KR101446484B1 - 묘화 시스템 - Google Patents

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히사지 미요시
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가부시키가이샤 오크세이사쿠쇼
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Abstract

기판 등의 피묘화체의 변형에 따라 묘화 위치를 적절하게 보정하여, 정밀도 좋게 묘화 패턴을 형성한다.
DMD 등의 광변조 소자를 사용한 묘화 장치에서, CCD를 사용하여 4개의 얼라인먼트 구멍의 위치를 계측한다. 그리고, 묘화 데이터의 위치 좌표, 즉 묘화 위치를 기준 직사각형(Z0)의 1쌍의 변 TA1, TA2 및 1쌍의 변 TB1, TB2로부터의 거리의 비(m:n 및 M:N)을 유지하도록, 변형 후의 사각형(Z)의 1쌍의 변 TA1, TA2 및 1쌍의 변 TB1, TB2에 대하여, X, Y 방향을 따라 이동시킨다.
Figure R1020070057967
묘화 시스템, 광원, 피묘화체, 위치 좌표, 묘화 데이터, 광변조 소자, 계측 수단, 보정 수단.

Description

묘화 시스템{PATTERN FORMING SYSTEM}
도 1은 본 실시형태인 묘화 시스템을 모식적으로 도시한 사시도이다.
도 2는 묘화 장치에 설치된 노광 유닛을 모식적으로 도시한 도면이다.
도 3은 노광 영역의 상대 이동, 즉 노광 영역에 의한 주사를 도시한 도면이다.
도 4는 묘화 시스템의 블럭도이다.
도 5는 묘화 위치의 보정 처리 프로세스의 전반부를 도시한 도면이다.
도 6은 묘화 위치의 보정 처리 프로세스의 후반부를 도시한 도면이다.
도 7은 묘화 처리의 플로차트이다.
도 8은 설정된 얼라인먼트 구멍과 계측 얼라인먼트 구멍의 좌표를 도시한 도면이다.
도 9는 보정 후의 묘화 데이터의 위치를 도시한 도면이다.
(부호의 설명)
10 묘화 장치 20 노광 유닛
21 광원 22 DMD(광변조 유닛)
30 묘화 제어부 30A 제어 유닛
32 시스템 컨트롤 회로 34 DMD 제어부
38 스테이지 위치 제어부 40 얼라인먼트 마크 검출부
42 데이터 연산부 43 데이터 버퍼
SW 기판(피묘화체) EA 노광 영역
Xij 디지털 마이크로 미러(광변조 소자)
Yij미소 스폿(노광 스폿)
TA1, TA2 1쌍의 변(제 1의 1쌍의 기준 변)
TB1, TB2 1쌍의 변(제 2의 1쌍의 기준 변)
SA1, SA2 1쌍의 변(제 1의 1쌍의 변동 변)
SB1, SB2 1쌍의 변(제 2의 1쌍의 변동 변)
Z0 기준 직사각형 Z 사각형(변형 직사각형)
AM1∼AM4 계측 얼라인먼트 구멍(계측용 지표)
PD 묘화 위치 PD'보정 위치
X X 좌표(제 1 축) Y Y 좌표(제 2 축)
본 발명은 원판이 되는 포토마스크(레티클), 또는 직접적으로 프린트 기판이나 실리콘 웨이퍼 등의 피묘화체에 회로 패턴 등의 패턴을 형성하는 묘화 장치에 관한 것이다. 특히, 기판의 변형에 따라 묘화 위치를 보정하는 처리에 관한 것이 다.
기판 등의 피묘화체의 제조공정에서는, 포토레지스트 등의 감광 재료를 도포한 피묘화체에 대해 패턴형성을 위한 묘화 처리가 실행되고, 현상 처리, 에칭 또는 도금 처리, 레지스트 박리 등의 공정을 거쳐, 피묘화체에 패턴이 형성된다. 예를 들면, LCD, DMD, SLM(Spatial Light Modulators) 등 광변조 소자를 이차원적으로 배열시킨 광변조 유닛을 사용하는 묘화 장치에서는, 광변조 유닛에 의한 조사 스폿(이하에서는, 노광 영역이라고 함)을 기판에 대해 상대적으로 주사시킴과 아울러, 묘화 패턴에 따라 각 광변조 소자를 소정의 타이밍으로 제어한다.
기판 자체가 열 처리, 적층에 의해 변형되므로, 얼라인먼트 조정용의 마크가 만들어져 있고, 기판이 변형된 상태에서 계측된 위치결정 마크에 기초하여 패턴의 묘화 위치가 보정된다. 특히, 1장의 기판에 대해 작은 사이즈의 묘화 패턴을 복수개 할당하여 묘화하는 경우, 각 묘화 패턴의 묘화 영역에 대해 그 네 코너에 직사각형을 구성하는 얼라인먼트 마크를 설정하고, 실제로 계측된 얼라인먼트 마크의 위치에 기초하여 기판 변형에 의한 중심의 위치의 옵셋, 묘화 영역의 회전경사각 등을 산출한다. 그리고, 산출된 데이터에 기초하여 묘화 위치를 보정한다(특허문헌 1, 2 참조).
[특허문헌 1] 일본 특개 2005-300628호 공보
[특허문헌 2] 일본 특개 2000-122303호 공보
기판의 변형상태는 불균일하기 때문에, 각 묘화영역의 중심 부근과 그 이외, 예를 들면 경계 부근에서는 기판의 변형 방향, 변형량 등의 변형상태가 상이하다. 따라서, 중심위치 등 묘화 영역의 대표적인 위치(중심 위치 등)에 관한 변동량에 기초하여 그 영역 내에 있는 각 묘화 데이터의 묘화 위치를 보정한 경우, 경계 부근의 묘화 위치에 관해서는 적절한 위치 보정이 되지 않아, 기판의 변형에 맞춘 패턴을 정밀도 좋게 형성할 수 없다.
본 발명의 묘화 시스템은, 기판의 변형에 따라 묘화 데이터의 위치를 적절하게 보정하는 묘화 시스템으로, 광원과, 피묘화체에 대해 규정되는 좌표계에 기초한 위치 좌표를 갖는 묘화 데이터에 따라, 광원으로부터의 조명광을 변조하는 적어도 1개의 광변조 소자를 구비한다. 예를 들면, 벡터 데이터의 위치 좌표 정보를 갖는 묘화 데이터의 위치 좌표를 수정하고, 래스터 데이터 등으로 변환하여 묘화 처리를 실행하면 된다. 또, 광변조 소자로서는, 예를 들면, DMD, LCD 등 복수의 광변조 소자를 이차원적으로 규칙적으로 배열시켜서 구성하면 좋다.
또, 묘화 시스템은 피묘화체에 설정된 4개의 계측용 지표의 위치를 피묘화체가 변형한 상태에서 계측가능한 계측 수단과, 묘화 데이터의 위치 좌표를 보정한 묘화 데이터(보정 묘화 데이터)를 생성하는 보정 수단과, 보정 묘화 데이터에 기초하여 묘화 패턴을 형성하도록, 광변조 소자를 제어하는 묘화 처리 수단을 구비한다.
피묘화체의 변형 전에 있어서는, 기준 직사각형의 정점을 구성하도록 계측용 지표가 피묘화체 상에 설정되어 있다. 여기에서, 기준 직사각형은 대략 직사각형 또는 대략 정방형인 직사각형에 의해 구성되고, 마주 대하는 1쌍의 평행한 변(이하에서는, 제 1의 1쌍의 기준 변이라고 함)과 다른 쪽의 1쌍의 평행 변(이하에서는, 제 2의 1쌍의 기준 변이라고 함)으로 이루어지는 직사각형을 나타낸다. 계측용 지표로서는, 예를 들면, 마크를 피묘화체에 표시하거나, 또는 계측용의 구멍을 피묘화체에 형성하면 된다. 기준 직사각형의 영역은, 예를 들면 기판에 복수의 묘화 패턴을 할당하여 묘화 처리하는 경우에는, 각 묘화 패턴의 묘화 영역으로서 정해진다. 좌표 계산을 쉽게 하기 위해서, 제 1 및 제 2의 1쌍의 기준 변이 좌표계를 규정하는 상호 직교의 제 1, 제 2의 축(X축, Y축)에 각각 평행하도록, 4개의 계측용 지표를 설정하면 된다.
피묘화체가 변형되면, 계측된 4개의 계측용 지표를 정점으로 하는, 완전한 직사각형으로부터 형태가 무너진 사각형(이하에서는, 변형 직사각형이라고 함)이 규정되고, 변형 직사각형은 제 1의 1쌍의 기준 변에 대응하는 1쌍의 변(이하에서는, 제 1의 1쌍의 변동 변이라고 함)과, 제 2의 1쌍의 기준 변에 대응하는 1쌍의 변(이하에서는, 제 2의 1쌍의 변동 변이라고 함)으로 구성된다.
본 발명에서는, 보정 수단이 묘화 데이터의 위치 좌표에 의해 규정되는 묘화 위치를 1쌍의 변으로부터의 거리비를 유지하도록, 소정의 위치(보정 위치)로 수정한다. 그곳에서는, 제 1의 1쌍의 변동 변에서부터 제 2의 1쌍의 기준 변을 따른 묘화 데이터의 보정 묘화 위치까지의 거리의 비가, 제 1의 1쌍의 기준 변에서부터 제 2의 1쌍의 기준 변을 따른 묘화 데이터의 기준 위치까지의 거리의 비와 일치되게 함과 아울러, 제 2의 1쌍의 변동 변에서부터 제 1의 1쌍의 기준 변을 따른 묘화 데이터의 보정 위치까지의 거리의 비가, 제 2의 1쌍의 기준 변에서부터 제 1의 1쌍의 기준 변을 따른 묘화 데이터의 기준 위치까지의 거리의 비와 일치되게 한다. 예를 들면 기준 직사각형이 제 1, 제 2의 축에 평행한 경우, 제 1 및 제 2의 축을 따라 1쌍의 변으로부터의 거리비가 동일하게 되도록 묘화 위치가 보정된다. 기준 직사각형의 상호 수직한 변을 따라 묘화 위치의 이동량을 산출하기 때문에, 대상이 되는 묘화 위치에서의 피묘화체의 변형 방향, 변형량에 따른 보정 위치가 산출되어, 묘화 영역 내의 묘화 위치가 동일한 보정량으로 보정되는 것이 아니라, 각 묘화 위치에 맞는 위치로 보정된다.
본 발명의 묘화 데이터 보정 장치는, 마주 대하는 제 1의 1쌍의 기준 변과 제 2의 1쌍의 기준 변으로 이루어지는 기준 직사각형의 정점을 구성하도록 피묘화체에 설정된 4개의 계측용 지표의 위치를, 피묘화체가 변형된 상태에서 계측가능한 계측 수단과, 계측된 4개의 계측용 지표를 정점으로 하여, 제 1의 1쌍의 기준 변에 대응하는 제 1의 1쌍의 변동 변과 제 2의 1쌍의 기준 변에 대응하는 제 2의 1쌍의 변동 변으로 구성되는 변형 직사각형에 기초하여, 묘화 데이터의 위치 좌표를 보정하고, 보정 묘화 데이터를 생성하는 보정 수단을 구비하고, 보정 수단이 제 1의 1쌍의 변동 변에서부터 제 2의 1쌍의 기준 변을 따른 묘화 데이터의 보정 위치까지의 거리의 비가, 제 1의 1쌍의 기준 변에서부터 제 2의 1쌍의 기준 변을 따른 묘화 데이터의 기준 위치까지의 거리의 비와 일치되게 함과 아울러, 제 2의 1쌍의 변동 변에서부터 제 1의 1쌍의 기준 변을 따른 묘화 데이터의 보정 위치까지의 거리의 비가, 제 2의 1쌍의 기준 변에서부터 제 1의 1쌍의 기준 변을 따른 묘화 데이터의 기준 위치까지의 거리의 비와 일치되도록, 묘화 데이터의 위치 좌표를 보정하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 프로그램은, 마주 대하는 제 1의 1쌍의 기준 변과 제 2의 1쌍의 기준 변으로 이루어지는 기준 직사각형의 정점을 구성하도록 피묘화체에 설정된 4개의 계측용 지표의 위치를 피묘화체가 변형된 상태에서 계측가능한 계측 수단과, 계측된 4개의 계측용 지표를 정점으로 하고, 제 1의 1쌍의 기준 변에 대응하는 제 1의 1쌍의 변동 변과 제 2의 1쌍의 기준 변에 대응하는 제 2의 1쌍의 변동 변으로 구성되는 변형 직사각형에 기초하여, 묘화 데이터의 위치 좌표를 보정하고, 보정 묘화 데이터를 생성하는 보정 수단을 기능하게 하고, 제 1의 1쌍의 변동 변에서부터 제 2의 1쌍의 기준 변을 따른 묘화 데이터의 보정 위치까지의 거리의 비가, 제 1의 1쌍의 기준 변에서부터 제 2의 1쌍의 기준 변을 따른 묘화 데이터의 기준 위치까지의 거리의 비와 일치되게 함과 아울러, 제 2의 1쌍의 변동 변에서부터 제 1의 1쌍의 기준 변을 따른 묘화 데이터의 보정 위치까지의 거리의 비가, 제 2의 1쌍의 기준 변에서부터 제 1의 1쌍의 기준 변을 따른 묘화 데이터의 기준 위치까지의 거리의 비와 일치되도록, 묘화 데이터의 위치 좌표를 보정하도록, 보정 수단을 기능하게 하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 묘화 데이터 보정 방법은, 마주 대하는 제 1의 1쌍의 기준 변과 제 2의 1쌍의 기준 변으로 이루어지는 기준 직사각형의 정점을 구성하도록 피묘화체에 설정된 4개의 계측용 지표의 위치를 피묘화체가 변형된 상태에서 계측하고, 계측된 4개의 계측용 지표를 정점으로 하고, 제 1의 1쌍의 기준 변에 대응하는 제 1의 1쌍의 변동 변과 제 2의 1쌍의 기준 변에 대응하는 제 2의 1쌍의 변동 변으로 구성되는 변형 직사각형에 기초하여 묘화 데이터의 위치 좌표를 보정하고, 보정 묘화 데이터를 생성하는 묘화 데이터 보정 방법으로서, 제 1의 1쌍의 변동 변에서부터 제 2의 1쌍의 기준 변을 따른 묘화 데이터의 보정 위치까지의 거리의 비가, 제 1의 1쌍의 기준 변에서부터 제 2의 1쌍의 기준 변을 따른 묘화 데이터의 기준 위치까지의 거리의 비와 일치되게 함과 아울러, 제 2의 1쌍의 변동 변에서부터 제 1의 1쌍의 기준 변을 따른 묘화 데이터의 보정 위치까지의 거리의 비가, 제 2의 1쌍의 기준 변에서부터 제 1의 1쌍의 기준 변을 따른 묘화 데이터의 기준 위치까지의 거리의 비와 일치되도록, 묘화 데이터의 위치 좌표를 보정하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 기판의 제조방법은, 1) 블랭크스인 기판에 감광 재료를 도포하고, 2) 도포된 기판에 대해 묘화 처리를 실행하고, 3) 묘화 처리된 기판에 대해 현상 처리를 하고, 4) 현상 처리된 기판에 대해 에칭 또는 도금 처리를 하고, 5) 에칭 또는 도금 처리된 기판에 대해 감광 재료의 박리 처리를 하는 기판의 제조방법으로서, 묘화 처리에서, 상기 묘화 데이터 보정 방법에 의해 묘화 데이터를 보정하는 것을 특징으로 한다.
(발명을 실시하기 위한 최량의 형태)
이하에서는, 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태에 대해 설명한다.
도 1은 본 실시형태인 묘화 시스템을 모식적으로 도시한 사시도이다. 도 2는 묘화 장치에 설치된 노광 유닛을 모식적으로 도시한 도면이다. 도 3은 노광 영역(EA)의 상대 이동, 즉 노광 영역(EA)에 의한 주사를 도시한 도면이다.
묘화 시스템은 묘화 장치(10)을 구비한다. 묘화 장치(10)는 포토레지스트 등의 감광 재료를 표면에 도포한 기판(SW)에 광을 조사함으로써 회로 패턴을 형성하는 장치이고, 게이트 형상 구조체(12), 베이스(14)를 구비한다. 베이스(14)에는 X-Y 스테이지(18)를 지지하는 X-Y 스테이지 구동기구(19)가 탑재되어 있고, X-Y 스테이지(18) 위에는 기판(SW)이 설치되어 있다. 게이트 형상 구조체(12)에는, 기판(SW)의 표면에 회로 패턴을 형성하기 위한 노광 유닛(20)이 설치되어 있고, X-Y 스테이지(18)의 이동에 맞추어 노광 유닛(20)이 동작한다.
또, 묘화 시스템은 X-Y 스테이지(18)의 이동 및 노광 유닛(20)의 동작을 제어하는 묘화 제어부(30)를 구비한다. 묘화 제어부(30)는 제어 유닛(30A), 키보드(30B), 모니터(30C)로 구성되어 있고, 조작자가 노광 조건 등을 설정한다. 기판(SW)은, 예를 들면 실리콘 웨이퍼, 필름, 유리 기판, 또는 구리첩부 적층판이고, 프리 베이크 처리, 포토레지스트의 도포 등의 처리가 설비된 블랭크스의 상태에서 X-Y 스테이지(18)에 탑재된다. 여기에서는, 네거형의 포토레지스트가 기판(SW)의 표면에 형성되어 있다.
기판(SW)에는, 4개의 동일 사이즈의 묘화 패턴을 형성하기 위해서, 4개의 묘화 영역이 할당되어 있고, 각 묘화 영역(GR)의 네 코너에는, 묘화 위치를 얼라인먼트 조정하기 위한 얼라인먼트 구멍(AM)이 형성되어 있다. 게이트 형상 구조체(12)에는, 얼라인먼트 구멍(AM)의 위치를 검출하기 위한 CCD(13)가 기판(SW)의 방향을 향하도록 부착되어 있고, X-Y 스테이지(18)의 이동을 따라서 얼라인먼트 구멍(AM)을 검출한다. 기판(SW)에 대해서는, 서로 직교인 X-Y 좌표계가 규정되어 있고, X- Y 좌표계에 기초하여 얼라인먼트 조정이 행해진다. 여기에서는, 주 주사방향을 X방향, 부 주사방향을 Y방향으로 한다.
도 2에 도시하는 바와 같이, 노광 유닛(20)은 광원(21), DMD(Digital Micro-mirror Device)(22), 및 노광용 광학계로서 조명광학계(24), 결상광학계(26)를 구비하고 있고, 광원(21)과 DMD(22) 사이에 조명광학계(24)가 배치되고, DMD(22)와 기판(SW) 사이에 결상광학계(26)가 배치되어 있다. 반도체 레이저 등의 광원(21)은 일정한 강도로 빔을 연속적으로 방사하고, 방사된 광은 조명광학계(24)로 인도된다. 조명광학계(24)는 확산판(24A)과 콜리메이터 렌즈(24B)로 구성되어 있고, 빔(LB)이 조명광학계(24)를 통과하면 DMD(22)를 전체적으로 조명하는 광속으로 이루어지는 광으로 성형된다. 또한, 도 2에 도시하는 DMD(22)뿐만 아니라, 복수의 DMD가 주 주사방향(X방향)을 따라 배치되어 있고, 광원(22)으로부터 방사되는 빔은 각 DMD로 광파이버(도시 생략)를 통하여 전달된다.
DMD(22)는 마이크로미터(㎛) 단위인 미소한 마이크로 미러가 매트릭스 형상으로 배열된 광변조 유닛이고, 각 마이크로 미러는 정전계 작용에 의해 회전 변동한다. 본 실시형태에서는, DMD(22)는 M×N개의 마이크로 미러가 매트릭스 형상으로 배열됨으로써 구성되어 있고, 이하에서는 배열(i, j)의 위치에 따른 마이크로 미러를 "Xij"(1≤i≤M, 1≤j≤N)으로 나타낸다. 예를 들면, 1024×768의 마이크로 미러에 의해 DMD(22)가 구성된다.
마이크로 미러(Xij)는 광원(21)으로부터의 빔(LB)을 기판(SW)의 노광면(SU) 의 방향으로 반사시키는 제 1 자세와, 노광면(SU) 밖의 방향으로 반사시키는 제 2 자세 중 어느 하나의 자세로 위치결정되고, 제어 유닛(30A)으로부터의 제어신호에 따라 자세가 전환된다. 마이크로 미러(Xij)가 제 1 자세로 위치결정되어 있는 경우, 마이크로 미러(Xij) 상에서 반사된 광은 결상광학계(26)의 방향으로 인도된다. 모식적으로 도시한 결상광학계(26)는 2개의 볼록 렌즈와 리플렉터 렌즈(도시 생략)로 구성되어 있고, 결상광학계(26)를 통과한 광은 포토레지스트층이 형성되어 있는 노광면(SU)의 소정 영역을 조사한다.
한편, 마이크로 미러(Xij)가 제 2 자세로 위치결정된 경우, 마이크로 미러(Xij)에서 반사된 광은 광흡수판(도시 생략)의 방향으로 인도되고, 노광면(SU)에는 광이 조사되지 않는다. 이하에서는, 마이크로 미러(Xij)가 제 1 자세로 지지되어 있는 상태를 ON 상태, 제 2 자세로 지지되어 있는 상태를 OFF 상태라고 정한다.
결상광학계(26)의 배율은, 여기에서는 1배로 정해져 있기 때문에, 1개의 마이크로 미러(Xij)에 의한 조사 스폿(Yij)의 사이즈(폭, 높이)는 마이크로 미러(Xij)의 사이즈와 일치한다. 마이크로 미러(Xij)의 부 주사방향(Y방향)에 대응하는 높이를 h, 주사 방향(X방향)에 대응하는 폭을 1로 나타내면, 1×h의 사이즈를 갖는 조사 스폿(이하에서는, 미소 스폿이라고 함)으로 된다. 마이크로 미러(Xij)는 정방 형상이고(h=1), 또한 패턴의 선폭에 대해 마이크로 미러(Xij)의 사이즈는 대단히 미소하 고, 한 조각의 길이는 수 ㎛∼수십 ㎛로 정해져 있다.
DMD(22)의 사이즈는 텔레비전의 표시 규격에 따라 정해지고, DMD(22)의 주 주사방향에 대응하는 방향을 횡방향, 부 주사방향에 대응하는 방향을 종방향 이라고 규정하고, 폭(횡방향 길이) 및 높이(종방향 길이)를 각각 「W」, 「K」로 나타내면, DMD(22)의 애스팩트비(횡종비 W:K)는 3:4로 정해진다.
X-Y 스테이지(18)가 정지한 상태에서 모든 마이크로 미러가 ON 상태인 경우, 노광면(SU) 위에는, 소정 사이즈를 갖는 스폿 EA가 쬐어진다(이하에서는, 이 스폿 영역을 노광 영역이라고 함). 결상광학계(26)의 배율은 1배이므로, D×R=K×W(=(M×h)×(N×1))의 관계가 성립된다.
DMD(22)에서는 마이크로 미러(Xij)가 각각 독립하여 ON/OFF 제어되기 때문에, DMD(22) 전체에 조사한 광은 각 마이크로 미러에서 선택적으로 반사된 광의 광속으로 구성되는 광이 된다. 그 결과, 노광면(SU)에서 노광 영역(EA)이 위치하는 임의의 영역 Ew에는, 그 장소에 형성해야 할 회로 패턴에 따른 광이 조사된다. 래스터 주사에 따라, X-Y 스테이지(18)는 일정 속도로 이동하고, 이것에 따라, 노광 영역(EA)은 주 주사방향(X방향)을 따라 노광면(SU) 위를 상대적으로 일정 속도로 이동하여, 회로 패턴이 주 주사방향(X방향)을 따라 형성되어 간다.
X-Y 스테이지(18)가 일정 속도로 이동하고 있는 동안, 미소 스폿의 조사 위치(Yij)를 비켜 놓는, 즉 오버래핑 시키도록 노광 동작이 실행된다. 즉, 소정의 노광 동작 시간 간격(노광 주기)으로 반복광을 투영 개시시키기 위한 마이크로 미 러(Xij)의 ON 전환제어가 실행됨과 동시에, X 방향으로 배열된 디지털 마이크로 미러가 차례대로 소정의 영역을 향하여 광을 투영할 때, 순차 조사하는 미소 스폿의 위치가 부분적으로 겹치도록 (오버래핑 되도록) 노광 동작시 간격, 주사 속도가 정해진다. 여기에서는, 마이크로 미러(Xij)의 미소 스폿(Yij)의 폭(1)에 따른 구간(1)을 노광 영역(EA)이 이동하는데 걸리는 시간보다도 짧은 시간 간격으로 노광 동작이 실행된다.
이러한 노광 동작의 타이밍 제어에 의해, 기판(SW)이 일정 속도로 상대적으로 이동하는 동안, 노광 영역(EA)이 거리 d(<1))만큼 진행할 때마다 노광 영역의 동작이 반복하여 실행된다. 또, 1회의 노광 동작 중에서, 각 마이크로 미러의 ON 상태가 계속되고 있는 시간은, 노광 영역(EA)이 거리 d만큼 진행하는데 걸리는 시간보다도 짧아지도록, 마이크로 미러가 제어된다. 여기에서는, 노광 영역(EA)이 거리 Ld(<d)만큼 진행하는 시간만큼 마이크로 미러가 ON 상태로 유지되고, 나머지의 거리를 노광 영역(EA)이 이동하는 동안, 각 마이크로 미러는 OFF 상태에 있다.
1개의 주사 밴드(SB)를 따라 주사가 종료되면, Y방향(부 주사방향)으로 X-Y 스테이지(18)가 거리 D만큼 이동하고, 다음의 주사 밴드를 상대이동해 간다(도 3 참조). 노광 영역(EA)이 왕복하면서 모든 주사 밴드를 주사하면, 묘화 처리가 종료된다. 묘화 처리 후에는, 현상 처리, 에칭 또는 도금, 레지스트 박리 처리 등이 시행되어, 회로 패턴이 형성된 기판이 제조된다.
도 4는 묘화 시스템의 블럭도이다.
묘화 제어부(30)의 제어 유닛(30A)은 시스템 컨트롤 회로(32), DMD 제어부(34), 스테이지 위치 제어부(38), 얼라인먼트 마크 검출부(40), 데이터 연산부(42), 광원 제어부(44)를 구비하고, CPU, RAM, ROM 등을 포함하는 시스템 컨트롤 회로(32)는 묘화 장치(10) 전체를 제어하고, 광원(21)으로부터 광을 방출하기 위해서 광원 제어부(44)에 제어신호를 보냄과 아울러, DMD 제어부(34)에 대해 노광 타이밍을 제어하기 위한 제어신호를 출력한다. DMD 제어부(34)는 미리 ROM에 격납된 묘화 처리용 프로그램에 따라 DMD(22)를 제어한다.
회로 패턴 데이터는 벡터 데이터(CAM 데이터)로서 워크스테이션(도시 생략)으로부터 제어 유닛(30A)의 데이터 입력부(41)에 입력되고, 일시적으로 메모리인 데이터 버퍼(43)에 기억된다. 패턴 데이터가 데이터 연산부(42)에 보내지면, 벡터 데이터가 래스터 주사에 따른 래스터 데이터로 변환되어, DMD 제어부(34)로 보내진다. 벡터 데이터는 묘화 패턴의 위치 좌표 정보를 가진 데이터이고, X-Y 좌표계에 기초한 위치 좌표의 데이터를 갖는다. 래스터 데이터는 마이크로 미러의 ON/OFF 중 어느 하나를 나타내는 2치화 데이터이고, 회로 패턴의 2차원 도트 패턴으로서 표시된다.
DMD 제어부(34)에서는 래스터 데이터가 노광 영역(EA)의 상대위치에 맞추어 소정의 타이밍으로 차례차례 읽어 내진다. 즉, 읽어 내진 2차원 도트 데이터와 스테이지 위치 제어부(38)로부터 보내져 오는 노광 영역(EA)의 상대 위치 정보에 기초하여 마이크로 미러를 ON/OFF 제어하는 제어 신호가 DMD(22)에 출력된다. 스테이지 위치 제어부(38)는 모터(도시 생략)를 구비한 X-Y 스테이지 구동기구(19)를 제어하고, 이것에 의해 X-Y 스테이지(18)의 이동속도 등이 제어된다. 또, 스테이지 위치 제어부(38)는 노광 영역(EA)의 X-Y 스테이지(18)에 대한 상대적 위치를 검출한다.
CCD(13)로부터 읽어 내진 얼라인먼트 구멍(AM)의 검출신호가 얼라인먼트 마크 검출부(40)에 송신됨으로써 얼라인먼트 구멍(AM)의 위치정보가 검출되고, 얼라인먼트 구멍(AM)의 위치 정보는 데이터 버퍼(43)를 통하여 데이터 연산부(42)에 보내진다. 데이터 연산부(42)에서는, 얼라인먼트 구멍(AM)의 위치정보에 기초하여 벡터 데이터의 위치 좌표를 보정하고, 보정된 벡터 데이터에 기초하여 래스터 데이터가 생성된다.
도 5, 도 6은 묘화 위치의 보정 처리 프로세스를 도시한 도면이다.
기판(SW)의 1개의 묘화 영역(GR) 내에 얼라인먼트 구멍을 형성할 때, X-Y 좌표계를 따라 평행한 직사각형(Z0)(기준 직사각형)의 정점을 구성하도록, 4개의 얼라인먼트 구멍(AM01∼AM04)이 위치결정된다. 여기에서는, 직사각형(Z0)을 1점쇄선으로 나타내고 있다.
포토레지스트를 도포한 기판(SW)을 X-Y 테이블(18)에 놓고 묘화 처리를 행할 때, 열 등의 원인에 의해 기판(SW)이 변형되어, 얼라인먼트 구멍(AM01∼AM04)의 위치가 벗어난다. 여기에서는, X-Y 좌표계로부터 본 변형 후의 얼라인먼트 구멍(이하에서는, 계측 얼라인먼트 구멍이라고 함)을 부호 「AM1∼AM4」로 나타내고, 계측 얼라인먼트 구멍(AM1∼AM4)을 정점으로 하여 구성되는 사각형(Z)(변형 직사각형)을 파선으로 나타낸다.
본 실시형태에서는, 직사각형(Z0)의 각 변의 방향, 즉 X방향, Y방향을 따른 기판(SW)의 변형량을 고려하고, 묘화 데이터의 위치 좌표를 보정한다. 우선, 장방형인 직사각형(Z0)과 변형된 사각형(Z)에 기초하여 마주 대하는 변을 따른 2개의 사다리꼴을 구성한다.
기준 직사각형(Z0)의 X방향을 따라 평행한 1쌍의 변 TA1, TA2를 통과하는 직선과, 계측 얼라인먼트 구멍 AM2, AM3 및 계측 얼라인먼트 구멍 AM1, AM4를 각각 통과하고, 기준 직사각형(Z0)의 Y방향을 따라 평행한 1쌍의 변 TB1, TB2에 대응하는 1쌍의 변 SB1, SB2를 통과하는 직선과의 교점을 Q1, Q2, Q3, Q4라고 하고, 평행한 1쌍의 변 TA1, TA2 상에 상바닥, 하바닥을 갖고, Q1, Q2, Q3, Q4를 정점으로 하는 사다리꼴(SQ1)을 규정한다(실선으로 나타냄).
마찬가지로, 기준 직사각형(Z0)의 Y방향에 따라 평행한 1쌍의 변 TB1, TB2를 통과하는 직선과, 계측 얼라인먼트 구멍 AM1, AM2 및 계측 얼라인먼트 구멍 AM4, AM3를 각각 통과하고, 기준 직사각형(Z0)의 X방향을 따라 평행한 1쌍의 변 TA1, TA2에 대응하는 1쌍의 변 SA1, SA2를 통과하는 직선과의 교점을 R1, R2, R3, R4로 하고, 평행한 1쌍의 변 TB1, TB2 상에 상바닥, 하바닥을 갖고, R1, R2, R3, R4를 정점으로 하는 사다리꼴(SQ2)(실선으로 나타냄)을 규정한다.
도 6에 도시하는 바와 같이, 묘화 영역(GR) 내의 임의의 묘화 데이터의 위치 좌표에 따른 묘화 위치 PD에 관하여, X방향의 묘화 위치가 기준 직사각형(Z0)의 X 방향을 따른 1쌍의 변 TB1, TB2로부터의 거리의 비 m:n의 위치일 경우, 기판(SW)의 변형 후의 묘화 데이터의 X방향을 따른 위치 PD'x를 사각형(Z)의 1쌍의 변 SB1, SB2로부터의 거리의 비가 m:n으로 되는 위치에 설정한다.
동일하게, Y방향의 묘화 위치가 기준 직사각형(Z0)의 X방향을 따른 1쌍의 변 TA1, TA2로부터의 거리의 비 M:N의 위치인 경우, 기판(SW)의 변형 후의 X방향을 따른 위치 PD'y를 사각형(Z)의 1쌍의 변 SA1, SA2로부터의 거리의 비가 M:N이 되는 위치에 설정한다.
그리고, 구해진 묘화 데이터의 X방향의 위치 PD'x, Y방향의 위치 PD'y에 기초하여 묘화 데이터의 기판 변형 후의 위치 PD'(PD'x, PD'y)을 보정 위치로서 설정한다(도 6 참조). 묘화 데이터의 보정 위치 PD'은 원래의 위치 PD에서의 X방향, Y방향에 따른 기판(SW)의 변형방향, 변형량에 의존한다.
도 7은 묘화 처리의 플로차트이다. 도 8은 설정된 얼라인먼트 구멍과 계측 얼라인먼트 구멍의 좌표를 도시한 도면이다. 도 9는 보정 후의 묘화 데이터의 위치 PP를 도시한 도면이다.
스텝 S101에서는, 워크스테이션 등으로부터 묘화 데이터인 벡터 데이터가 묘화 시스템(30)에 송신되어, 데이터 버퍼(43)에 일시적으로 격납된다. 스텝 S102에서는, 얼라인먼트 마크 검출부(40)에 있어서, 계측된 얼라인먼트 구멍의 위치 좌표가 검출된다. 그리고, 스텝 S103에서는, 계측된 얼라인먼트 구멍의 위치 좌표에 기초하여, 이하에 나타내는 계산 처리가 실행된다.
도 8에 도시하는 바와 같이, 변형 전의 기준 얼라인먼트 구멍의 위치 좌표 를, H0(xh0, yh0), H1(xh1, yh1), H2(xh2, yh2), H3(xh3, yh3)라고 하고, 변형 후의 계측 얼라인먼트 구멍의 위치 좌표를 M0(xm0, ym0), M1(xm1, ym1), M2(xm2, ym2), M3(xm3, ym3)라고 하면, 얼라인먼트 구멍 H3, H0를 연결하는 직선과 Y좌표 상의 절편 "b03"는 yh0가 되고, 얼라인먼트 구멍 H1, H2를 연결하는 직선과 Y좌표 상의 절편 "b12"는 yh1이 된다. 또, 얼라인먼트 구멍 H2, H3를 연결하는 직선과 X좌표 상의 절편 "b23"은 xh2가 되고, 얼라인먼트 구멍 H1, H0를 연결하는 직선과 X좌표 상의 절편 b10은 xh1이 된다.
한편, 변형 후의 계측 얼라인먼트 구멍 M3, M0를 통과하는 직선의 경사 A03와 Y좌표 상의 절편 B03는 각각 이하의 식에 의해 구해진다.
A03=(ym0-ym3)/(xm0-xm3) ··(1)
B03=ym0-A03×xm0 ··(2)
마찬가지로, 계측 얼라인먼트 구멍 M1, M2를 통과하는 직선의 경사 A12와 Y좌표 상의 절편 B12는 각각 이하의 식에 의해 구해진다.
A12=(ym1-ym2)/(xm1-xm2) ··(3)
B12=ym1-A12×xm1 ··(4)
또한, 변형 후의 계측 얼라인먼트 구멍 M2, M3를 통과하는 직선의 경사 A23과 X좌표 상의 절편 B23은 각각 이하의 식에 의해 구해진다. 단, 여기에서는 X좌표에 대한 경사를 구하고 있다.
A23=(xm2-xm3)/(ym2-ym3) ··(5)
B23=xm2-A23×ym2 ··(6)
마찬가지로, 변형 후의 계측 얼라인먼트 구멍 M1, M0를 통과하는 직선의 경사 A10과 X좌표 상의 절편 B10은 각각 이하의 식에 의해 구해진다.
A10=(xm1-xm0)/(ym1-ym0) ··(7)
B10=xm1-A10×ym1 ··(8)
스텝 S103이 실행되면, 스텝 S104로 진행된다.
스텝 S104에서는, 이하에 나타내는 계산 처리에 의해 묘화 데이터의 위치 좌표가 보정되고, 보정된 묘화 데이터가 데이터 버퍼(43)에 격납된다.
보정 전의 묘화 데이터의 위치 좌표를 P(x, y), 보정 후의 묘화 데이터의 위치 좌표를 PP(x', y')로 한다. 또, P(x, y)를 통과한 X축에 평행한 직선과 변형 전의 얼라인먼트 구멍 H2, H3를 통과하는 직선 및 얼라인먼트 구멍 H1, H0를 통과하는 직선과의 교점을, 각각 Ph1(xh1, y), Phr(xhr, y)이라고 하고, P(x, y)를 통과한 Y축에 평행한 직선과 변형 전의 얼라인먼트 구멍 M2, M3를 통과하는 직선 및 얼라인먼트 구멍 M1, M0를 통과하는 직선과의 교점을, 각각 Pm1(xm1, y), Pmr(xmr, y)이라고 하면, 보정 후의 묘화 데이터의 X좌표 x'은 이하의 식으로 구해진다.
x'=(x-xh1)×xsc＋xm1 ··(9)
단, xh1=b23 ··(10)
xhr=b10 ··(11)
xm1=A23×y＋B23 ··(12)
xsc=(xmr-xm1)/(xhr-xh1) ··(13)
또한, xsc는 묘화 데이터의 위치 좌표 P의 X방향에 따른 기준 직사각형과 변 형 직사각형의 스케일비를 나타낸다.
마찬가지로, P(x, y)를 통과하고 Y축에 평행한 직선과 변형 전의 얼라인먼트 구멍 H3, H0를 통과하는 직선 및 얼라인먼트 구멍 H2, H1을 통과하는 직선과의 교점을, 각각 Phd(x, yhd), Phh(x, yhu)라고 하고, P(x, y)를 통과하여 Y축에 평행한 직선과 변형 전의 얼라인먼트 구멍 M3, M0를 통과하는 직선 및 얼라인먼트 구멍 M2, M1을 통과하는 직선과의 교점을 각각 Pmd(x, ymd), Pmh(x, ymu)라고 하면, 보정 후의 묘화 데이터의 Y좌표 y'은 이하의 식으로 구해진다.
y=(y-yhd)ysc＋ymd ··(14)
단,
yhd=b03 ··(15)
yhu=b12 ··(16)
ymd=A03×x＋BO3 ··(17)
ymu=A12×x＋B12 ··(18)
ysc=(ymu-ymd)/(xhu-xhd) ··(19)
또, ysc는 묘화 데이터의 위치 좌표 P의 Y방향에 따른 기준 직사각형과 변형 직사각형의 스케일비를 나타낸다.
이러한 묘화 데이터의 위치 보정이 각 묘화 데이터에 대해 시행된다. 그리고, 스텝 S105에서는, 보정된 벡터 데이터에 기초하여 래스터 데이터가 생성되고, 래스터 데이터에 기초하여 DMD(22)가 ON/OFF 제어된다.
이상과 같이 본 실시형태에 의하면, 묘화 데이터의 위치 좌표, 즉 묘화 위치 가 기준 직사각형(Z0)의 1쌍의 변 TA1, TA2 및 1쌍의 변 TB1, TB2로부터의 거리의 비(m:n 및 M:N)를 유지하도록, 변형 후의 사각형(Z)의 1쌍의 변 TA1, TA2 및 1쌍의 변 TB1, TB2에 대하여, X, Y 방향을 따라 이동된다. 이것에 의해, 그 묘화 위치의 기판의 변형 방향, 변형량과 같은 변형상태에 적합한 위치로 보정할 수 있어, 묘화영역의 각 묘화 위치가 기판의 변형에 맞추어서 적절하게 보정된다.
벡터 데이터 이외의 묘화 데이터에 기초하여 보정을 행해도 된다. 또한 DMD 이외의 LCD와 같은 광변조 소자를 적용해도 된다. 게다가, AOM 등의 광변조 소자로 레이저빔을 주사시키는 묘화 장치에 적용해도 된다. 묘화 위치에 관해서는, 묘화영역 내에 한정되지 않고, 영역외 이어도 가능하다. 이 경우, 1쌍의 변으로부터의 거리의 내분비 대신, 외분비를 사용하면 된다.
4개의 얼라인먼트 구멍을 직사각형의 정점 위치로부터 비켜놓아 설정해도 된다. 이 경우, (1)∼(4)식에서, H1∼H4를 연결하는 직선의 X, Y 방향에 대한 경사를 고려한다. XY 좌표에 평행하지 않은 직사각형에 대해서도, 좌표 변화 등에 의해 보정 처리 해도 된다.
본 발명에 의하면, 기판 등의 피묘화체의 변형에 따라 묘화 위치를 적절하게 보정하여, 정밀도 좋게 묘화 패턴을 형성할 수 있다.

Claims (8)

  1. 광원과,
    피묘화체에 대해 규정되는 좌표계에 기초한 위치 좌표를 갖는 묘화 데이터에 따라, 광원으로부터의 조명광을 변조하는 적어도 1개의 광변조 소자와,
    마주 대하는 제 1의 1쌍의 기준 변과 제 2의 1쌍의 기준 변으로 이루어지는 기준 직사각형의 정점을 구성하도록 상기 피묘화체에 설정된 4개의 계측용 지표의 위치를 피묘화체가 변형된 상태에서 계측가능한 계측 수단과,
    계측된 상기 4개의 계측용 지표를 정점으로 하고, 상기 제 1의 1쌍의 기준 변에 대응하는 제 1의 1쌍의 변동 변과 상기 제 2의 1쌍의 기준 변에 대응하는 제 2의 1쌍의 변동 변으로 구성되는 변형 직사각형에 기초하여 묘화 위치를 규정하는 묘화 데이터의 위치 좌표를 보정하고, 보정 묘화 데이터를 생성하는 보정 수단과,
    보정 묘화 데이터에 기초하여 묘화 패턴을 형성하도록 상기 광변조 소자를 제어하는 묘화 처리 수단을 구비하고,
    상기 제 1 및 제 2의 1쌍의 기준 변이 상기 좌표계를 규정하는 서로 직교인 제 1, 제 2의 축에 각각 평행하게 되도록 상기 4개의 계측용 지표가 설정되고,
    상기 보정 수단이, 상기 제 1의 1쌍의 기준 변으로부터 제 2의 축을 따른 묘화 위치까지의 거리의 비가 M:N인 경우, 제 2의 축을 따른 묘화 위치를 통과하는 직선상에서 상기 제 1의 1쌍의 변동 변으로부터 제 2의 축을 따른 거리의 비가 M:N이 되는 위치의 제 2의 축의 위치 좌표를 상기 묘화 데이터의 제 2의 축의 보정 위치 좌표로 하고, 또한 상기 제 2의 1쌍의 기준 변으로부터 제 1의 축을 따른 묘화 위치까지의 거리의 비가 m:n인 경우, 제 1의 축을 따른 묘화 위치를 통과하는 직선상에서 상기 제 2의 1쌍의 변동 변으로부터 제 1의 축을 따른 거리의 비가 m:n이 되는 위치의 제 1의 축의 위치 좌표를 상기 묘화 데이터의 제 1의 축의 보정 위치 좌표로 하고, 제 1의 축, 제 2의 축에 관하여 별도로 상기 묘화 데이터의 위치 좌표를 보정하는 것을 특징으로 하는 묘화 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 보정 수단이 상기 제 1의 1쌍의 기준 변을 통과하는 직선과 상기 제 2의 1쌍의 기준 변을 통과하는 직선과의 교점을 정점으로 하고, 상기 제 1의 1쌍의 기준 변 상에 상바닥, 하바닥을 갖는 사다리꼴을 규정하여 상기 묘화 데이터의 제 1의 축의 위치 좌표를 보정하고, 상기 제 2의 1쌍의 기준 변을 통과하는 직선과 상기 제 1의 1쌍의 기준 변을 통과하는 직선과의 교점을 정점으로 하고, 상기 제 2의 1쌍의 기준 변 상에 상바닥, 하바닥을 갖는 사다리꼴을 규정하여 상기 묘화 데이터의 제 2의 축의 위치 좌표를 보정하는 것을 특징으로 하는 묘화 시스템.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 광변조 소자가 이차원적으로 규칙적으로 배열된 복수의 광변조 소자로 구성되는 것을 특징으로 하는 묘화 시스템.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 묘화 데이터가 벡터 데이터인 것을 특징으로 하는 묘화 시스템.
  5. 마주 대하는 제 1의 1쌍의 기준 변과 제 2의 1쌍의 기준 변으로 이루어지는 기준 직사각형의 정점을 구성하도록 피묘화체에 설정된 4개의 계측용 지표의 위치를 피묘화체가 변형된 상태에서 계측가능한 계측 수단과,
    계측된 상기 4개의 계측용 지표를 정점으로 하고, 상기 제 1의 1쌍의 기준 변에 대응하는 제 1의 1쌍의 변동 변과 상기 제 2의 1쌍의 기준 변에 대응하는 제 2의 1쌍의 변동 변으로 구성되는 변형 직사각형에 기초하여 묘화 위치를 규정하는 묘화 데이터의 위치 좌표를 보정하고, 보정 묘화 데이터를 생성하는 보정 수단을 구비하고,
    상기 제 1 및 제 2의 1쌍의 기준 변이 좌표계를 규정하는 서로 직교인 제 1, 제 2의 축에 각각 평행하게 되도록 상기 4개의 계측용 지표가 설정되고,
    상기 보정 수단이, 상기 제 1의 1쌍의 기준 변으로부터 제 2의 축을 따른 묘화 위치까지의 거리의 비가 M:N인 경우, 제 2의 축을 따른 묘화 위치를 통과하는 직선상에서 상기 제 1의 1쌍의 변동 변으로부터 제 2의 축을 따른 거리의 비가 M:N이 되는 위치의 제 2의 축의 위치 좌표를 상기 묘화 데이터의 제 2의 축의 보정 위치 좌표로 하고, 또한 상기 제 2의 1쌍의 기준 변으로부터 제 1의 축을 따른 묘화 위치까지의 거리의 비가 m:n인 경우, 제 1의 축을 따른 묘화 위치를 통과하는 직선상에서 상기 제 2의 1쌍의 변동 변으로부터 제 1의 축을 따른 거리의 비가 m:n이 되는 위치의 제 1의 축의 위치 좌표를 상기 묘화 데이터의 제 1의 축의 보정 위치 좌표로 하고, 제 1의 축, 제 2의 축에 관하여 별도로 상기 묘화 데이터의 위치 좌표를 보정하는 것을 특징으로 하는 묘화 데이터 보정 장치.
  6. 컴퓨터 프로그램이 기록된 컴퓨터 판독가능 기록매체로서, 상기 컴퓨터 프로그램은
    마주 대하는 제 1의 1쌍의 기준 변과 제 2의 1쌍의 기준 변으로 이루어지는 기준 직사각형의 정점을 구성하도록 피묘화체에 설정된 4개의 계측용 지표의 위치를 피묘화체가 변형된 상태에서 계측하기 위한 컴퓨터 프로그램 코드;
    계측된 상기 4개의 계측용 지표를 정점으로 하고, 상기 제 1의 1쌍의 기준 변에 대응하는 제 1의 1쌍의 변동 변과 상기 제 2의 1쌍의 기준 변에 대응하는 제 2의 1쌍의 변동 변으로 구성되는 변형 직사각형에 기초하여, 묘화 위치를 규정하는 묘화 데이터의 위치 좌표를 보정하고, 보정 묘화 데이터를 생성하기 위한 컴퓨터 프로그램 코드; 및
    상기 제 1 및 제 2의 1쌍의 기준 변이 좌표계를 규정하는 서로 직교인 제 1, 제 2의 축에 각각 평행하게 되도록 상기 4개의 계측용 지표가 설정되고, 상기 제 1의 1쌍의 기준 변으로부터 제 2의 축을 따른 묘화 위치까지의 거리의 비가 M:N인 경우, 제 2의 축을 따른 묘화 위치를 통과하는 직선상에서 상기 제 1의 1쌍의 변동 변으로부터 제 2의 축을 따른 거리의 비가 M:N이 되는 위치의 제 2의 축의 위치 좌표를 상기 묘화 데이터의 제 2의 축의 보정 위치 좌표로 하고, 또한 상기 제 2의 1쌍의 기준 변으로부터 제 1의 축을 따른 묘화 위치까지의 거리의 비가 m:n인 경우, 제 1의 축을 따른 묘화 위치를 통과하는 직선상에서 상기 제 2의 1쌍의 변동 변으로부터 제 1의 축을 따른 거리의 비가 m:n이 되는 위치의 제 1의 축의 위치 좌표를 상기 묘화 데이터의 제 1의 축의 보정 위치 좌표로 하고, 제 1의 축, 제 2의 축에 관하여 별도로 상기 묘화 데이터의 위치 좌표를 보정하기 위한 컴퓨터 프로그램 코드;
    를 포함하는 컴퓨터 판독가능 기록매체.
  7. 마주 대하는 제 1의 1쌍의 기준 변과 제 2의 1쌍의 기준 변으로 이루어지는 기준 직사각형의 정점을 구성하도록 피묘화체에 설정된 4개의 계측용 지표의 위치를 피묘화체가 변형된 상태에서 계측하고,
    계측된 상기 4개의 계측용 지표를 정점으로 하고, 상기 제 1의 1쌍의 기준 변에 대응하는 제 1의 1쌍의 변동 변과 상기 제 2의 1쌍의 기준 변에 대응하는 제 2의 1쌍의 변동 변으로 구성되는 변형 직사각형에 기초하여 묘화 데이터의 위치 좌표를 보정하고, 보정 묘화 데이터를 생성하는 묘화 데이터 보정 방법으로서,
    상기 제 1 및 제 2의 1쌍의 기준 변이 좌표계를 규정하는 서로 직교인 제 1, 제 2의 축에 각각 평행하게 되도록 상기 4개의 계측용 지표가 설정되고,
    보정 수단이, 상기 제 1의 1쌍의 기준 변으로부터 제 2의 축을 따른 묘화 위치까지의 거리의 비가 M:N인 경우, 제 2의 축을 따른 묘화 위치를 통과하는 직선상에서 상기 제 1의 1쌍의 변동 변으로부터 제 2의 축을 따른 거리의 비가 M:N이 되는 위치의 제 2의 축의 위치 좌표를 상기 묘화 데이터의 제 2의 축의 보정 위치 좌표로 하고, 또한 상기 제 2의 1쌍의 기준 변으로부터 제 1의 축을 따른 묘화 위치까지의 거리의 비가 m:n인 경우, 제 1의 축을 따른 묘화 위치를 통과하는 직선상에서 상기 제 2의 1쌍의 변동 변으로부터 제 1의 축을 따른 거리의 비가 m:n이 되는 위치의 제 1의 축의 위치 좌표를 상기 묘화 데이터의 제 1의 축의 보정 위치 좌표로 하고, 제 1의 축, 제 2의 축에 관하여 별도로 상기 묘화 데이터의 위치 좌표를 보정하는 것을 특징으로 하는 묘화 데이터 보정 방법.
  8. 1) 블랭크스인 기판에 감광 재료를 도포하고,
    2) 도포된 기판에 대하여 묘화 처리를 실행하고,
    3) 묘화 처리된 기판에 대하여 현상 처리를 하고,
    4) 현상 처리된 기판에 대하여 에칭 또는 도금 처리를 하고,
    5) 에칭 또는 도금 처리된 기판에 대하여 감광 재료의 박리 처리를 하는 기판의 제조방법으로서,
    묘화 처리에서, 제 7 항에 기재된 묘화 데이터 보정 방법에 의해 묘화 데이터를 보정하는 것을 특징으로 하는 기판의 제조방법.
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