할 수 있다.
노광 장치는 제1 내지 제4 실시형태 전체를 구비할 수 있다. 그렇게 배치된 노광 장치의 작동은 도 28과 29에 도시된 플로차트를 참고로 하여 간단히 설명한다.
각 노광 헤드(30)의 DMD(36)의 각 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보는 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 입력되고(단계 S10), 이동 스테이지(14)의 위치 편차 정보 및 속도 변동 정보는 각각 위치 편차 정보 취득 수단(80)과 속도 변동 정보 취득 수단(90)에 입력된다(단계 S12). 데이터 작성 장치(40)에 의해 생성된 벡터 형식 화상 데이터는 중간 벡터 생성 수단(50)에 입력되고(단계 S14), 중간 벡터 데이터는 중간 벡터 생성 수단(50)으로 화상 데이터를 기초로 발생되고, 중간 벡터 데이터는 교점 배치 데이터 산출 수단(56)에 출력된다(단계 S16).
중간 벡터 데이터는 상술한 바와 같이 생성되면서, 콘트롤러(70)는 제어 신호를 이동 기구(60)에 출력하고, 이동 기구(60)는 도 1에 도시된 위치로부터 가이드(20)를 따라서 상류측으로 이동 스테이지(14)를 일단 이동시킨 다음 제어 신호에 반응하여 희망하는 속도로 이동 스테이지(14)의 이동방향으로 이동시킨다(단계 S18).
상기 바와 같이 이동된 이동 스테이지(14) 상의 기판(12) 상에 기준 마크(12a)가 카메라(26)에 의해 촬영되고, 검출 위치 정보는 촬영된 화상 데이터를 기초로 검출 위치 정보 취득 수단(52)에 의해 얻어진다.
검출 위치 정보는 검출 위치 정보 취득 수단(52)으로부터 노광 궤적 정보 취 득 수단(54)에 출력되는 동시에 편차 정보 취득 수단에 설정된 위치 편차 정보가 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 출력되며, 기판(12) 상에 각 마이크로 미러(38)의 노광 궤적에 대한 정보가 산출된다. 구체적으로, 주사 방향에 직교한 방향에서 서로 인접한 검출 위치 정보(12d)를 결합한 직선과 각 미러(38)의 통과 위치 정보(12c)로 표시되는 직선의 좌표값이 얻어지고, 직교방향으로 거기에 인접하는 검출 위치 정보(12d)가 얻어지고, 각 교점의 주사 방향에 직교한 방향으로 거기에 인접한 검출 위치 정보(12d) 중의 하나와 교점 사이의 거리와 각 교점의 주사 방향에 직교한 방향으로 거기에 인접한 검출 위치 정보(12d) 중의 다른 하나와 교점의 거리의 비가 상기 제1 실시형태의 노광 장치(10)에 기술된 바와 같이 얻어진다. 구체적으로는 도 9에 있어서 a1:b1, a2:b2, a3:b3 및 a4:b4이 노광 궤적 정보로서 얻어진다. 상기 비는 상기와 같은 방식으로 얻어진 검출 위치 정보로부터 편차량을 뺀 후에 얻어진다(단계 S22).
노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 있어서, 상기 비가 얻어지고 동시에 임의의 노광 궤적 정보가 입력된 편차량과 각 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보(12c)를
기초로 얻어지고, 이렇게 얻어진 비와 임의의 노광 궤적 정보는 노광 궤적 정보로서 교점 배치 데이터 산출 수단(56)에 출력된다. 비와 임의의 노광 궤적 정보가 얻어진 순서는 역으로 될 수 있다. 교점 배치 데이터 산출 수단(56)에 있어서, 노광 궤적 정보에 대응하는 노광점 데이터를 표시하는 곡선은 도 25에 관련하여 상기 바와 같이 얻어지고(단계 S24), 상기와 같은 방식으로 얻어진 노광점 데이터 궤적은 상기와 같은 방식으로 중간 벡터 데이터와 같은 좌표계상에 플롯되어 중간 벡터 데 이터와 노광점 데이터의 궤적에 의해 표시되는 벡터의 교점의 배치에 대한 정보를 얻는다(단계 S26). 교점의 배치에 대한 정보를 산출하는 방법은 상술한 바와 같다.
그래서 상기 방식으로 얻어진 교점의 배치에 대한 정보의 y 좌표값은 노광점 데이터 취득 수단에 출력되고 2진 화상 데이터가 y 좌표를 기초로 할당된다(단계 S28).
노광점 데이터 취득 수단(58)에 있어서, 속도 변동 정보 취득 수단(90)에 의해 얻어진 속도 변동 정보는 입력되고 상기 바와 같이 제4 실시형태의 노광 장치에 있어서, 속도 변동 정보에 따른 샘플링 피치가 설정되고 2진 화상 데이터가 샘플링 피치에서 샘플링되어 각 마이크로 미러(38)의 노광점 데이터열을 얻는다(단계 S30). 노광점 데이터열의 취득 방법은 상기 바와 같이 동일하다.
이때 속도 변동 정보뿐만 아니라 주사 방향에서 기판(12)의 신축 즉, 검출 위치 정보(12d)에 의해 구분된 기판(12)상에 각 영역에 대하여 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보의 길이도 고려하여 샘플링 피치가 결정되는 것이 바람직하다.
각 마이크로 미러(38)에 대해서 이렇게 얻어진 노광점 데이터열 상에서 90° 회전 또는 행렬을 이용하는 전치변환이 실시되어 기판(12)에 대하여 노광 헤드(30)의 위치에 따라서 프레임 데이터 1~m이 도 17에 도시된 바와 같이 생성된다(단계 S32).
한편, 이동 스테이지(14)가 도 1에 도시된 하류측 위치로부터 원하는 속도로 상류측으로 이동된다. 기판(12)의 선단이 카메라(26)에 의해서 검출되는 경우에, 노광이 개시되고 프레임 데이터 1~m이 이동 스테이지(14)의 이동과 함께 노광 헤 드(30)의 위치에 따라 순차적으로 각 노광 헤드(30)에 출력되어 프레임 데이터를 기초로 기판(12)상에 화상을 노광한다(단계 S34). 모든 프레임 데이터가 노광 헤드(30)에 출력되고 노광이 종료되면, 이동 스테이지(14)는 상류측으로 다시 이동된다(단계 S36). 다른 기판(12)이 있으면, 기판이 상기 다른 하나로 변화된 후에 단계 S16부터 처리가 반복된다. 반면 다른 기판(12)이 없는 경우에는 처리는 종료된다(단계 S38).
제1~제4 실시형태의 노광 장치에 따르면, 화상의 노광 시 기판(12)상에 마이크로 미러(38)의 궤적에 대한 정보를 얻으면서 화상을 표시하는 벡터 형식 화상 데이터가 얻어지기 때문에 화상 데이터로 표시되는 윤곽과 노광 궤적 정보에 대응하는 화상 데이터 상에 노광점 데이터 궤적의 교점의 배치에 대한 정보가 얻어지고 노광점 데이터 궤적에 대응하는 노광점 데이터가 교점 배치에 대한 정보를 기초로 얻어지고, 묘화점 데이터는 벡터 형식 화상 데이터로부터 직접 얻어지며, 묘화점 데이터는 종래와 같이 벡터 형식 화상 데이터가 래스터 형식 화상 데이터로 전환없이 벡터 형식 화상 데이터로부터 직접 얻어질 수 있음으로써 화상 묘화의 정도가 처리 속도의 저하 또는 비용 증가 없이 향상될 수 있다.
도 30a 및 30b는 상기 제1~제4 실시형태의 노광 장치의 효과를 시각적으로 도시한 모식도이다. 도 30a는 래스터 형식 화상 데이터를 사용함으로써 노광된 화상을 도시하는 반면 도 30b는 벡터 형식 화상 데이터를 사용함으로써 노광된 화상을 도시하고 있다. 도 30a 및 30b에서 검정 원은 마이크로 미러를 나타내고, 점선 화살표는 마이크로 미러와 마이크로 미러에 의해 노광된 화소의 대응관계를 나타낸 다.
기판(12) 상에 소정 위치에 미리 형성된 복수의 기준 마크(12a)는 검출되어 검출 위치 정보(12d)를 얻고 노광 궤적 정보가 제1 실시형태의 노광 장치와 같이 얻어진 검출 위치 정보(12d)를 기초로 얻어지는 경우, 기판(12)이 변형될 지라도 화상은 변형 후에 기판(12)상에 마이크로 미러(38)의 노광 궤적에 대한 정보를 미리 얻음으로써 기판(12)상에 마아크로 미러(38)의 노광 궤적에 대한 정보에 대응하는 노광점 데이터가 화상 데이터로부터 얻어질 수 있기 때문에 화상이 기판의 변형에 따라 기판(12)상에 형성될 수 있다. 따라서, 예를 들면 다층 프린트 배선판이 형성되는 경우, 각 층의 배선 패턴이 층의 변형에 따라 형성될 수 있기 때문에 각 층의 배선 패턴은 고정도로 서로 다른 층에 위치될 수 있다.
또한, 기판(12)의 소정 상대 이동 방향으로부터 화상 묘화 시 기판(12)의 실제 이동 방향의 편차에 대한 정보가 얻어지는 경우, 노광 궤적에 대한 정보는 상기 제2 또는 제3 실시형태의 노광 장치와 같이 얻어진 편차 정보를 기초로 얻어지며, 편차가 기판(12)의 이동 방향에서 발생되더라도 편차에 따른 노광 궤적에 대한 정보는 미리 얻어질 수 있고 노광점 궤적에 대한 정보에 대응하는 노광점 데이터는 화상 데이터로부터 얻어질 수 있기 때문에 희망하는 화상이 이동방향의 편차에 의해 영향을 받지 않고 기판(12)상에 바람직한 위치에 형성될 수 있다.
기판(12)의 소정 상대 이동 속도에 대하여 화상 묘화 시 기판(12)의 실제 이동의 변동을 표시한는 속도 변동 정보가 얻어지고, 제4 실시형태의 노광 장치와 같이 얻어진 속도 변동 정보를 기초로 기판(12)의 실제 이동이 늦어지는 묘화 영역만 큼 노광점 데이터수가 증가하도록 샘플링 피치를 변화시키면서 노광점 데이터가 얻어지는 경우, 희망하는 화상이 이동 속도의 변동에 의한 영향 없이 기판(12) 상에 희망하는 위치에 노광될 수 있다.
상기 제1~제4 실시형태의 노광 장치에 있어서, 노광점 데이터가 기판(12)의 변형 등에 따라 얻어진 노광점 데이터 궤적을 벡터 형식 화상 데이터에 대응시킴으로써 얻어지지만, 화상 데이터는 검출 위치 정보에 대응하도록 변형될 수 있고, 노광점 데이터는 화상 데이터와 동일하게 변형된 노광점 데이터 궤적을 기초로 얻어질 수 있다. 편차는 화상 데이터를 변형시킴으로써 흡수되는 것, 그 특성에 따라 노광점 데이터 궤적(피치 성분을 포함)을 변형시킴으로써 흡수되는 것으로 분류될 수 있음을 주의한다. 예를 들면, 기판의 변형과 그 위치의 편차는 화상 데이터를 변형시킴으로써 흡수될 수 있으며, 동시에 스테이지를 이동시킴으로써 반송 편차는 노광점 데이터 궤적을 변형하여 흡수될 수 있다. 이 경우, 스테이지를 이동시킴으로서 반송 편차가 고려되지 않는다면 노광점 데이터 궤적은 변형되지 않는다.
또한, 상기 제1~제4 실시형태의 노광 장치에 있어서라도 중간 벡터 데이터가 발생되고 노광점 데이터 궤적과 중간 벡터 데이터를 사용함으로써 화상 데이터에 의해 표시되는 화상의 윤곽의 교점이 구해지지만, 상기 교점을 얻기 위해서는 중간 벡터 데이터를 생성할 필요는 없다. 예를 들면, 도 31에 도시된 바와 같이 벡터 형식 화상 데이터는 선분의 방향과 길이를 나타내는 선분 데이터 D1과 선분의 두께를 나타내는 선분 데이터 D2를 포함하는 경우, 도 31에서 화살표에 의해 나타낸 노광점 데이터 궤적과 선분 데이터 D1의 교점 O가 우선 얻어지고 각도 θ1이 하기 식(1)에 따라 얻어진다. 각도 θ1을 기초로 길이 OP가 하기 식(2)에 의해 얻어지고 교점 P의 좌표는 길이 OP를 기초로 하기 식(3)으로부터 얻어질 수 있다. 또한, 교점 Q의 좌표는 각도 θ1, θ2 및 θ3와 Qp, Ox 및 Oy를 기초로 동일한 방식으로 얻어질 수 있다. 도 31에서 L1 및 L2는 x 방향에 평행한 직선을 나타낸다.
θ1=θ3-θ2…⑴
OP=(D2/2)×(1/sinθ1)…⑵
Px=Ox+OP×cosθ3, Py=Oy+OP×sinθ3…⑶
Px는 교점 P의 x 좌표를 나타내고, Py는 교점 P의 y 좌표를 나타내며, Ox는 교점 O의 x 좌표를 나타내고, Oy는 교점 O의 y 좌표를 나타낸다.
제1 ~제4 실시형태에 관련하여 벡터 형식 화상 데이터로부터 노광점 데이터를 얻는 방법은 상기 것들에 한정할 필요가 없으며 기타의 방법도 가능하다. 예를 들면, 기판(12)상에 노광점 P1의 위치에 대응하는 화상 데이터 D상에 위치 좌표(x1, y1)은 도 32에서 도시된 바와 같이 얻어지고, 노광점에 대한 노광점 데이터는 벡터 형식 화상 데이터 D와 위치 좌표(x1, y1)를 기초로 얻어질 수 있다. 구체적으로 벡터 형식 화상 데이터는 도 33에 도시된 바와 같이 선분의 방향과 길이를 나타내는 선분 데이터 D1과 선분의 두께를 나타내는 두께 데이터 D2를 포함하는 경우, 노광점 P과 선분 D1 사이의 거리 L3이 얻어지고 노광점 P1이 화상 데이터에 의해 표시되는 화상 상에 존재하는 여부가 L3과 D2/2를 비교함으로써 결정된다. 노광점 P1이 화상 상에 존재하는 것으로 결정된 경우, 벡터 형식 화상 데이터에 의해 나타낸 값은 노광점 P1에 대해서 노광점 데이터로서 얻어질 수 있다. 벡터 형식 화 상 데이터로 나타낸 값은 2진 값에 한정되지 않으며 다가화 값일 수 있다. 반면 노광점 P1이 화상 상에 존재하지 않는 것으로 결정된 경우, 0은 노광점 P1에 대한 노광점 데이터로서 얻어질 수 있다.
노광점 P1의 좌표는 도 34에 도시된 바와 같이 소정 위치에서 기판(12)상에 마이크로 미러(38)의 위치를 나타낼 수 있다.
노광점 데이터는 도 35에 도시된 바와 같이 노광점 P1의 위치 좌표를 포함하는 선 L4 상에 화상 데이터 D를 기초로 결정된 복수의 화상을 중첩하고 선 L4가 화상을 중첩하는 화상의 화상 데이터를 기초로 노광점 데이터를 얻음으로써 얻어질 수 있다.
상기 선 L4는 도 36에 도시된 바와 같이 기판(12) 상에 마이크로 미러(38)의 노광 궤적일 수 있다.
또한, 상기 선 L4는 도 37에 도시된 바와 같이 기판(12) 상에 소정 위치에서 DMD(36)의 마이크로 미러(36)를 연결하는직선일 수 있다. 이 경우, 첫째, 벡터의 개시점의 위치 좌표(예를 들면, 소정의 단일 마이크로 미러의 위치 좌표)가 얻어진다. 다음으로, 개시점부터 신장한 선과 노광 화상 데이터 D의 윤곽 벡터 사이의 교점이 산출된다. 이 후, 노광점 데이터는 각 교점들 사이 또는 다른 구간에 포함된 마이크로 미러에 대해 산출된다. 선의 형상은 빔 점의 배치를 기초로 고정값으로서 설정될 수 있다. 또는 노광 궤적과 동일한 방식으로 기판의 변형 또는 이동 스테이지에 의한 반송의 편차를 고려하면서 선은 변형될 수 있다.
또한, 노광점 데이터는 도 38에 도시된 바와 같이 노광점 P1의 위치 좌표를 포함한 소정 영역 A상에 화상 데이터 D를 기초로 결정된 복수의 화상을 중첩하고 소정 영역 A가 화상을 중첩하는 화상의 화상 데이터에 기초하여 노광점 데이터를 얻음으로써 얻어질 수 있다.
도 39에 도시된 바와 같이 소정 영역 A는 기판(12) 상에 소정 위치에서 DMD(36)의 영역일 수 있다. 예를 들면, 영역 A는 DMD(36)의 화상 전체 또는 DMD(36)의 각 부분에 대하여 설정될 수 있다.
또한, 소정 직사각형의 영역 S는 도 40a 및40b에 도시된 바와 같이 DMD(36)의 영역과 화상의 중첩이 직사각형 영역 S에서 얻어지면서 화상 데이터 D상에 소정 위치에서 설정될 수 있고, 노광점 P1에 대한 노광점 데이터는 중첩 부분에 대한 화상 데이터를 기초로 얻어질 수 있다.
공간광 변조 소자로서 DMD를 구비하는 노광 장치가 상기 실시형태에서 설명되었지만, 그와 같은 반사형 공간광 변조 소자 외에 투과형 공간광 변조 소자가 사용될 수 있다.
소위 플러드 베드형(flood bed type) 노광 장치가 상기 실시형태에서 일예로서 기술되었지만, 본 발명은 감광 재료가 권취된 드럼을 주변에 형성된 소위 아우터 드럼형 노광 장치를 사용하여도 좋다.
본 발명의 상기 실시형태에 의해 노광된 기판(12)은 프린트 배선판에 한정할 필요가 없고 플랫 패널 디스플레이에 대한 기판 등이어도 좋다. 이 경우 패턴은 컬러 필터, 블랙 매트릭스 및 TFT 등의 반도체 회로를 포함하는 어떠한 구조체이어도 좋으나 이에 한정되지 않는다. 기판(12)은 그 형상이 시트상이어도 좋고 장척상의 것(예, 플렉시블 기판)이어도 좋다.
본 발명의 화상 묘화를 위한 방법 및 장치는 잉크젯 방식 등의 프린터에 의해 화상 묘화에 적용하여도 좋다. 예를 들면 잉크 토출에 의한 묘화점을 본 발명과 동일한 방식으로 형성할 수도 있다. 즉, 본 발명의 묘화점 형성 영역은 잉크젯 방식의 프린터의 각 노즐로부터 토출된 잉크가 부착한 영역으로서 간주될 수 있다.
또한, 궤적 정보는 실제 기판 상에 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보, 실제 기판 상에 묘화점 형성 영역의 궤적의 근사치에 대한 정보 또는 실제 기판 상에 묘화점 형성 영역의 궤적의 예측에 대한 정보를 기초로 할 수 있다.
기판의 변형 또는 스테이지 이동 에러에 따라서 화상 데이터상에 라이트 빔의 궤적을 파선 또는 곡선 등의 비직선으로 규정되는 것과 동일하게, 피치 성분은 비직선으로 규정될 수 있다.
이 경우에 있어서, 피치 성분에 대한 정보는 각 라이트 빔 궤적과 연결되어 있는 것이 바람직하다. 그러나, 위치 편차 또는 기판의 경사만이 고려되는 경우, 동일한 피치 성분(이 경우, 피치 폭도 일정할 수 있다)이 라이트 빔 궤적 전체에 할당될 수 있다.
즉, 기판의 위치 보정과 기판 반송의 방향에 직교한 방향으로 화상의 변형 보정이 라이트 빔 궤적의 변화에 의해 대응될 수 있으며, 기판 반송 방향에서 화상 변형의 보정은 피치 성분의 변화에 의해 대응될 수 있다. 이 경우, 각 라이트 빔 궤적에 대하여 피치 성분을 부여함으로써 변형이 국소적 또는 연속적으로 변화하는 변형의 보정일지라도 대응할 수 있다.
피치 성분은 라이트 빔 궤적 벡터의 방향에 따라 또는 라이트 빔 궤적 벡터를 소정의 좌표축에 투영함으로써 얻어진 벡터 방향에 따라서 설정될 수 있다.
라이트 빔 궤적에 따라 교점에 대한 정보군은 화상의 윤곽과 피치 성분과 연결된 라이트 빔 궤적의 교점의 위치에 대한 정보를 얻음으로써(예, 피치 성분과 교점의 위치를 부여함) 압축 데이터처럼 취급될 수 있다.
상기 실시형태에 있어서, 단일 노광점 데이터 궤적은 2 이상의 마이크로 미러(빔)의 각 그룹에 대하여 얻어질 수 있다. 예를 들면, 노광점 데이터 궤적은 마이크로 렌즈 어레이의 단일 마이크로 렌즈에 의해 집광된 복수의 빔의 각 그룹에 대하여 얻어질 수 있다.
기판의 변형이 화상 데이터의 변형에 의해 흡수될 수 있는 경우에 있어서, 윤곽 벡터는 도 41에 예시된 바와 같이 변형될 수 있다. 이 경우, 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보는 도 5의 검출 위치 정보 취득 수단(52)으로부터 중간 벡터 생성 수단(50)에 공급된다.
상기 바와 같이, 노광점 데이터는 벡터 형식 화상 데이터 상에 규정된 선(노광점 데이터 궤적)을 기초로 얻어진다. 그러므로, 노광점 데이터의 취득에 포함되는 계산은 고속으로 실시될 수 있다. 노광점 궤적 데이터를 기초로 노광점 궤적 벡터가 선으로서 사용되는 경우와 빔 점의 열을 따라 규정된 빔 열 벡터가 선으로서 사용되는 경우에 실시되는 계산 사이에 차이가 있다. 노광점 궤적 벡터가 사용되는 경우에는 교점 산출 회수가 노광 화상 데이터의 벡터의 수로 곱해진 마이크로 미러의 수(예를 들면, 1024×240)이다. 빔 열 벡터가 사용되는 경우에 있어서, 교점의 산출 회수는 빔 열(예를 들면, 240)의 수×프레임 수로 곱해진 노광 화상 데이터의 벡터 수이다. 이 경우, 프레임의 수는 기판의 길이/노광 피치에 의해 결정되고, 예를 들면, 1,000,000 정도의 값이다. 따라서, 빔 열 벡터가 사용되는 경우 계산량이 더 크다. 그러나, 빔 열 벡터가 사용되는 경우, 데이터는 리얼 타임 처리 견지에서 우수한 각 프레임에 대하여 생성될 수 있다. 즉, 스테이지의 진동 등에 의해 야기되는 비재현성 편차도 대응가능하다(도 39의 예와 같이, DMD(36)에 대하여 소정 영역 A가 설정된 경우에 동일하게 적용함).

Claims (83)

  1. 묘화점 데이터를 기초로 묘화 대상 상에 묘화점을 형성함으로써 묘화 대상 상에 화상을 묘화하는데 사용되는 묘화점 데이터 취득 방법으로서:
    벡터 형식 화상 데이터를 얻는 단계;
    묘화 대상 상에 묘화점이 형성되는 위치에 대응하는 화상 데이터 상의 위치 좌표를 얻는 단계; 및
    벡터 형식 화상 데이터 및 위치 좌표를 기초로 묘화점의 묘화점 데이터를 얻는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는 좌표가 속하는 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 위치 좌표는 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역의 위치에 대응하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는 위치 좌표를 포함하는 선이 중첩하는 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는 묘화 영역의 화상 데이터와 선의 교점 위치를 기초로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 화상 데이터로 표시되거나 또는 화상 데이터로부터 구할 수 있는 화상의 윤곽과 선 사이의 교점을 나타내는 교점 배치 데이터를 얻는 단계를 더 포함하고,
    상기 묘화점 데이터는 교점 배치 데이터를 기초로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  7. 제 4 항에 있어서,
    상기 선은 상기 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표를 연결하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  8. 제 4 항에 있어서,
    상기 선은 시계열 순으로 배치된 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표를 연결하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  9. 제 4 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 선은 시계열 순으로 배치된 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표를 연결하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  10. 제 4 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 선은 묘화 대상 상에 또는 상기 묘화 대상의 화상 공간에 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적에 대응하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  11. 제 4 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 복수의 묘화점 형성 영역을 포함하는 묘화점 형성 영역군을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역군의 이동과 함께 묘화 대상 상에 묘화점 형성 영역군에 대응하는 묘화점을 순차적으로 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용될 수 있고,
    상기 선은 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역군의 적어도 일 부분의 묘화점 형성 영역을 연결하는 선에 대응하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  12. 제 4 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    샘플링 피치에 대한 데이터는 상기 선에 부수되는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는 위치 좌표를 포함하는 소정 영역이 중첩하는 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 복수의 묘화점 형성 영역을 포함하는 묘화점 형성 영역군을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역군의 이동과 함께 묘화 대상 상에 묘화점 형성 영역군에 대응하는 묘화점을 순차적으로 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 소정 영역은 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역군의 적어도 일 부분의 영역에 대응하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  15. 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 묘화 대상 상에 화상을 묘화하는데 사용되는 묘화점 데이터 취득 방법으로서:
    상기 화상의 원 벡터 형식 화상 데이터를 얻고, 화상 묘화를 위한 상기 묘화 대상의 화상 공간에서 묘화 대상 상의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적에 대한 정보를 얻는 단계;
    상기 묘화 궤적에 대한 정보에 대응하는 묘화 대상 상에 묘화점 데이터의 묘화 궤적과 화상 데이터로 표시되거나 또는 화상 데이터로부터 구할 수 있는 화상 윤곽의 교점 배치에 대한 정보를 얻는 단계; 및
    상기 교점 배치에 대한 정보를 기초로 묘화점 데이터의 궤적에 대한 정보에 대응하는 묘화점 데이터를 얻는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터 궤적은 교점 배치 데이터에 의해 나타낸 교점에 의해 부분 묘화점 궤적으로 나누어지고,
    2진 데이터가 상기 부분 묘화점 궤적이 배치된 순서로 부분 묘화점 궤적에 교대로 할당되고,
    상기 부분 묘화점 궤적에 할당된 2진 데이터는 이동 방향에 대응하는 화상 데이터 상의 주사 방향에서 샘플링되어 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 묘화점 데이터를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  17. 제 15 항에 있어서,
    이동 방향에 대응하는 화상 데이터 상의 주사 방향에서 교점 배치 데이터의 좌표값을 얻고,
    상기 얻어진 좌표값은 화상 데이터 상의 주사 방향에서 소정 간격의 값으로 나누어져 양자화된 값을 얻고,
    화상 데이터 상의 주사 방향에 인접한 양자화된 값들 사이의 차이가 실행 길이 데이터로서 얻어져 상기 실행 길이 데이터를 복호화함으로써 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 묘화점 데이터를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방 법.
  18. 제 15 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대해서 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동의 변동을 표시하는 속도 변동 정보를 얻고,
    상기 묘화점 데이터는 얻어진 속도 변동 정보를 기초로 묘화 대상의 실제 이동이 느려진 묘화 영역만큼 묘화점 데이터의 수가 증가하도록 소정 간격를 변화시키면서 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  19. 제 15 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 묘화 대상 상의 소정 위치에 제공된 복수의 기준 마크를 검출하여 기준 마크의 위치를 표시하는 검출 위치 정보를 얻고,
    상기 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보는 상기 얻어진 검출 위치 정보를 기초로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  20. 제 15 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향으로부터 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동 방향의 편차에 대한 정보가 얻어지고,
    상기 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보가 상기 얻어진 편차 정보를 기초로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  21. 제 19 항에 있어서,
    상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향으로부터 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동 방향의 편차에 대한 정보가 얻어지고,
    상기 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보가 상기 얻어진 편차 정보 및 상기 검출 위치 정보를 기초로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  22. 묘화점 데이터를 기초로 묘화 대상 상에 묘화점을 형성함으로써 묘화 대상 상에 화상을 묘화하는 묘화 방법으로서:
    벡터 형식 화상 데이터를 얻고, 묘화점이 묘화 대상 상에 형성되는 위치에 대응하는 화상 데이터 상의 위치 좌표를 얻는 단계;
    상기 벡터 형식 화상 데이터 및 위치 좌표를 기초로 묘화점의 묘화점 데이터를 얻는 단계; 및
    얻어진 묘화점 데이터를 기초로 묘화 대상 상에 묘화점을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  23. 제 22 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는 좌표가 속하는 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  24. 제 23 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 위치 좌표는 상기 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역의 위치에 대응하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  25. 제 22 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는 위치 좌표를 포함하는 선이 중첩하는 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  26. 제 25 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는 묘화 영역의 화상 데이터와 선의 교점 위치를 기초로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  27. 제 25 항에 있어서,
    상기 화상 데이터로 표시되거나 또는 화상 데이터로부터 구할 수 있는 화상의 윤곽과 선 사이의 교점을 나타내는 교점 배치 데이터를 얻는 단계를 더 포함하 고,
    상기 묘화점 데이터는 상기 교점 배치 데이터를 기초로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  28. 제 25 항에 있어서,
    상기 선은 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표를 연결하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  29. 제 25 항에 있어서,
    상기 선은 시계열 순으로 배치된 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표를 연결하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  30. 제 25 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 선은 시계열 순으로 배치된 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표를 연결하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  31. 제 25항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 선은 묘화 대상 상에 또는 상기 묘화 대상의 화상 공간에 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적인 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  32. 제 25 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 복수의 묘화점 형성 영역을 포함하는 묘화점 형성 영역군을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역군의 이동과 함께 묘화 대상 상에 묘화점 형성 영역군에 대응하는 묘화점을 순차적으로 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 선은 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 영역군의 적어도 일 부분의 묘화점 형성 영역을 연결하는 선에 대응하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  33. 제 22 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는 위치 좌표를 포함하는 소정 영역이 중첩하는 묘화 영 역의 화상 데이터를 기초로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  34. 제 22 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 복수의 묘화점 형성 영역을 포함하는 묘화점 형성 영역군을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역군의 이동과 함께 묘화 대상 상에 묘화점 형성 영역군에 대응하는 묘화점을 순차적으로 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 소정 영역은 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역군의 적어도 일 부분의 영역에 대응하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  35. 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 묘화 대상 상에 화상을 묘화하는 묘화 방법으로서:
    상기 화상의 원 벡터 형식 화상 데이터를 얻고, 화상 묘화 시 묘화 대상 상에 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적에 대한 정보를 얻는 단계;
    상기 묘화 궤적에 대한 정보에 대응하는 묘화 대상 상에 묘화점 데이터의 묘화 궤적과 상기 화상 데이터로 표시되거나 또는 화상 데이터로부터 구할 수 있는 화상 윤곽의 교점 배치에 대한 정보를 얻는 단계;
    상기 교점 배치에 대한 정보를 기초로 묘화점 데이터 궤적에 대한 정보에 대응하는 묘화점 데이터를 얻는 단계; 및
    상기 얻어진 묘화점 데이터를 기초로 하는 묘화점 형성 영역에 의해서 묘화 대상 상에 묘화점을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  36. 제 35 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터 궤적은 교점 배치 데이터에 의해 나타낸 교점에 의해 부분 묘화점 궤적으로 나누어지고,
    2진 데이터가 상기 부분 묘화점 궤적이 배치된 순서로 부분 묘화점 궤적에 교대로 할당되고,
    상기 부분 묘화점 궤적에 할당된 2진 데이터는 이동 방향에 대응하는 화상 데이터 상의 주사 방향에서 샘플링되어 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 묘화점 데이터를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  37. 제 35 항에 있어서,
    이동 방향에 대응하는 화상 데이터 상의 주사 방향에서 교점 배치 데이터의 좌표값을 얻고,
    상기 얻어진 좌표값은 화상 데이터 상의 주사 방향에서 소정 간격의 값으로 나누어져 양자화된 값을 얻고,
    화상 데이터 상의 주사 방향에 인접한 양자화된 값들 사이의 차이가 실행 길 이 데이터로서 얻어져 상기 실행 길이 데이터를 복호화함으로써 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 묘화점 데이터를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  38. 제 35 항 내지 제 37 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대해서 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동의 변동을 표시하는 속도 변동 정보를 얻고,
    상기 묘화점 데이터는 얻어진 속도 변동 정보를 기초로 묘화 대상의 실제 이동이 느려진 묘화 영역만큼 묘화점 데이터의 수가 증가하도록 소정 간격을 변화시키면서 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  39. 제 35 항 내지 제 38 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 묘화 대상 상의 소정 위치에 제공된 복수의 기준 마크를 검출하여 기준 마크의 위치를 표시하는 검출 위치 정보를 얻고,
    상기 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보는 상기 얻어진 검출 위치 정보를 기초로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  40. 제 35 항 내지 제 38항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향으로부터 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동 방향의 편차에 대한 정보가 얻어지고,
    상기 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보가 상기 얻어진 편차 정보를 기초 로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  41. 제 39 항에 있어서,
    상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향으로부터 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동 방향의 편차에 대한 정보가 얻어지고,
    상기 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보가 상기 얻어진 편차 정보 및 상기 검출 위치 정보를 기초로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  42. 묘화점 데이터를 기초로 묘화 대상 상에 묘화점을 형성함으로써 묘화 대상 상에 화상을 묘화하는데 사용되는 묘화점 데이터 취득 장치로서:
    묘화점이 묘화 대상 상에 형성되어야 하는 위치에 대응하는 화상 데이터 상의 위치 좌표를 얻는 위치 좌표 취득 수단; 및
    화상의 원 벡터 형식 화상 데이터를 얻고 상기 얻어진 원 벡터 형식 화상 데이터 및 위치 좌표 취득 수단에 의해 얻어진 위치 좌표를 기초로 묘화점의 묘화점 데이터를 얻는 묘화점 데이터 취득 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  43. 제 42 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 위치 좌표 상의 화상 데이터를 기초로 결정된 묘화 영역을 중첩함으로써 좌표가 속하는 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 묘 화점 데이터가 얻어지도록 하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  44. 제 43 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 위치 좌표는 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역의 위치에 대응하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  45. 제 42 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 묘화 영역 상에 선을 중첩함으로써 위치 좌표를 포함하는 선이 중첩되는 화상 데이터를 기초로 결정된 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 묘화점 데이터가 얻어지도록 하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  46. 제 45 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 화상 데이터와 선의 교점 위치를 기초로 묘화점 데이터를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 수단.
  47. 제 45 항에 있어서,
    상기 화상 데이터로 표시되거나 또는 화상 데이터로부터 구할 수 있는 화상의 윤곽과 선 사이 교점을 나타내는 교점 배치 데이터를 얻는 교점 배치 데이터 취득 수단을 더 포함하고,
    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 교점 배치 데이터를 기초로 묘화점 데이터를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  48. 제 45 항에 있어서,
    상기 선은 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표를 연결하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  49. 제 45 항에 있어서,
    상기 선은 시계열 순으로 배치된 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표를 연결하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  50. 제 45 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 선은 시계열 순으로 배치된 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표를 연결하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  51. 제 45 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 선은 묘화 대상 상에 또는 상기 묘화 대상의 화상 공간에 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적에 대응하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  52. 제 34 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 복수의 묘화점 형성 영역을 포함하는 묘화점 형성 영역군을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역군의 이동과 함께 묘화 대상 상에 묘화점 형성 영역군에 대응하는 묘화점을 순차적으로 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 선은 묘화 대상 상의 소정 위치에 묘화점 형성 영역군의 적어도 일 부분의 묘화점 형성 영역을 연결하는 선에 대응하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  53. 제 45 항 내지 제 52 항 중 어느 한 항에 있어서,
    샘플링 피치에 관한 데이터는 상기 선에 부수되는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  54. 제 42 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는 묘화 영역 상의 소정 영역을 중첩함으로써 위치 좌표를 포함하는 소정 영역이 묘화 영역을 중첩하는 화상 데이터를 기초로 결정된 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  55. 제 54항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 복수의 묘화점 형성 영역을 포함하는 묘화점 형성 영역군을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역군의 이동과 함께 묘화 대상 상에 묘화점 형성 영역군에 대응하는 묘화점을 순차적으로 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 소정 영역은 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역의 적어도 일 부분의 영역에 대응하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  56. 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되는 묘화점 데이터 취득 장치로서:
    화상 묘화를 위한 상기 묘화 대상 상에 또는 상기 묘화 대상 상의 화상 공간에 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적에 대한 정보를 얻는 묘화 궤적 정보 취득 수단;
    화상을 표시하는 벡터 형식 화상 데이터를 얻고 묘화 궤적에 대한 정보에 대응하는 묘화 대상 상의 묘화점 데이터의 묘화 궤적과 화상 데이터로 표시되거나 또는 화상 데이터로부터 구할 수 있는 화상의 윤곽의 교점 배치에 대한 정보를 얻는 교점 배치 데이터 취득 수단; 및
    상기 교점 배치 데이터 취득 수단에 의해 얻어진 교점 배치에 대한 정보를 기초로 묘화 궤적에 대한 정보에 대응하는 묘화점 데이터를 얻는 묘화점 데이터 취득 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  57. 제 56 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 묘화점 데이터 궤적을 교점 배치 데이터에 의해 나타낸 교점에 의해서 부분 묘화점 궤적으로 구분시키며,
    상기 부분 묘화점 궤적이 배치된 순서로 부분 묘화점 궤적에 2진 데이터를 교대로 할당하여 상기 부분 묘화점 궤적에 할당된 2진 데이터가 이동 방향에 대응하는 화상 데이터 상의 주사 방향에서 샘플링되어 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 묘화점 데이터를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  58. 재 56 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 이동 방향에 대응하는 화상 데이터 상의 주사 방향에서 교점 배치 데이터의 좌표값을 얻고, 얻어진 좌표값이 화상 데이터 상의 주사 방향에서 소정 간격의 값으로 나누어져 양자화된 값을 얻고,
    화상 데이터 상의 주사 방향에 인접하는 양자화된 값들 사이의 차이는 실행 길이 데이터로서 얻어져 상기 실행 길이 데이터를 복호화함으로써 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 묘화점 데이터를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  59. 제 56 항 내지 제 58 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대하여 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동의 변동을 표시하는 속도 변동 정보를 얻는 속도 변동 정보 취득 수단을 더 포함하고,
    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 얻어진 속도 변동 정보를 기초로 묘화 대상의 실제 이동이 느려진 묘화 영역만큼 묘화점 데이터의 수가 증가하도록 소정 간격을 변화시키면서 묘화점 데이터를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  60. 제 56 항 내지 제 59 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 묘화 대상 상의 소정 위치에 제공되는 복수의 기준 마크를 검출하여 기준 마크의 위치를 표시하는 검출 위치 정보를 얻는 위치 정보 검출 수단을 더 포함하고,
    상기 묘화 궤적 취득 수단은 상기 위치 정보 검출 수단에 의해 얻어진 검출 위치 정보를 기초로 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  61. 제 56 항 내지 제 59 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향으로부터 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동 방향의 편차에 대한 정보를 얻는 편차 정보 취득 수단을 더 포함하고,
    상기 묘화점 궤적 정보는 상기 편차 정보 취득 수단에 의해 얻어진 편차 정보를 기초로 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  62. 제 60 항에 있어서,
    상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향으로부터 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동 방향 편차에 대한 정보를 얻는 편차 정보 취득 수단을 더 포함하고,
    상기 묘화점 궤적 정보는 상기 편차 정보 취득 수단에 의해 얻어진 편차 정보와 상기 위치 정보 검출 수단에 의해 얻어진 검출 위치 정보를 기초로 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  63. 묘화점 데이터를 기초로 묘화 대상 상에 묘화점을 형성함으로써 묘화 대상 상에 화상을 묘화하는 묘화 장치로서:
    묘화점이 묘화 대상 상에 형성되어야 하는 위치에 대응하는 화상의 원 벡터 형식 화상 데이터 상에 위치 좌표를 얻는 위치 좌표 취득 수단;
    화상의 원 벡터 형식 화상 데이터를 얻고 얻어진 벡터 형식 화상 데이터와 상기 위치 좌표 취득 수단에 의해 얻어진 위치 좌표를 기초로 묘화점의 묘화점 데이터를 얻는 묘화점 데이터 취득 수단; 및
    상기 묘화점 데이터 취득 수단에 의해 얻어진 묘화점 데이터를 기초로 묘화 대상 상에 화상을 형성하는 묘화 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  64. 제 63 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 위치 좌표 상의 화상 데이터를 기초로 결정된 묘화 영역을 중첩함으로써 좌표가 속하는 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 묘화점 데이터가 얻어지도록 하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  65. 제 64 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 위치 좌표는 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역의 위치에 대응하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  66. 제 63 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 묘화 영역 상에 선을 중첩함으로써 위치 좌표를 포함하는 선을 중첩하는 화상 데이터를 기초로 결정된 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 묘화점 데이터가 얻어지도록 하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  67. 제 66 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 화상 데이터와 선의 교점 위치를 기초로 묘화점 데이터를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  68. 제 66 항에 있어서,
    화상 데이터로 표시되거나 또는 화상 데이터로부터 구할 수 있는 화상의 윤곽과 선 사이의 교점을 나타내는 교점 배치 데이터를 얻는 교점 배치 데이터 취득 수단을 더 포함하고,
    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 교점 배치 데이터를 기초로 묘화점 데이터를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  69. 제 66 항에 있어서,
    상기 선은 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표를 연결하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  70. 제 66 항에 있어서,
    상기 선은 시계열 순으로 배치된 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표를 연결하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  71. 제 66 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 선은 시계열 순으로 배치된 복수의 묘화점에 대응하는 복수의 위치 좌표를 연결하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  72. 제 66 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 선은 묘화 대상 상에 또는 상기 묘화 대상의 화상 공간에 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적에 대응하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  73. 제 66 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 복수의 묘화점 형성 영역을 포함하는 묘화점 형성 영역군을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역군의 이동과 함께 묘화 대상 상에 묘화점 형성 영역군에 대응하는 묘화점을 순차적으로 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 선은 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역군의 적어도 일 부분의 묘화점 형성 영역을 연결하는 선에 대응하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  74. 제 66 항 내지 제 73 중 어느 한 항에 있어서,
    샘플링 피치에 관한 데이터가 상기 선에 부수되는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  75. 제 63 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는 묘화 영역 상의 소정 영역을 중첩함으로써 위치 좌표를 포함하는 소정 영역이 묘화 영역을 중첩하는 화상 데이터를 기초로 결정된 묘화 영역의 화상 데이터를 기초로 얻어지는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  76. 제 75 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터는, 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 복수의 묘화점 형성 영역을 포함하는 묘화점 형성 영역군을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역군의 이동과 함께 묘화 대상 상에 묘화점 형성 영역군에 대응하는 묘화점을 순차적으로 형성함으로써 화상을 묘화하는데 사용되고,
    상기 소정 영역은 묘화 대상 상의 소정 위치에 있어서 묘화점 형성 영역군의 적어도 일 부분의 영역에 대응하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  77. 묘화점이 묘화점 데이터를 기초로 형성된 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시키고 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역의 이동과 함께 묘화 대상 상에 순차적으로 묘화점을 형성함으로써 묘화 대상 상에 화상을 묘화하는 묘화 장치로서:
    화상 묘화를 위한 묘화 대상 상에 있어서 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적에 대한 정보를 얻는 묘화 궤적 정보 취득 수단;
    화상의 원 벡터 형식 화상 데이터를 얻고 묘화 궤적 상에 정보에 대응하는 묘화 대상 상의 묘화점 데이터의 묘화 궤적과 화상 데이터로 표시되거나 또는 화상 데이터로부터 구할 수 있는 화상의 윤곽의 교점 배치에 대한 정보를 얻는 교점 배치 데이터 취득 수단;
    상기 교점 배치 데이터 취득 수단에 의해 얻어진 교점 배치에 대한 정보를 기초로 묘화 궤적에 대한 정보에 대응하는 묘화점 데이터를 얻는 묘화점 데이터 취득 수단; 및
    상기 묘화점 데이터 취득 수단에 의해 얻어진 묘화점 데이터를 기초로 묘화점 형성 영역에 따른 묘화 대상 상에 묘화점을 형성하는 묘화 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  78. 제 77 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 묘화점 데이터 궤적을 교점 배치 데이터에 의해 나타낸 교점에 의해서 부분 묘화점 궤적으로 나누어지며,
    상기 부분 묘화점 궤적이 배치된 순서로 부분 묘화점 궤적에 2진 데이터를 교대로 할당하여 상기 부분 묘화점 궤적에 할당된 2진 데이터가 이동 방향에 대응하는 화상 데이터 상의 주사 방향에서 샘플링되어 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 묘화점 데이터를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  79. 제 77 항에 있어서,
    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 이동 방향에 대응하는 화상 데이터 상의 주사 방향에서 교점 배치 데이터의 좌표값을 얻고, 얻어진 좌표값이 화상 데이터 상의 주사 방향에서 소정 간격의 값으로 나누어져 양자화된 값을 얻고,
    화상 데이터 상의 주사 방향에 인접하는 양자화된 값들 사이의 차이는 실행 길이 데이터로서 얻어져 실행 길이 데이터를 복호화함으로써 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 묘화점 데이터를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  80. 제 77 항 내지 제 79 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대하여 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동의 변동을 표시하는 속도 변동 정보를 얻는 속도 변동 정보 취득 수단을 더 포함하고,
    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 얻어진 속도 변동 정보를 기초로 묘화 대상의 실제 이동이 느려진 묘화 영역만큼 묘화점 데이터의 수가 증가하도록 소정 간격을 변화시키면서 묘화점 데이터를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  81. 제 77 항 내지 제 80 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 묘화 대상 상의 소정 위치에 제공되는 복수의 기준 마크를 검출하여 기준 마크의 위치를 표시하는 검출 위치 정보를 얻는 위치 정보 검출 수단을 더 포함하고,
    상기 묘화 궤적 취득 수단은 상기 위치 정보 검출 수단에 의해 얻어진 검출 위치 정보를 기초로 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  82. 제 77 항 내지 제 80 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향으로부터 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동 방향의 편차에 대한 정보를 얻는 편차 정보 취득 수단을 더 포함하고,
    상기 묘화점 궤적 정보는 상기 편차 정보 취득 수단에 의해 얻어진 편차 정보를 기초로 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  83. 제 81 항에 있어서,
    상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향으로부터 화상 묘화 시 상기 묘화 대상의 실제 이동 방향 편차에 대한 정보를 얻는 편차 정보 취득 수단을 더 포함하고,
    상기 묘화점 궤적 정보는 상기 편차 정보 취득 수단에 의해 얻어진 편차 정보와 상기 위치 정보 검출 수단에 의해 얻어진 검출 위치 정보를 기초로 묘화점 형성 영역의 궤적에 대한 정보를 얻는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8493547B2 (en) * 2009-08-25 2013-07-23 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8514395B2 (en) * 2009-08-25 2013-08-20 Nikon Corporation Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method
TWI385076B (zh) * 2010-06-02 2013-02-11 Microjet Technology Co Ltd 適用於立體成型機構之切層方法
JP5967946B2 (ja) * 2012-01-23 2016-08-10 株式会社アドテックエンジニアリング 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法
NL2013237B1 (en) * 2014-07-22 2016-08-16 Roth & Rau B V Inkjet printing system and method for processing wafers.

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4320694B2 (ja) * 2001-08-08 2009-08-26 株式会社オーク製作所 多重露光描画装置および多重露光式描画方法
JP4315694B2 (ja) * 2003-01-31 2009-08-19 富士フイルム株式会社 描画ヘッドユニット、描画装置及び描画方法
JP4505270B2 (ja) * 2003-07-02 2010-07-21 富士フイルム株式会社 画像記録装置、画像記録方法及びプログラム
EP1494077A3 (en) * 2003-07-02 2006-12-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming apparatus and image forming method
JP2005031274A (ja) * 2003-07-10 2005-02-03 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録装置及び画像記録方法
KR20050014767A (ko) * 2003-07-31 2005-02-07 후지 샤신 필름 가부시기가이샤 패턴제조시스템, 노광장치 및 노광방법
JP4515184B2 (ja) * 2003-07-31 2010-07-28 富士フイルム株式会社 パターン製造システム、露光装置および露光方法

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