JP2005003762A - 画素位置特定方法、画像ずれ補正方法、および画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】マルチヘッド露光装置において、各露光ヘッドによって形成される画像間のずれを小さくする。
【解決手段】第１の露光ヘッドの繋ぎ目付近の第１特定画素をｏｎし、スリットを設けたビーム位置検出手段をＹ軸方向に沿って移動させ、前記スリットを透過する露光ビームの光量から露光ビームの位置を検出して前記第１特定画素の位置を特定し、第２の露光ヘッドの繋ぎ目付近の第２特定画素をｏｎし、前記ビーム位置検出手段をＹ軸方向に移動させ、前記スリットを透過する露光ビームの光量から露光ビームの位置を検出して前記第２特定画素の位置を特定する画素位置特定方法、画像ずれ補正方法、画像形成装置。
【選択図】 図８
【解決手段】第１の露光ヘッドの繋ぎ目付近の第１特定画素をｏｎし、スリットを設けたビーム位置検出手段をＹ軸方向に沿って移動させ、前記スリットを透過する露光ビームの光量から露光ビームの位置を検出して前記第１特定画素の位置を特定し、第２の露光ヘッドの繋ぎ目付近の第２特定画素をｏｎし、前記ビーム位置検出手段をＹ軸方向に移動させ、前記スリットを透過する露光ビームの光量から露光ビームの位置を検出して前記第２特定画素の位置を特定する画素位置特定方法、画像ずれ補正方法、画像形成装置。
【選択図】 図８
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、画像形成装置および画像ずれ補正方法に関し、特に、複数の露光ヘッドを備える画像形成装置において露光ヘッド間の相対位置が変化してもつなぎ目の目立たない高品質の画像が形成できる画像ずれ補正方法、および前記画像ずれ補正方法により露光ヘッド間の画像のずれを補正する画像形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、画像記録装置の一例として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）等の空間光変調素子（ＳＬＭ）を利用し、画像データに応じて変調された光ビームで画像露光を行う露光装置が種々提案されている（たとえば、非特許文献１および２を参照）。このＤＭＤは、たとえばＳＲＡＭの各メモリセル上に多数の微小なマイクロミラーが設けられて構成され、各メモリセルに蓄えた電荷による静電気力でマイクロミラーの反射面の角度を変化させる。実際に描画を行うときには、各ＳＲＡＭに画像データを書き込んだ状態で各マイクロミラーをリセットして所定角度とし、光の反射方向を所望の方向とする。
【０００３】
前記露光装置の応用分野の１つとして、たとえば液晶ディスプレーなどのパネルやプリント基板の製造がある。
【０００４】
パネルやプリント基板の製造用の露光装置としては、露光範囲を広げる目的で、前記ＤＭＤを有する露光ヘッドを、前記基板などの感光材料の送り方向に交差する方向に沿って複数配列したマルチヘッド露光装置がある。
【０００５】
前記マルチヘッド露光装置においては、各ヘッド間の相対位置は、つなぎ目が実用上問題にならない程度に高精度に調整されている。
【０００６】
【非特許文献１】
Ｌａｒｒｙ Ｊ． Ｈｏｒｎｂｅｃｋ， Ｄｉｇｉｔａｌ Ｌｉｇｈｔ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ ａｎｄ ＭＥＭＳ： ｒｅｆｌｅｃｔｉｎｇ ｔｈｅ ｄｉｇｉｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ ｎｅｅｄｓ ｏｆ ｔｈｅ ｎｅｔｗｏｒｋｅｄ ｓｏｃｉｅｔｙ， ＴＨＥ ＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬ ＳＯＣＩＥＴＹ ＦＯＲ ＯＰＴＩＣＡＬ ＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ， Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ＳＰＩＥ Ｖｏｌｕｍｅ： ２７８３， ８／１９９６， Ｐ．２−１３
【非特許文献２】
Ｗ．Ｅ．Ｎｅｌｓｏｎ ａｎｄ Ｒｏｂｉｔ Ｌ Ｂｈｕｖａ，． Ｄｉｇｉｔａｌ ｍｉｃｒｏｍｉｒｒｏｒ ｄｅｖｉｃｅ ｉｍａｇｉｎｇ ｂａｒ ｆｏｒ ｈａｒｄ ｃｏｐｙ， ＴＨＥ ＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬ ＳＯＣＩＥＴＹ ＦＯＲ ＯＰＴＩＣＡＬ ＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ， Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ＳＰＩＥ Ｖｏｌｕｍｅ： ２４１３， ４／１９９５， Ｐ．５８−６５
【特許文献１】
特開平１０−３１１７０号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年、基板の集積度が高くなるにつれて、さらに高い解像度が要求されるようになってきたので、各露光ヘッドに対応する画像の相対位置のずれの許容値が小さくなってきた。
【０００８】
さらに、前記露光ヘッドにおいては、光源から結像面にいたるまでに数多くの光学部材や機構部材などが使用されているので、温度変化による熱膨張や熱収縮、および長期間使用による経時変化の蓄積により、各露光ヘッドにより形成される画像が、つなぎ目において無視できない程度のずれを起こし、画像品質が低下するという問題もあった。
【０００９】
前記マルチヘッド露光装置と同様の目的に使用されるマルチビーム露光装置においては、ＰＳＤ（ｐｏｓｉｔｉｏｎ−ｓｅｎｓｉｎｇ ｄｅｖｉｃｅ、位置検出装置）や４分割ディテクタなどの位置検出素子によって各ビームの位置を検出し、各ビームによって形成される画像間のずれを補正する方法が提案されている（特許文献１）。
【００１０】
しかしながら、マルチヘッド露光装置においては、露光ヘッドの間隔は、隣接ビームの間隔に比べて圧倒的に大きいので、前記特許文献１に記載の方法をマルチヘッド露光装置に適用することは困難である。
【００１１】
本発明は、上記問題を解決すべく成されたもので、前記マルチヘッド露光装置において、各露光ヘッドによって形成される画像間のずれが極めて小さい露光装置および前記露光装置で行うことのできる画像ずれ補正方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を有する複数の露光ヘッドを一定方向に走査して画像を形成する画像形成装置において、各露光ヘッドの露光ビームの位置を測定して前記露光ヘッドの繋ぎ目の画素位置を特定する画素位置特定方法であって、前記走査方向に対して平行なＹ軸方向に沿って基準面上を移動可能に形成され、前記露光ヘッドの画素配列に対して相対的に斜めであって互いに交差するように配設された少なくとも１対のスリット部と前記スリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段を用いて前記露光ビームの位置を測定するとともに、第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第１特定画素をｏｎして前記ビーム位置検出手段をＹ軸方向に沿って移動させ、前記スリット部の一方および他方を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置と前記スリット部の位置と前記スリット部が互いになす角度とに基いて前記第１特定画素の位置を特定する第１画素位置特定ステップと、第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第２特定画素をｏｎして前記ビーム位置検出手段をＹ軸方向に沿って移動させ、前記スリット部の一方および他方を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置と前記スリット部のなす角度とに基いて前記第２特定画素の位置を特定する第２画素位置特定ステップとを有することを特徴とする画素位置特定方法に関する。
【００１３】
前記画素位置特定方法においては、前述のように、前記露光ヘッドの画素配列に対して相対的に斜めであって互いに交差するように配設されたスリット部が少なくとも１対形成されたビーム位置検出手段をＹ軸方向に移動させて第１特定画素および第２特定画素を検出している。
【００１４】
たとえば、前記ビーム位置検出手段が第１特定画素の下方を通過すると、前記１対のスリット部の一方を透過する露光ビームの光量がピークに達した後、前記１対のスリット部の他方を透過する露光ビームの光量がピークに達する。
【００１５】
したがって、前記一方のスリット部において露光ビームの透過光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置と、前記他方のスリット部において露光ビームの透過光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置と前記一方および他方のスリット部のなす角度とに基いて前記第１特定画素の位置を特定できる。これは第２特定画素についても同様である。ここで、前記ビーム位置検出手段の位置としては、前記ビーム位置検出手段上のある特定の点の位置を採ることができるが、通常は、前記スリット部の交点の位置を基準にする。
【００１６】
更に、通常、露光ヘッドから前記基準面に直角に露光ビームが照射されるから、露光ヘッドのある画素を点灯したとき、前記基準面上の露光ビームの照射位置は、前記画素の位置と等しくなる。したがって、前記第１画素位置特定ステップおよび第２画素位置特定ステップにおいては、前記ビーム位置検出手段で検出した露光ビームの位置を第１または第２特定画素の位置とすることができる。
【００１７】
前記画素位置特定方法によれば、このようにして第１特定画素および第２特定画素の実際の位置を高精度で特定できる。したがって、何らかの理由により、第１露光ヘッドと第２露光ヘッドとの間に位置のずれが生じた場合においても、前記画素位置特定方法で特定した第１特定画素および第２特定画素の位置を元に露光ヘッドの露光タイミングを制御することにより、露光ヘッド間の画像のずれや重なりを除去できる。
【００１８】
前記画素位置特定方法においては、前記光量測定手段は、前記スリット部を透過する露光ビームの光量を測定できればよいから、通常の受光素子で充分である。したがって、前記露光ビームの位置を検出するのに、２次元ＰＳＤや４分割ディテクタなどの高価な位置検出素子を使用する必要がないから、ビーム位置検出手段を安価に構成できる。
【００１９】
また、従来の技術の欄で述べたマルチヘッド露光装置は、通常、露光しようとする基板を載置して一定方向に送る露光ステージを有し、前記露光ステージは、リニアエンコーダなどによって高精度に送り方向、即ちＹ軸方向の位置が検出される。
【００２０】
したがって、前記露光ステージの非露光面に前記ビーム位置検出手段を固定し、前記露光ステージを前記送り方向に送りつつ、前記リニアエンコーダで位置検出すれば、前記ビーム位置検出手段の位置も高精度で検出できるから、前記第１特定画素および第２特定画素の実際の位置も高精度で特定できる。
【００２１】
このように前記画素位置特定方法は、従来のマルチヘッド露光装置を殆どそのまま利用して前記第１特定画素および第２特定画素の位置の特定を高精度で行うことができるという特長を有する。
【００２２】
更に、前記画素位置特定方法によれば、Ｙ軸方向即ち走査方向に沿ってビーム位置検出手段を移動させて第１特定画素および第２特定画素を選択し、位置を特定しているから、第２特定画素として第１特定画素とのＸ座標の差の少ない画素を選択できる。
【００２３】
したがって、前記第１特定画素と第２特定画素との露光タイミングを制御してＹ軸方向のずれを除去するだけで、第１露光ヘッドと第２露光ヘッドとの間の画像のずれを解消できる。
【００２４】
前記スリット部としては、スリットのほか、回折格子も使用できる。
【００２５】
前記画素位置特定方法においては、前記ビーム位置検出手段には、前記スリット部をＸ軸方向に向かって開くＶ字型、Ｘ字型、またはＴ字型に配設できる。
【００２６】
請求項２に記載の発明は、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を有する複数の露光ヘッドを一定方向に走査して画像を形成する画像形成装置において、各露光ヘッドの露光ビームの位置を測定して前記露光ヘッドの繋ぎ目の画素位置を特定する画素位置特定方法であって、前記露光ヘッドの画素配列に対して相対的に斜めであって一方が前記露光装置の走査方向に対して平行なＹ軸に沿って配設され、他方がＹ軸方向に直交するＸ軸方向に沿って配設された少なくとも１対のスリット部と前記スリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段を用いて前記露光ビームの位置を測定するとともに、第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の画素を順次ｏｎし、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の一方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の他方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記２つの画素のＹ座標の差とから第１特定画素の位置を特定する第１画素位置特定ステップと、前記ビーム位置検出手段をＹ軸方向に沿って移動させて第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の下方に位置させるとともに、第２の露光ヘッドの画素を順次ｏｎし、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の一方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の他方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記２つの画素のＹ座標の差とから前記第２特定画素の位置を特定する第２画素位置特定ステップとを有することを特徴とする画素位置特定方法に関する。
【００２７】
前記画素位置特定方法においては、ビーム位置検出手段のスリット部の一方はＹ軸方向に沿って、他方はＸ軸方向に沿って配設されているとともに、露光ヘッドの画素配列に対しては傾斜している。
【００２８】
第１の露光ヘッドの繋ぎ目近傍の画素を行方向に順次点灯させてＹ軸方向に沿ったスリット部を透過する露光ビームの光量を検出し、前記光量がピークに達したときに点灯していた画素を第１特定画素として選定する。そして、前記第１特定画素の近傍の画素を、列方向に沿って順次点灯させ、Ｘ軸方向に沿ったスリット部を透過する露光ビームの光量を測定し、前記光量がピークに達したときに点灯していた画素を、第１特定画素のＹ軸方向の位置を特定するための補助画素として選定する。
【００２９】
第１特定画素と補助画素とが選定されたら、補助画素のＹ座標と、前記補助画素と第１特定画素とのＹ座標の差とから、第１特定画素のＹ座標を特定する。
【００３０】
次に、必要に応じて前記ビーム検出手段をＹ軸方向に移動させ、第２の露光ヘッドの繋ぎ目近傍の画素を行方向に順次点灯させて第１特定画素の場合と同様の手順に従って第２特定画素と第１特定画素のＹ軸方向の位置を特定するための補助画素とを選定し、前記補助画素のＹ座標と、前記補助画素と第２特定画素とのＹ座標の差とから、第２特定画素のＹ座標を特定する。
【００３１】
前記画素位置特定方法は、請求項１に係る画素位置特定方法の有する特長に加え、前記第１画素位置特定ステップおよび第２画素位置特定ステップにおいて、前記ビーム位置検出手段を移動させること無く露光ビームの位置を特定できるという特長を有する。
【００３２】
また、前記ビーム位置検出手段はＹ軸方向に沿って移動するのみであるから、第１特定画素と第２特定画素とのＸ座標は同一である。したがって、第１特定画素と第２特定画素とのＹ軸方向に沿った距離と走査速度とに応じて第１および第２の露光ヘッドの露光タイミングを制御するだけで、第１露光ヘッドと第２の露光ヘッドとの間の画像のずれや重なりを解消できる。
【００３３】
スリット部については、請求項１で説明したとおりである。
【００３４】
請求項３に記載の発明は、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を有する複数の露光ヘッドを一定方向に走査して画像を形成する画像形成装置において、各露光ヘッドの露光ビームの位置を測定して前記露光ヘッドの繋ぎ目の画素位置を特定する画素位置特定方法であって、基準面上をＹ軸方向およびＸ軸方向に沿って移動可能に形成され、Ｙ軸方向に長い第１スリット部とＸ軸方向に長い第２スリット部と前記第１および第２のスリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段を用いて前記露光ビームの位置を測定するとともに、第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第１特定画素をｏｎし、前記ビーム位置検出手段をＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させ、前記第１スリット部および前記第２スリット部を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置に基いて前記第１特定画素の位置を特定する第１画素位置特定ステップと、第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第２特定画素をｏｎし、前記ビーム位置検出手段をＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させ、前記第１スリット部および前記第２スリット部を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置に基いて前記第２特定画素の位置を特定する第２画素位置特定ステップとを有することを特徴とする画素位置特定方法に関する。
【００３５】
前記画素位置特定方法においては、前記第１および第２画素位置特定ステップにおいて、前記ビーム位置検出手段をＸ軸方向に移動して前記第１スリット部において露光ビームを検知することにより、前記第１特定画素および前記第２特定画素のＸ軸方向の位置を求め、ビーム位置検出手段をＹ軸方向に移動して前記第２スリット部において露光ビームを検知することにより、前記第１特定画素および前記第２特定画素のＹ軸方向の位置を求める。
【００３６】
前記画素位置特定方法によれば、前記第１特定画素および前記第２特定画素がＸ軸方向にもＹ軸方向にも離れている場合においても、両者の実際の位置を正確に特定できるから、前記第１特定画素および前記第２特定画素で画像が繋がるように第１および第２の露光ヘッドを制御することにより、画像のずれを除去できる。
【００３７】
前記画素位置特定方法で使用できるビーム位置検出手段としては、たとえばマルチ露光ヘッドの露光ステージにおける非露光面に、Ｘ軸方向に高精度で移動可能な基台を有し、リニアエンコーダ頭により基台の位置が検出可能であるとともに、前記第１スリット部と第２スリット部とが前記基台上に設けられたビーム検出装置などが挙げられる。
【００３８】
請求項４に記載の方法は、一定方向に走査される複数の露光ヘッドで画像を形成する画像形成装置において、各露光ヘッド間の画像のずれおよび重なりを補正する画像ずれ補正方法であって、請求項１〜３の何れか１項に記載の画素位置特定方法により、第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第１特定画素、および第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第２特定画素の位置を特定する画素位置特定ステップと、前記画素位置特定ステップで特定された前記第１特定画素および前記第２特定画素の位置に基き、前記第１特定画素と前記第２特定画素とで画像が繋がるように前記第１の露光ヘッドおよび第２の露光ヘッドに入力される画像データを補正する画像データ補正ステップとを有することを特徴とする画像ずれ補正方法に関する。
【００３９】
前記画像ずれ補正方法においては、画素位置特定ステップにおいて第１特定画素と第２特定画素との実際の位置を特定している。
【００４０】
そして、画像データ補正ステップにおいては、前記画素位置特定ステップで特定した前記第１特定画素と第２特定画素との位置の差に基き、前記第１特定画素と第２特定画素とで画像が繋がるように前記第１の露光ヘッドおよび第２の露光ヘッドに入力される画像データを補正する。
【００４１】
したがって、前記画素位置特定方法によれば、第１の露光ヘッドと第２の露光ヘッドとが何らかの理由によって当所の位置からずれた場合においても、前記ずれに起因する露光ヘッドの繋ぎ目部分における画像のずれや重なりを効果的に除去できる。
【００４２】
請求項５に記載の発明は、前記画像データ補正ステップにおいて、前記第１特定画素と前記第２特定画素との間のＹ軸方向のずれについては、前記第１特定画素と前記第２特定画素との間のＹ軸方向の距離と前記露光ヘッドの走査速度とに応じて前記第１の露光ヘッドと前記第２の露光ヘッドとの露光タイミングを設定することにより除去するとともに、前記第１特定画素と前記第２特定画素との間のＸ軸方向のずれについては、前記第１特定画素と前記第２画素とにおいて画像データが重なるように前記第１の露光ヘッドと前記第２の露光ヘッドとに画像データを入力することにより除去する画像ずれ補正方法に関する。
【００４３】
請求項１または２の画素位置特定方法においては、第１特定画素を検出したビーム位置検出手段をＹ軸方向に移動させて第２画素を検出しているから、前記第１特定画素と前記第２特定画素は、Ｙ座標上の位置は異なるものの、Ｘ座標上の位置はほぼ等しい。
【００４４】
したがって、前記第１特定画素と前記第２画素とにおいて画像データが重なるように前記第１の露光ヘッドと前記第２の露光ヘッドとに画像データを入力するとと同時に、Ｙ軸方向のずれが生じないように第１の露光ヘッドと前記第２の露光ヘッドとの露光タイミングを設定すれば、前記第１特定画素と前記第２画素との画像のずれや重なりを無くすることができる。
【００４５】
請求項６に記載の発明は、３以上の露光ヘッドについても、前記画素位置特定ステップによってそれぞれの画像ヘッドにおける繋ぎ画素の前記基準面上の位置を特定し、前記繋ぎ画素で画像が繋がるように、前記画素位置特定ステップによって特定された繋ぎ画素の市に基いて前記露光ヘッドのそれぞれに入力される画像データを補正する画像ずれ補正方法に関する。
【００４６】
多数の露光ヘッドを有する画像形成装置においても、一の露光ヘッドと、前記一の露光ヘッドに画像が繋げられる他の露光ヘッドとの間で、請求項６または７に記載の画像ずれ補正方法で画像のずれや重なりを補正することにより、露光ヘッド間におけるずれや重なりのない良質な画像が形成される。
【００４７】
請求項７に記載の発明は、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を備えてなるとともに、画像形成面を一定方向に走査しつつ露光して画像を形成する複数の露光ヘッドを備える露光手段と、各露光ヘッドの露光ビームの位置を検出するビーム位置検出手段であって、前記走査方向に対して平行なＹ軸方向に沿って基準面上を移動可能に形成され、前記露光ヘッドの画素配列に対して相対的に斜めであって互いに交差するように配設された少なくとも１対のスリット部と前記スリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段と、前記ビーム位置検出手段によって検出された露光ビーム位置に基いて前記露光ヘッドの画素の位置を特定する画素位置特定手段と、前記画素位置特定手段で特定された画素位置に基づいて前記露光ヘッドを制御する露光制御手段とを備えてなり、前記画素位置特定手段は、前記露光手段において第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第１特定画素をｏｎするとともに、前記ビーム位置検出手段をＹ軸方向に沿って移動させ、前記ビーム位置検出手段の備える前記スリット部の一方および他方を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置と前記スリット部のなす角度とに基いて前記第１特定画素の位置を特定し、前記露光手段において第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第２特定画素をｏｎするとともに、前記ビーム位置検出手段をＹ軸方向に沿って移動させ、前記ビーム位置検出手段の備える前記スリット部の一方および他方を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置と前記スリット部のなす角度とに基いて前記第２特定画素の位置を特定し、前記露光制御手段は、前記ビーム位置検出手段で特定された前記第１特定画素および前記第２特定画素の位置に基き、前記第１特定画素と前記第２特定画素とで画像が繋がるように前記第１の露光ヘッドおよび第２の露光ヘッドに入力される画像データを補正することを特徴とする画像形成装置に関する。
【００４８】
前記画像形成装置においては、請求項１に記載の画素位置特定方法により、第１特定画素と第２特定画素の実際の位置を特定し、前記位置に基いて前記第１の露光ヘッドおよび第２の露光ヘッドに入力される画像データを補正して前記第１特定画素と前記第２特定画素とで画像を繋げている。
【００４９】
したがって、何らかの理由で露光ヘッドの位置がずれた場合にも、露光ヘッド間の画像のずれや重なりは自動的に補正されるから、前記画像のずれや重なりが生じることはない。
【００５０】
請求項８に記載の発明は、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を備えてなるとともに、画像形成面を一定方向に走査しつつ露光して画像を形成する複数の露光ヘッドを備えるとともに、前記露光ヘッドの画素が、前記走査方向に対して斜めに配列された露光手段と、各露光ヘッドの露光ビームの位置を検出するビーム位置検出手段であって、前記露光ヘッドの画素配列に対して相対的に斜めであって一方が前記露光装置の走査方向に対して平行なＹ軸に沿って配設され、他方がＹ軸方向に直交するＸ軸方向に沿って配設された少なくとも１対のスリット部と前記スリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段と、前記ビーム位置検出手段によって検出された露光ビーム位置に基いて前記露光ヘッドの画素の位置を特定する画素位置特定手段と、前記画素位置特定手段で特定された画素位置に基づいて前記露光ヘッドを制御する露光制御手段とを備えてなり、前記画素位置特定手段は、前記第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の画素を順次ｏｎさせ、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の一方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の他方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記２つの画素のＹ座標の差とから第１特定画素の位置を特定し、次に、第２の露光ヘッドの画素を順次ｏｎし、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の一方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の他方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記２つの画素のＹ座標の差とから前記第２特定画素の位置を特定し、前記露光制御手段は、前記画素位置特定手段で特定された前記第１特定画素および前記第２特定画素の位置に基き、前記第１特定画素と前記第２特定画素とで画像が繋がるように前記第１の露光ヘッドおよび第２の露光ヘッドに入力される画像データを補正することを特徴とする画像形成装置に関する。
【００５１】
前記画像形成装置においては、請求項２に記載の画素位置特定方法により、第１特定画素と第２特定画素の実際の位置を特定している。
【００５２】
したがって、前記画像形成装置は、請求項６に記載の画像形成装置の有する特長に加え、第１特定画素および第２特定画素の位置を特定している間、ビーム位置検出手段を動かす必要がない故に画素位置特定操作がより簡略化できるという特長を有する。
【００５３】
請求項９に記載の発明は、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を備えてなるとともに、画像形成面を一定方向に走査しつつ露光して画像を形成する複数の露光ヘッドを備える露光手段と、基準面上をＹ軸方向およびＸ軸方向に沿って移動可能に形成され、Ｙ軸方向に長い第１スリット部とＸ軸方向に長い第２スリット部と前記第１および第２のスリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段と、前記ビーム位置検出手段によって検出された露光ビーム位置に基いて前記露光ヘッドの画素の位置を特定する画素位置特定手段と、前記画素位置特定手段で特定された画素位置に基づいて前記露光ヘッドを制御する露光制御手段とを備えてなり、前記画素位置特定手段は、前記露光手段において第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第１特定画素をｏｎし、前記ビーム位置検出手段をＸ軸方向およびＹ軸方向に沿って移動させ、前記第１スリット部および前記第２スリット部を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置に基いて前記第１特定画素の位置を特定し、次いで前記露光手段において第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第２特定画素をｏｎし、前記ビーム位置検出手段をＸ軸方向およびＹ軸方向に沿って移動させ、前記第１スリット部および前記第２スリット部を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置に基いて前記第２特定画素の位置を特定し、前記露光制御手段は、前記ビーム位置検出手段で特定された前記第１特定画素および前記第２特定画素の位置に基き、前記第１特定画素と前記第２特定画素とで画像が繋がるように前記第１の露光ヘッドおよび第２の露光ヘッドに入力される画像データを補正することを特徴とする画像形成装置に関する。
【００５４】
前記画像形成装置においては、請求項３に記載の画素位置特定方法により、第１特定画素と第２特定画素の実際の位置を特定している。
【００５５】
したがって、前記画像形成装置は、請求項６に記載の画像形成装置の有する特長に加え、第１特定画素と第２特定画素とがＹ軸方向だけでなくＸ軸方向にも離れている場合においても、第１特定画素と第２特定画素との実際の位置を特定し、この位置に基いて第１露光ヘッドと第２露光ヘッドとの露光を制御することにより、画像のずれや重なりを除去できるという特長を有する。
【００５６】
請求項１０に記載の発明は、前記露光ヘッドにおいて複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段は、入力された画像データに応じて光源からの光を変調して画像を形成する空間光変調素子である画像形成装置に関する。
【００５７】
前記画像形成装置は、請求項６〜８に記載の画像形成装置において、前記露光ヘッドにおいて複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段として空間変調素子を用いた例である。
【００５８】
請求項１１に記載の発明は、前記空間変調素子が、光源からの光を反射するとともに、２つの位置の何れかをとることのできる微小反射鏡を多数備え、前記反射鏡の位置を、画像データに応じて前記２つの位置の何れかに切り替えて前記光源からの光の反射経路を切り替えることにより画素を形成するＤＭＤである画像形成装置に関する。
【００５９】
前記画像形成装置は、請求項１０に記載の画像形成装置において、空間光変調素子としてＤＭＤを用いた例である。
【００６０】
【発明の実施の形態】
１．実施形態１
本発明の露光装置の一例について以下に説明する。
【００６１】
実施形態１に係る露光装置は、いわゆるフラッドベッドタイプであり、図１に示すように、シート状の感光材料１５０を表面に吸着して保持する平板状の露光ステージ１５２を備えている。
【００６２】
前記露光装置は、４本の脚部１５４に支持された厚い板状の設置台１５６と、設置台１５６の上面に、図１において矢印で示すステージ移動方向に沿って設けられた２本のガイド１５８を備えている。露光ステージ１５２は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されるとともに、ガイド１５８によって往復移動可能に支持されている。露光ステージ１５２は、駆動装置（図示せず。）により、ガイド１５８に沿って移動する。
【００６３】
設置台１５６の中央部には、露光ステージ１５２の移動経路を跨ぐようにコ字状のゲート１６０が設けられている。コ字状のゲート１６０の各端部は、設置台１５６の両側面に固定されている。このゲート１６０を挟んで一方の側にはスキャナ１６２が設けられ、他方の側には感光材料１５０の先端及び後端を検知する複数（例えば、２個）の検知センサ１６４が設けられている。スキャナ１６２及び検知センサ１６４はゲート１６０に各々取り付けられて、露光ステージ１５２の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ１６２及び検知センサ１６４は、これらを制御する図示しないコントローラに接続されており、後述するように、露光ヘッド１６６によって露光する際に所定のタイミングで露光するように制御される。
【００６４】
露光ステージ１５２における搬送方向（走査方向）に沿って上流側（以下、単に「上流側」ということがある。）の端縁部には、Ｘ軸方向に向かって開く「く」の字型に形成されたスリット１２０が、複数形成されている。
【００６５】
スリット１２０は、上流側に位置するスリット１２０ａと下流側に位置するスリット１２０ｂとからなっている。スリット１２０ａとスリット１２０ｂとは互いに直交するとともに、Ｙ軸に対してスリット１２０ａは１３５度、スリット１２０ｂは４５度の角度を有している。
【００６６】
スリット１２０の下方には、露光ヘッド１６６からの光を検出するディテクタ（図示せず。）が形成されている。
【００６７】
スリット１２０と前記ディテクターとは、露光ステージ１５２とともにＹ軸方向に沿って移動する。
【００６８】
スリット１２０と前記ディテクターとは、本発明におけるビーム位置検出手段に相当する。
【００６９】
なお、スリット１２０ａおよびスリット１２０ｂは、実施形態１においては、走査方向に対して４５度の角度を成すように形成されているが、スリット１２０ａおよびスリット１２０ｂは、露光ヘッド１６６の画素配列に対して傾斜していると同時に、走査方向、即ちステージ移動方向に対して傾斜していれば、走査方向に対する角度は前記角度には限定されない。また、スリット１２０に代えて回折格子を使用してもよい。
【００７０】
スキャナ１６２は、図２及び図３の（Ｂ）に示すように、ｍ行ｎ列（例えば、２行５列）の略マトリックス状に配列された複数の露光ヘッド１６６を備えている。
【００７１】
露光ヘッド１６６で露光される領域である画像領域Ｐは、図２に示すように、短辺が走査方向に沿った矩形状であり、走査方向に対し、所定の傾斜角θで傾斜している。そして、露光ステージ１５２の移動に伴い、感光材料１５０には露光ヘッド１６６毎に帯状の露光済み領域１７０が形成される。なお、図１および図２に示すように、走査方向は、ステージ移動方向とは向きが反対である。
【００７２】
また、図３において（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域１７０びそれぞれが、隣接する露光済み領域１７０と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッドの各々は、配列方向に所定間隔（画像領域の長辺の自然数倍、本実施の形態では１倍）ずらして配置されている。このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する画像領域１６８Ａと、画像領域１６８Ａの右隣に位置する画像領域１６８Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する画像領域１６８Ｂにより露光される。同様に、画像領域１６８Ｂと、画像領域１６８Ｂの右隣に位置する画像領域１６８Ｄとの間の露光できない部分は、画像領域１６８Ｃにより露光される。
【００７３】
露光ヘッド１６６Ａ〜１６６Ｊの各々は、図４、および図５の（Ａ）、（Ｂ）に示すように、入射された光ビームを画像データに応じて各画素毎に変調する空間光変調素子として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）５０を備えている。このＤＭＤ５０は、データ処理部とミラー駆動制御部とを備えたコントローラ（図示せず。）に接続されている。前記コントローラのデータ処理部では、入力された画像データに基づいて、各露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０の制御すべき領域内の各マイクロミラーを駆動制御する制御信号を生成する。
【００７４】
また、ミラー駆動制御部では、画像データ処理部で生成した制御信号に基づいて、各露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０の各マイクロミラーの反射面の角度を制御する。なお、反射面の角度の制御に付いては後述する。
【００７５】
ＤＭＤ５０の光入射側には、光ファイバの出射端部（発光点）が画像領域Ｐの長辺方向と対応する方向に沿って一列に配列されたレーザ出射部を備えたファイバアレイ光源６６、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザ光を補正してＤＭＤ上に集光させるレンズ系６７、レンズ系６７を透過したレーザ光をＤＭＤ５０に向けて反射する反射鏡６９がこの順に配置されている。
【００７６】
レンズ系６７は、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザ光を平行光化する１対の組合せレンズ７１、平行光化されたレーザ光の光量分布が均一になるように補正する１対の組合せレンズ７３、及び光量分布が補正されたレーザ光をＤＭＤ上に集光する集光レンズ７５で構成されている。組合せレンズ７３は、レーザ出射端の配列方向に対しては、レンズの光軸に近い部分は光束を広げ且つ光軸から離れた部分は光束を縮め、且つこの配列方向と直交する方向に対しては光をそのまま通過させる機能を備えており、光量分布が均一となるようにレーザ光を補正する。
【００７７】
また、ＤＭＤ５０の光反射側には、ＤＭＤ５０で反射されたレーザ光を感光材料１５０の走査面（被露光面）５６上に結像するレンズ系５４、５８が配置されている。レンズ系５４及び５８は、ＤＭＤ５０と被露光面５６とが共役な関係となるように配置されている。
【００７８】
本実施形態では、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザ光は、均一化され、ＤＭＤ５０に入射された後、各画素がこれらのレンズ系５４、５８によって約５倍に拡大され、集光されるように設定されている。
【００７９】
ＤＭＤ５０は、図６に示すように、ＳＲＡＭセル（メモリセル）６０上に、微小ミラー（マイクロミラー）６２が支柱により支持されて配置されたものであり、画素（ピクセル）を構成する多数の（例えば、ピッチ１３．６８μｍ、１０２４個×７６８個）の微小ミラーを格子状に配列して構成されたミラーデバイスである。各ピクセルには、最上部に支柱に支えられたマイクロミラー６２が設けられており、マイクロミラー６２の表面にはアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。なお、マイクロミラー６２の反射率は９０％以上である。また、マイクロミラー６２の直下には、ヒンジ及びヨークを含む支柱を介して通常の半導体メモリの製造ラインで製造されるシリコンゲートのＣＭＯＳのＳＲＡＭセル６０が配置されており、全体はモノリシック（一体型）に構成されている。
【００８０】
ＤＭＤ５０のＳＲＡＭセル６０に、マイクロミラー６０の傾斜状態（変調状態）を示すデジタル信号が書き込まれ、さらにＳＲＡＭセル６０からマイクロミラー６２にデジタル信号が出力されると、支柱に支えられたマイクロミラー６２が、対角線を中心としてＤＭＤ５０が配置された基板側に対して±α度（例えば±１０度）の範囲で傾けられる。図７において（Ａ）は、マイクロミラー６２がオン状態である＋α度に傾いた状態を示し、図７において（Ｂ）は、マイクロミラー６２がオフ状態である−α度に傾いた状態を示す。従って、画像信号に応じて、ＤＭＤ５０の各ピクセルにおけるマイクロミラー６２の傾きを、図６に示すように制御することによって、ＤＭＤ５０に入射された光はそれぞれのマイクロミラー６２の傾き方向へ反射される。
【００８１】
なお、図６には、ＤＭＤ５０の一部を拡大し、マイクロミラー６２が＋α度又は−α度に制御されている状態の一例を示す。それぞれのマイクロミラー６２のオンオフ制御は、ＤＭＤ５０に接続された図示しないコントローラによって行われる。なお、オフ状態のマイクロミラー６２により光ビームが反射される方向には、光吸収体（図示せず）が配置されている。
【００８２】
前述のように、スキャナ１６２においては、１行目の最も左側に位置する画像領域１６８Ａと、画像領域１６８Ａの右隣に位置する画像領域１６８Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する画像領域１６８Ｂにより露光されるから、画像領域１６８Ａに繋がれる画像領域は画像領域１６８Ｂである。図８に、画像領域１６８Ａおよび画像領域１６８Ｂの位置関係を示す。図８以下においては、走査方向をＸ軸にとり、露光ヘッド１６６の配列方向をＹ軸にとる。
【００８３】
図８に示すように、画像領域１６８Ａと画像領域１６８Ｂとは、露光ヘッド１６６Ａの画素である繋ぎ画素Ｐ１と、露光ヘッド１６６Ｂの画素である繋ぎ画素Ｐ２とにおいて繋げられる。繋ぎ画素Ｐ１および繋ぎ画素Ｐ２は、それぞれ本発明における第１特定画素および第２特定画素の例である。
【００８４】
以下、繋ぎ画素Ｐ１と繋ぎ画素Ｐ２とを選択して実際の位置を特定する手順について説明する。
【００８５】
先ず、露光ステージ１５２を移動させてスリット１２０をスキャナ１６２の下方に位置させ、露光ヘッド１６６Ａの画素のうち、露光ヘッド１６６Ｂの画素に重ねるべき画素を繋ぎ画素Ｐ１として選択し、点灯させる。
【００８６】
そして、図９および図１０に示すように、露光ステージ１５２をゆっくり移動させてスリット１２０をＹ軸方向に沿って移動させ、画像領域１６８Ａに位置させる。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点を（Ｘ０，Ｙ０）とする。ここで、前述のように、スリット１２０ａはＹ軸に対して１３５度の角度を成し、スリット１２０ｂはＹ軸に対して４５度の角度を成している。なお、図１０以下においてＹ軸から反時計方向に回転する方向を正の角とする。
【００８７】
次に、図１０に示すように、露光ステージ１５２を移動させ、スリット１２０をＹ軸に沿って図１０における右方に移動させる。そして、図１０において二点鎖線で示すように、繋ぎ画素Ｐ１からの光が左側のスリット１２０ａを通過してディテクターで検出されたところで露光ステージ１５２を停止させる。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点を（Ｘ０，Ｙ１１）とする。
【００８８】
今度は露光ステージ１５２を移動させ、スリット１２０をＹ軸に沿って図１１における左方に移動させる。そして、図１１において二点鎖線で示すように、繋ぎ画素ｐ２からの光が右側のスリット１２０ｂを通過してディテクタで検出されたところで露光ステージ１５２を停止させる。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点を（Ｘ０，Ｙ１２）とする。
【００８９】
ここで、繋ぎ画素Ｐ１の座標を（Ｘ１，Ｙ１）とすると、Ｘ１＝Ｘ０＋（Ｙ１１−Ｙ１２）／２で表され、Ｙ１＝（Ｙ１１＋Ｙ１２）／２で表される。
【００９０】
繋ぎ画素Ｐ１の座標が求められたら、繋ぎ画素Ｐ１を消燈し、露光ヘッド１６６Ｂの画素のうち、画像領域１６８Ａに繋ぐべき画素であって繋ぎ画素Ｐ１に位置の近いものを繋ぎ画素ｐ２として選択して点灯する。
【００９１】
そして、露光ステージ１５２をＹだけ移動させてスリット１２０を画像領域１６８Ｂに位置させる。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点の座標は（Ｘ０，Ｙ０＋Ｙ）である。
【００９２】
そして、図１１に示すように、露光ステージ１５２を移動させ、スリット１２０をＹ軸に沿って図１１における右方に移動させる。図１１において二点鎖線で示すように、繋ぎ画素ｐ２からの光が左側のスリット１２０ａを通過してディテクターで検出されたところで露光ステージ１５２を停止させる。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点を（Ｘ０，Ｙ２１）とする。
【００９３】
今度は露光ステージ１５２を移動させ、スリット１２０をＹ軸に沿って図１１における左方に移動させる。そして、図１１において二点鎖線で示すように、繋ぎ画素Ｐ１からの光が右側のスリット１２０ｂを通過してディテクタで検出されたところで露光ステージ１５２を停止させる。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点を（Ｘ０，Ｙ２２）とする。
【００９４】
ここで、繋ぎ画素ｐ２の座標を（ｘ２，ｙ２）とすると、ｘ２＝Ｘ０＋（Ｙ２１−Ｙ２２）／２で表され、ｙ２＝（Ｙ２１＋Ｙ２２）／２で表される。
【００９５】
このようにして求められた繋ぎ画素ｐ２（ｘ２，ｙ２）について、図１２に示すように、繋ぎ画素Ｐ１とのＸ座標の差ΔＸ＝ｘ２−Ｘ１を求める。そして、前記画素ｐ２のうち、Ｘ座標の差ΔＸが最も小さなものを繋ぎ画素Ｐ２（Ｘ２，Ｙ２）として選択する。
【００９６】
繋ぎ画素Ｐ１と繋ぎ画素Ｐ２とは、Ｘ方向のずれは極めて小さいから、露光タイミングを補正してＹ軸方向のずれを除去し、Ｘ方向については画像が重なるように露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂに入力される画像データを制御することにより、図１３に示すように繋ぎ画素Ｐ１と繋ぎ画素Ｐ２との間の画像のずれや重なりを除去できる。
【００９７】
なお、露光ヘッド１６６Ａにおいて繋ぎ画素Ｐ１を複数指定し、前記複数の繋ぎ画素Ｐ１のそれぞれについて前記手順に従って実際のＸＹ座標（Ｘ１，Ｙ１）を特定するとともに、前記繋ぎ画素Ｐ１のそれぞれについて露光ヘッド１６６Ｂの画素から繋ぎ画素Ｐ２を指定して実際のＸＹ座標（Ｘ２、Ｙ２）を特定すれば、露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂとの間の画像のずれや重なりをさらに小さくすることができる。
【００９８】
実施形態１に係る露光装置においては、露光ステージを移動させてスリット１２０ａおよびスリット１２０ｂを透過する露光ビームの光量をディテクターで検出することにより、露光ヘッド１６６Ａおよび露光ヘッド１６６Ｂの画素から繋ぎ画素Ｐ１および繋ぎ画素Ｐ２を選択すると共に、実際の位置を特定できる。
【００９９】
したがって、繋ぎ画素Ｐ１および繋ぎ画素Ｐ２を選択し、位置を特定するのに、高価で大型な付加設備は不要である。
【０１００】
さらに、露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂとの間の相対的な位置関係が何らかの理由でずれた場合においても、繋ぎ画素Ｐ１および繋ぎ画素Ｐ２の実際の位置に関する位置情報に基いて露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂとに入力する画像データを制御することにより、露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂとの間の画像との間のずれや重なりを精度よく補正できる。
【０１０１】
以上、スリット１２０ａおよびスリット１２０ｂを用いることによって露光ヘッド１６６Ａおよび露光ヘッド１６６Ｂの繋ぎ画素を特定し、擦れや重なりのない画像を形成する方法について述べたが、同様の手順を順次繰り返すことにより、露光装置１００の全ての露光ヘッド１６６間の繋ぎ画素を特定し、前記繋ぎ画素で画像が重なるように、前記露光ヘッド１６６に入力される画像データに対して画像データシフト、画像回転、倍率変換などの補正を行うことができ、露光領域全体に亘って繋ぎ目におけるずれの少ない画像を形成できる。
【０１０２】
２．実施形態２
実施形態２に係る露光装置の構成を図１４に示す。
【０１０３】
図１４に示すように、実施形態２に係る露光装置の露光ステージ１５２における上流側の端縁部には、Ｙ軸に対して平行なスリット１３０ａとＸ軸に対して平行なスリット１３０ｂとからなるスリット１３０が設けられている。スリット１３０ａとスリット１３０ｂとは、Ｔ字型に交差するように設けられている。スリット１３０ａとスリット１３０ｂとの下方には、スリット１３０ａとスリット１３０ｂとを透過した露光ビームを検出するディテクターが設けられている。
【０１０４】
実施形態２に係る露光装置は、上記の点を除いては、実施形態１の露光装置と同一の構成を有する。
【０１０５】
実施形態２に係る露光装置において、露光ヘッド１６６Ａの画素から繋ぎ画素Ｐ１を選定して位置を特定する手順について説明する。
【０１０６】
先ず、スリット１３０が、画像領域１６８Ａと画像領域１６８Ｂとの繋ぎ目付近に位置するように露光ステージ１５２を移動させる。
【０１０７】
スリット１３０が露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂとの下方に位置したら、露光ステージ１５２を前記位置で停止させる。そして、図１５に示すように、露光ヘッド１６６Ａのある行方向（横方向）に沿って画素を順次点灯させる。同様に、露光ヘッド１６６Ａのある列方向（縦方向）に沿って画素を下方から上方に向かって順次点灯させる。
【０１０８】
図１５に示すように、画素Ｐ１（ａ，ｎ）を点灯させたときにスリット１３０ａのディテクタが光量のピークを検出し、画素Ｐ＊１（ｍ，ｂ）を点灯させたときにスリット１３０ｂのディテクタが光量のピークを検出したとき、露光ヘッド１６６Ａの画素Ｐ１を繋ぎ画素Ｐ１として選択し、画素Ｐ＊１を補助画素として選択する。なお、繋ぎ画素Ｐ１（ａ，ｎ）および補助画素Ｐ＊１（ｍ，ｂ）の（ａ，ｎ）および（ｍ，ｂ）は、それぞれ繋ぎ画素Ｐ１および補助画素Ｐ＊１のＸ座標およびＹ座標を示す。
【０１０９】
ここで、図１６に示すように、繋ぎ画素Ｐ１（ａ，ｎ）と補助画素Ｐ＊１（ｍ，ｂ）とのＹ軸方向の位置差ΔＹ１は、以下の式：
ΔＹ１＝ｂ−ｎ
で与えられる。
【０１１０】
次に、露光ステージ１５２を距離Ｙｓだけ移動させ、露光ヘッド１６６Ｂのある行の画素を左方から右方に向かって順次点灯させ、同様に、ある列の画素をＸ軸方向に沿って下方から上方に向かって順次点灯させる。
【０１１１】
このとき、画素Ｐ２（ｃ，ｎ´）を点灯させたときにスリット１３０ａのディテクタが光量のピークを検出し、画素Ｐ＊２（ｍ´，ｄ）を点灯させたときにスリット１３０ｂのディテクタが光量のピークを検出したとすると、前記画素Ｐ２（ｃ，ｎ´）を繋ぎ画素として選択し、画素画素Ｐ＊２を補助画素として選択する。
【０１１２】
繋ぎ画素Ｐ２（ｃ，ｎ´）と補助画素Ｐ＊２（ｍ´，ｂ）とのＹ軸方向の位置差ΔＹ２は、以下の式：
ΔＹ２＝（ｄ−ｎ´）
で与えられる。
【０１１３】
繋ぎ画素Ｐ１（ａ，ｎ）を検出したときと、繋ぎ画素Ｐ２（ｃ，ｎ´）を検出したときとで、スリット１３０は、Ｘ軸方向には全く移動していないから、繋ぎ画素Ｐ１（ａ，ｎ）と繋ぎ画素Ｐ２（ｃ，ｎ´）とは、Ｘ座標が一致している。一方、Ｙ軸方向の距離は、以下の式：
で与えられる。
【０１１４】
したがって、繋ぎ画素Ｐ１（ａ，ｎ）と繋ぎ画素Ｐ２（ｃ，ｎ´）との間で、前記Ｙ軸方向の距離に応じた点灯タイミング補正を行うことにより、露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂとの間のずれや重なりを除去できる。
【０１１５】
以上、スリット１３０ａおよびスリット１３０ｂを１つづつ用いて繋ぎ画素Ｐ１（ａ，ｎ）と繋ぎ画素Ｐ２（ｃ，ｎ´）とを選定し、位置を特定する例について述べたが、図１７ののようにスリット１３０ａおよびスリット１３０ｂを露光ヘッド１６６Ａおよび露光ヘッド１６６Ｂの画素のＸ方向およびＹ方向に沿ったピッチに合わせて複数個設ければ、透過光量がアップするから、画素の検出精度が向上し、より高精度な画像繋ぎが可能になる。
【０１１６】
実施形態２に係る露光装置においては、繋ぎ画素Ｐ２は、繋ぎ画素Ｐ１とＸ座標が同一であるから、露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂとに、Ｘ方向については同一の画像データが入力されるように画像データ入力を制御すれば、露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂとの間の画像のずれは完全に除去できる。また、Ｙ軸方向の画像のずれも、繋ぎ画素Ｐ１と繋ぎ画素Ｐ２との間で点灯タイミングを調整することにより除去できる。
【０１１７】
したがって、実施形態１に係る露光装置よりもさらに高精度の画像繋ぎが可能になる。
【０１１８】
また、繋ぎ画素Ｐ１および繋ぎ画素Ｐ２を選択しているあいだは、露光ステージ１５２を停止しているから、実施形態１に係る露光装置に比較して、繋ぎ画像の選定および位置特定時に露光テーブル１５２を移動させる頻度をさらに少なくすることができる。
【０１１９】
以上、スリット１３０ａおよびスリット１３０ｂを用いることによって露光ヘッド１６６Ａおよび露光ヘッド１６６Ｂの繋ぎ画素を特定し、擦れや重なりのない画像を形成する方法について述べたが、同様の手順を順次繰り返すことにより、露光装置の全ての露光ヘッド１６６間の繋ぎ画素を特定し、前記繋ぎ画素で画像が重なるように、前記露光ヘッド１６６に入力される画像データに対して画像データシフト、画像回転、倍率変換などの補正を行うことができ、露光領域全体に亘って繋ぎ目におけるずれの少ない画像を形成できる。
【０１２０】
３．実施形態３
実施形態３に係る露光装置の構成を図１８に示す。
【０１２１】
図１８に示すように、実施形態３に係る露光装置においては、露光ステージ１５２の上流側端縁部に本発明のビーム位置検出手段に対応するビーム位置検出装置１４０が設けられている。
【０１２２】
ビーム位置検出装置１４０の詳細を図１９に示す。
【０１２３】
図１８および図１９に示すように、ビーム位置検出装置１４０は、露光ステージ１５２の上流側端縁部に、Ｘ軸方向に沿って設けられた溝１４８の内部を摺動する基台１４２と、基台１４２の移動方向に沿って溝１４８の中央部に設けられているとともに、基台１４２のＸ軸方向の位置を検出するリニアエンコーダ１４４と、溝１４８の内側に、基台１４２を移動させる１対のボールねじ１４６とを備えている。基台１４２にはリニアガイド（図示せず。）が互いに平行に２本設けられている。なお、ボールねじ１４６はモータ（図示せず。）により回転して基台１４２を移動させる。
【０１２４】
基台１４２は、上面が、露光ステージ１５２の露光面と同一面上に位置するように形成されている。基台１４２の上面には、Ｘ軸方向に沿ってスリット１４０ａが、Ｙ軸方向に沿ってスリット１４０ｂが設けられている。スリット１４０ａとスリット１４０ｂとは、互いに直交している。スリット１４０ａとスリット１４０ｂとの下方には、スリット１４０ａとスリット１４０ｂとを透過した露光ビームの光を検出するディテクター（図示せず。）が設けられている。
【０１２５】
以下、前記露光装置において露光ヘッド１６６Ａおよび露光ヘッド１６６Ｂの画素から特定画素Ｐ１および特定画素Ｐ２を選定し、その実際の位置を特定するする。
【０１２６】
先ず、露光ヘッド１５２を移動させてビーム位置検出装置１４０をＹ軸方向に沿って移動させるとともに、ビーム位置検出装置１４０の基台１４２を溝１４８に沿って移動させ、基台１４２を画像領域１６８Ａと画像領域１６８Ｂとの繋ぎ目部分に位置させる。
【０１２７】
つぎに、露光ヘッド１６６Ａの画素の内、画像領域１６８Ｂに繋ごうとするものを選択し、繋ぎ画素Ｐ１とする。
【０１２８】
そして、図２０に示すように、露光ヘッド１５２を微細に移動させ、基台１４２をＹ軸方向に沿って移動させる。繋ぎ画素Ｐ１からの露光ビームがスリット１４０ａを透過した光量がピークに達したら露光ヘッド１５２を停止させ、露光ステージ１５２に設けられたリニアエンコーダ（図示せず。）によって露光ステージのＹ軸方向の位置を検出する。そして前記Ｙ軸方向の位置を繋ぎ画素Ｐ１のＹ座標Ｙ１とする。
【０１２９】
次に、ボールねじ１４６によって基台１４２をＸ軸方向に移動させ、露光ビームがスリット１４０ｂを透過した光量がピークに達したら、リニアエンコーダ１４４によってこのときの基台１４２のＸ軸方向の位置を検出する。そして前記Ｘ軸方向の位置を繋ぎ画素Ｐ１のＸ座標Ｘ１とする。
【０１３０】
繋ぎ画素Ｐ１の位置が特定されたら、繋ぎ画素Ｐ１を消灯し、代わりに露光ヘッド１６６Ｂの画素の内、画像領域１６８Ａに繋ごうとする画素ｐ２を点灯させ、ビーム位置検出装置１４０により、同様の手順に従って画素ｐ２のＸＹ座標（ｘ２，ｙ２）を求める。
【０１３１】
このようにして座標を求めた画素ｐ２のＸＹ座標（ｘ２，ｙ２）を、繋ぎ画素Ｐ１のＸＹ座標（Ｘ１，Ｙ１）と比較し、繋ぎ画素Ｐ１に最も近い画素ｐ２を繋ぎ画素Ｐ２（Ｘ２，Ｙ２）として選択する。
【０１３２】
このようにして繋ぎ画素Ｐ１と繋ぎ画素Ｐ２との実際の位置が特定されたら、前記位置に基いて露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂに入力される画像データを制御し、繋ぎ画素Ｐ１と繋ぎ画素Ｐ２とで画像が繋がるようにする。
【０１３３】
実施形態３に係る露光装置によれば、ビーム位置検出装置１４０によって繋ぎ画素Ｐ１および繋ぎ画素Ｐ２の正確なＸＹ座標が短時間で求まるから、繋ぎ画素Ｐ１および繋ぎ画素Ｐ２として、Ｘ座標が必ずしも同一でないものを選択した場合においても、正確に画像を繋げることができる。
【０１３４】
以上、ビーム位置検出装置１４０を用いることによって露光ヘッド１６６Ａおよび露光ヘッド１６６Ｂの繋ぎ画素を特定し、擦れや重なりのない画像を形成する方法について述べたが、同様の手順を順次繰り返すことにより、露光装置１００の全ての露光ヘッド１６６間の繋ぎ画素を特定し、前記繋ぎ画素で画像が重なるように、前記露光ヘッド１６６に入力される画像データに対して画像データシフト、画像回転、倍率変換などの補正を行うことができ、露光領域全体に亘って繋ぎ目におけるずれの少ない画像を形成できる。
【０１３５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、前記マルチヘッド露光装置において、各露光ヘッドによって形成される画像間のずれが極めて小さい露光装置および前記露光装置で行うことのできる画像ずれ補正方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、実施形態１に係る露光装置の構成を示す斜視図である。
【図２】図２は、実施形態１に係る露光装置の備えるスキャナの構成を示す斜視図である。
【図３】図３は、感光材料に形成される露光済み領域を示す平面図および各露光ヘッドによる画像領域の配列を示す概略図である。
【図４】図４は、実施形態１に係る露光装置の備える露光ヘッドの概略構成を示す斜視図である。
【図５】図５は、図４に示す露光ヘッドの構成を示す光軸に沿った走査方向の断面図である。
【図６】図６は、図４に示す露光ヘッドの備えるデジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）の構成を示す部分拡大図である。
【図７】図７は、図６に示すＤＭＤの動作を示す説明図である。
【図８】図８は、実施形態１に係る露光装置において、一の露光ヘッドによって照射される一の画像領域と、他の露光ヘッドによって照射されるとともに、前記一の画像領域に繋げようとする他の画像領域との位置関係を示す平面図である。
【図９】図９は、前記一の画像領域および他の画像領域と、前記露光装置の露光ステージに設けられたスリットとの位置関係を示す平面図である。
【図１０】図１０は、前記一の露光ヘッドの繋ぎ画素である一の繋ぎ画素の位置を前記スリットによって特定する手順を示す説明図である。
【図１１】図１１は、前記他の露光ヘッドの画素のうち、前記一の画像領域に繋げようとするものの位置を前記スリットによって特定する手順を示す説明図である。
【図１２】図１２は、前記他の露光ヘッドの画素のうち、図１１の手順によって位置が特定されたものから、他の繋ぎ画素を選択する手順を示す説明図である。
【図１３】図１３は、前記一の繋ぎ画素と前記他の繋ぎ画素とによって前記一の画像領域と他の画像領域とが繋げられた状態を示す平面図である。
【図１４】図１４は、実施形態２に係る露光装置の構成を示す斜視図である。
【図１５】図１５は、実施形態２に係る露光装置において、露光ステージに設けられたスリットによって一の露光ヘッドにおける一の繋ぎ画素の位置を特定する手順を示す説明図である。
【図１６】図１６は、繋ぎ画素Ｐ１と補助画素Ｐ＊１とのＹ軸方向に沿った位置の差を示す説明図である。
【図１７】図１７は、実施形態２に係る露光装置において、互いに平行な複数のスリットを用いて繋ぎ画素の位置を特定する手順を示す説明図である。
【図１８】図１８は、実施形態３に係る露光装置の構成を示す斜視図である。
【図１９】図１９は、実施形態３に係る露光装置の備えるビーム検出装置の構成の詳細を示す拡大図である。
【図２０】図２０は、実施形態３に係る露光装置において、ビーム位置検出装置によって繋ぎ画素のＸＹ座標を特定する手順を示す説明図である。
【符号の説明】
５０ ＤＭＤ
５３ 反射光像（露光ビーム）
５４、５８ レンズ系
５６ 走査面（被露光面）
６４ レーザモジュール
６６ ファイバアレイ光源
６８ レーザ出射部
７３ 組合せレンズ
１２０ スリット
１３０ スリット
１４０ ビーム位置検出装置
１４０ａ スリット
１４０ｂ スリット
１５０ 感光材料
１５２ ステージ（移動手段）
１６２ スキャナ
１６６ 露光ヘッド
１７０ 露光済み領域
【発明の属する技術分野】
本発明は、画像形成装置および画像ずれ補正方法に関し、特に、複数の露光ヘッドを備える画像形成装置において露光ヘッド間の相対位置が変化してもつなぎ目の目立たない高品質の画像が形成できる画像ずれ補正方法、および前記画像ずれ補正方法により露光ヘッド間の画像のずれを補正する画像形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、画像記録装置の一例として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）等の空間光変調素子（ＳＬＭ）を利用し、画像データに応じて変調された光ビームで画像露光を行う露光装置が種々提案されている（たとえば、非特許文献１および２を参照）。このＤＭＤは、たとえばＳＲＡＭの各メモリセル上に多数の微小なマイクロミラーが設けられて構成され、各メモリセルに蓄えた電荷による静電気力でマイクロミラーの反射面の角度を変化させる。実際に描画を行うときには、各ＳＲＡＭに画像データを書き込んだ状態で各マイクロミラーをリセットして所定角度とし、光の反射方向を所望の方向とする。
【０００３】
前記露光装置の応用分野の１つとして、たとえば液晶ディスプレーなどのパネルやプリント基板の製造がある。
【０００４】
パネルやプリント基板の製造用の露光装置としては、露光範囲を広げる目的で、前記ＤＭＤを有する露光ヘッドを、前記基板などの感光材料の送り方向に交差する方向に沿って複数配列したマルチヘッド露光装置がある。
【０００５】
前記マルチヘッド露光装置においては、各ヘッド間の相対位置は、つなぎ目が実用上問題にならない程度に高精度に調整されている。
【０００６】
【非特許文献１】
Ｌａｒｒｙ Ｊ． Ｈｏｒｎｂｅｃｋ， Ｄｉｇｉｔａｌ Ｌｉｇｈｔ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ ａｎｄ ＭＥＭＳ： ｒｅｆｌｅｃｔｉｎｇ ｔｈｅ ｄｉｇｉｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ ｎｅｅｄｓ ｏｆ ｔｈｅ ｎｅｔｗｏｒｋｅｄ ｓｏｃｉｅｔｙ， ＴＨＥ ＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬ ＳＯＣＩＥＴＹ ＦＯＲ ＯＰＴＩＣＡＬ ＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ， Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ＳＰＩＥ Ｖｏｌｕｍｅ： ２７８３， ８／１９９６， Ｐ．２−１３
【非特許文献２】
Ｗ．Ｅ．Ｎｅｌｓｏｎ ａｎｄ Ｒｏｂｉｔ Ｌ Ｂｈｕｖａ，． Ｄｉｇｉｔａｌ ｍｉｃｒｏｍｉｒｒｏｒ ｄｅｖｉｃｅ ｉｍａｇｉｎｇ ｂａｒ ｆｏｒ ｈａｒｄ ｃｏｐｙ， ＴＨＥ ＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬ ＳＯＣＩＥＴＹ ＦＯＲ ＯＰＴＩＣＡＬ ＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ， Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ＳＰＩＥ Ｖｏｌｕｍｅ： ２４１３， ４／１９９５， Ｐ．５８−６５
【特許文献１】
特開平１０−３１１７０号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年、基板の集積度が高くなるにつれて、さらに高い解像度が要求されるようになってきたので、各露光ヘッドに対応する画像の相対位置のずれの許容値が小さくなってきた。
【０００８】
さらに、前記露光ヘッドにおいては、光源から結像面にいたるまでに数多くの光学部材や機構部材などが使用されているので、温度変化による熱膨張や熱収縮、および長期間使用による経時変化の蓄積により、各露光ヘッドにより形成される画像が、つなぎ目において無視できない程度のずれを起こし、画像品質が低下するという問題もあった。
【０００９】
前記マルチヘッド露光装置と同様の目的に使用されるマルチビーム露光装置においては、ＰＳＤ（ｐｏｓｉｔｉｏｎ−ｓｅｎｓｉｎｇ ｄｅｖｉｃｅ、位置検出装置）や４分割ディテクタなどの位置検出素子によって各ビームの位置を検出し、各ビームによって形成される画像間のずれを補正する方法が提案されている（特許文献１）。
【００１０】
しかしながら、マルチヘッド露光装置においては、露光ヘッドの間隔は、隣接ビームの間隔に比べて圧倒的に大きいので、前記特許文献１に記載の方法をマルチヘッド露光装置に適用することは困難である。
【００１１】
本発明は、上記問題を解決すべく成されたもので、前記マルチヘッド露光装置において、各露光ヘッドによって形成される画像間のずれが極めて小さい露光装置および前記露光装置で行うことのできる画像ずれ補正方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を有する複数の露光ヘッドを一定方向に走査して画像を形成する画像形成装置において、各露光ヘッドの露光ビームの位置を測定して前記露光ヘッドの繋ぎ目の画素位置を特定する画素位置特定方法であって、前記走査方向に対して平行なＹ軸方向に沿って基準面上を移動可能に形成され、前記露光ヘッドの画素配列に対して相対的に斜めであって互いに交差するように配設された少なくとも１対のスリット部と前記スリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段を用いて前記露光ビームの位置を測定するとともに、第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第１特定画素をｏｎして前記ビーム位置検出手段をＹ軸方向に沿って移動させ、前記スリット部の一方および他方を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置と前記スリット部の位置と前記スリット部が互いになす角度とに基いて前記第１特定画素の位置を特定する第１画素位置特定ステップと、第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第２特定画素をｏｎして前記ビーム位置検出手段をＹ軸方向に沿って移動させ、前記スリット部の一方および他方を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置と前記スリット部のなす角度とに基いて前記第２特定画素の位置を特定する第２画素位置特定ステップとを有することを特徴とする画素位置特定方法に関する。
【００１３】
前記画素位置特定方法においては、前述のように、前記露光ヘッドの画素配列に対して相対的に斜めであって互いに交差するように配設されたスリット部が少なくとも１対形成されたビーム位置検出手段をＹ軸方向に移動させて第１特定画素および第２特定画素を検出している。
【００１４】
たとえば、前記ビーム位置検出手段が第１特定画素の下方を通過すると、前記１対のスリット部の一方を透過する露光ビームの光量がピークに達した後、前記１対のスリット部の他方を透過する露光ビームの光量がピークに達する。
【００１５】
したがって、前記一方のスリット部において露光ビームの透過光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置と、前記他方のスリット部において露光ビームの透過光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置と前記一方および他方のスリット部のなす角度とに基いて前記第１特定画素の位置を特定できる。これは第２特定画素についても同様である。ここで、前記ビーム位置検出手段の位置としては、前記ビーム位置検出手段上のある特定の点の位置を採ることができるが、通常は、前記スリット部の交点の位置を基準にする。
【００１６】
更に、通常、露光ヘッドから前記基準面に直角に露光ビームが照射されるから、露光ヘッドのある画素を点灯したとき、前記基準面上の露光ビームの照射位置は、前記画素の位置と等しくなる。したがって、前記第１画素位置特定ステップおよび第２画素位置特定ステップにおいては、前記ビーム位置検出手段で検出した露光ビームの位置を第１または第２特定画素の位置とすることができる。
【００１７】
前記画素位置特定方法によれば、このようにして第１特定画素および第２特定画素の実際の位置を高精度で特定できる。したがって、何らかの理由により、第１露光ヘッドと第２露光ヘッドとの間に位置のずれが生じた場合においても、前記画素位置特定方法で特定した第１特定画素および第２特定画素の位置を元に露光ヘッドの露光タイミングを制御することにより、露光ヘッド間の画像のずれや重なりを除去できる。
【００１８】
前記画素位置特定方法においては、前記光量測定手段は、前記スリット部を透過する露光ビームの光量を測定できればよいから、通常の受光素子で充分である。したがって、前記露光ビームの位置を検出するのに、２次元ＰＳＤや４分割ディテクタなどの高価な位置検出素子を使用する必要がないから、ビーム位置検出手段を安価に構成できる。
【００１９】
また、従来の技術の欄で述べたマルチヘッド露光装置は、通常、露光しようとする基板を載置して一定方向に送る露光ステージを有し、前記露光ステージは、リニアエンコーダなどによって高精度に送り方向、即ちＹ軸方向の位置が検出される。
【００２０】
したがって、前記露光ステージの非露光面に前記ビーム位置検出手段を固定し、前記露光ステージを前記送り方向に送りつつ、前記リニアエンコーダで位置検出すれば、前記ビーム位置検出手段の位置も高精度で検出できるから、前記第１特定画素および第２特定画素の実際の位置も高精度で特定できる。
【００２１】
このように前記画素位置特定方法は、従来のマルチヘッド露光装置を殆どそのまま利用して前記第１特定画素および第２特定画素の位置の特定を高精度で行うことができるという特長を有する。
【００２２】
更に、前記画素位置特定方法によれば、Ｙ軸方向即ち走査方向に沿ってビーム位置検出手段を移動させて第１特定画素および第２特定画素を選択し、位置を特定しているから、第２特定画素として第１特定画素とのＸ座標の差の少ない画素を選択できる。
【００２３】
したがって、前記第１特定画素と第２特定画素との露光タイミングを制御してＹ軸方向のずれを除去するだけで、第１露光ヘッドと第２露光ヘッドとの間の画像のずれを解消できる。
【００２４】
前記スリット部としては、スリットのほか、回折格子も使用できる。
【００２５】
前記画素位置特定方法においては、前記ビーム位置検出手段には、前記スリット部をＸ軸方向に向かって開くＶ字型、Ｘ字型、またはＴ字型に配設できる。
【００２６】
請求項２に記載の発明は、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を有する複数の露光ヘッドを一定方向に走査して画像を形成する画像形成装置において、各露光ヘッドの露光ビームの位置を測定して前記露光ヘッドの繋ぎ目の画素位置を特定する画素位置特定方法であって、前記露光ヘッドの画素配列に対して相対的に斜めであって一方が前記露光装置の走査方向に対して平行なＹ軸に沿って配設され、他方がＹ軸方向に直交するＸ軸方向に沿って配設された少なくとも１対のスリット部と前記スリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段を用いて前記露光ビームの位置を測定するとともに、第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の画素を順次ｏｎし、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の一方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の他方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記２つの画素のＹ座標の差とから第１特定画素の位置を特定する第１画素位置特定ステップと、前記ビーム位置検出手段をＹ軸方向に沿って移動させて第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の下方に位置させるとともに、第２の露光ヘッドの画素を順次ｏｎし、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の一方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の他方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記２つの画素のＹ座標の差とから前記第２特定画素の位置を特定する第２画素位置特定ステップとを有することを特徴とする画素位置特定方法に関する。
【００２７】
前記画素位置特定方法においては、ビーム位置検出手段のスリット部の一方はＹ軸方向に沿って、他方はＸ軸方向に沿って配設されているとともに、露光ヘッドの画素配列に対しては傾斜している。
【００２８】
第１の露光ヘッドの繋ぎ目近傍の画素を行方向に順次点灯させてＹ軸方向に沿ったスリット部を透過する露光ビームの光量を検出し、前記光量がピークに達したときに点灯していた画素を第１特定画素として選定する。そして、前記第１特定画素の近傍の画素を、列方向に沿って順次点灯させ、Ｘ軸方向に沿ったスリット部を透過する露光ビームの光量を測定し、前記光量がピークに達したときに点灯していた画素を、第１特定画素のＹ軸方向の位置を特定するための補助画素として選定する。
【００２９】
第１特定画素と補助画素とが選定されたら、補助画素のＹ座標と、前記補助画素と第１特定画素とのＹ座標の差とから、第１特定画素のＹ座標を特定する。
【００３０】
次に、必要に応じて前記ビーム検出手段をＹ軸方向に移動させ、第２の露光ヘッドの繋ぎ目近傍の画素を行方向に順次点灯させて第１特定画素の場合と同様の手順に従って第２特定画素と第１特定画素のＹ軸方向の位置を特定するための補助画素とを選定し、前記補助画素のＹ座標と、前記補助画素と第２特定画素とのＹ座標の差とから、第２特定画素のＹ座標を特定する。
【００３１】
前記画素位置特定方法は、請求項１に係る画素位置特定方法の有する特長に加え、前記第１画素位置特定ステップおよび第２画素位置特定ステップにおいて、前記ビーム位置検出手段を移動させること無く露光ビームの位置を特定できるという特長を有する。
【００３２】
また、前記ビーム位置検出手段はＹ軸方向に沿って移動するのみであるから、第１特定画素と第２特定画素とのＸ座標は同一である。したがって、第１特定画素と第２特定画素とのＹ軸方向に沿った距離と走査速度とに応じて第１および第２の露光ヘッドの露光タイミングを制御するだけで、第１露光ヘッドと第２の露光ヘッドとの間の画像のずれや重なりを解消できる。
【００３３】
スリット部については、請求項１で説明したとおりである。
【００３４】
請求項３に記載の発明は、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を有する複数の露光ヘッドを一定方向に走査して画像を形成する画像形成装置において、各露光ヘッドの露光ビームの位置を測定して前記露光ヘッドの繋ぎ目の画素位置を特定する画素位置特定方法であって、基準面上をＹ軸方向およびＸ軸方向に沿って移動可能に形成され、Ｙ軸方向に長い第１スリット部とＸ軸方向に長い第２スリット部と前記第１および第２のスリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段を用いて前記露光ビームの位置を測定するとともに、第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第１特定画素をｏｎし、前記ビーム位置検出手段をＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させ、前記第１スリット部および前記第２スリット部を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置に基いて前記第１特定画素の位置を特定する第１画素位置特定ステップと、第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第２特定画素をｏｎし、前記ビーム位置検出手段をＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させ、前記第１スリット部および前記第２スリット部を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置に基いて前記第２特定画素の位置を特定する第２画素位置特定ステップとを有することを特徴とする画素位置特定方法に関する。
【００３５】
前記画素位置特定方法においては、前記第１および第２画素位置特定ステップにおいて、前記ビーム位置検出手段をＸ軸方向に移動して前記第１スリット部において露光ビームを検知することにより、前記第１特定画素および前記第２特定画素のＸ軸方向の位置を求め、ビーム位置検出手段をＹ軸方向に移動して前記第２スリット部において露光ビームを検知することにより、前記第１特定画素および前記第２特定画素のＹ軸方向の位置を求める。
【００３６】
前記画素位置特定方法によれば、前記第１特定画素および前記第２特定画素がＸ軸方向にもＹ軸方向にも離れている場合においても、両者の実際の位置を正確に特定できるから、前記第１特定画素および前記第２特定画素で画像が繋がるように第１および第２の露光ヘッドを制御することにより、画像のずれを除去できる。
【００３７】
前記画素位置特定方法で使用できるビーム位置検出手段としては、たとえばマルチ露光ヘッドの露光ステージにおける非露光面に、Ｘ軸方向に高精度で移動可能な基台を有し、リニアエンコーダ頭により基台の位置が検出可能であるとともに、前記第１スリット部と第２スリット部とが前記基台上に設けられたビーム検出装置などが挙げられる。
【００３８】
請求項４に記載の方法は、一定方向に走査される複数の露光ヘッドで画像を形成する画像形成装置において、各露光ヘッド間の画像のずれおよび重なりを補正する画像ずれ補正方法であって、請求項１〜３の何れか１項に記載の画素位置特定方法により、第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第１特定画素、および第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第２特定画素の位置を特定する画素位置特定ステップと、前記画素位置特定ステップで特定された前記第１特定画素および前記第２特定画素の位置に基き、前記第１特定画素と前記第２特定画素とで画像が繋がるように前記第１の露光ヘッドおよび第２の露光ヘッドに入力される画像データを補正する画像データ補正ステップとを有することを特徴とする画像ずれ補正方法に関する。
【００３９】
前記画像ずれ補正方法においては、画素位置特定ステップにおいて第１特定画素と第２特定画素との実際の位置を特定している。
【００４０】
そして、画像データ補正ステップにおいては、前記画素位置特定ステップで特定した前記第１特定画素と第２特定画素との位置の差に基き、前記第１特定画素と第２特定画素とで画像が繋がるように前記第１の露光ヘッドおよび第２の露光ヘッドに入力される画像データを補正する。
【００４１】
したがって、前記画素位置特定方法によれば、第１の露光ヘッドと第２の露光ヘッドとが何らかの理由によって当所の位置からずれた場合においても、前記ずれに起因する露光ヘッドの繋ぎ目部分における画像のずれや重なりを効果的に除去できる。
【００４２】
請求項５に記載の発明は、前記画像データ補正ステップにおいて、前記第１特定画素と前記第２特定画素との間のＹ軸方向のずれについては、前記第１特定画素と前記第２特定画素との間のＹ軸方向の距離と前記露光ヘッドの走査速度とに応じて前記第１の露光ヘッドと前記第２の露光ヘッドとの露光タイミングを設定することにより除去するとともに、前記第１特定画素と前記第２特定画素との間のＸ軸方向のずれについては、前記第１特定画素と前記第２画素とにおいて画像データが重なるように前記第１の露光ヘッドと前記第２の露光ヘッドとに画像データを入力することにより除去する画像ずれ補正方法に関する。
【００４３】
請求項１または２の画素位置特定方法においては、第１特定画素を検出したビーム位置検出手段をＹ軸方向に移動させて第２画素を検出しているから、前記第１特定画素と前記第２特定画素は、Ｙ座標上の位置は異なるものの、Ｘ座標上の位置はほぼ等しい。
【００４４】
したがって、前記第１特定画素と前記第２画素とにおいて画像データが重なるように前記第１の露光ヘッドと前記第２の露光ヘッドとに画像データを入力するとと同時に、Ｙ軸方向のずれが生じないように第１の露光ヘッドと前記第２の露光ヘッドとの露光タイミングを設定すれば、前記第１特定画素と前記第２画素との画像のずれや重なりを無くすることができる。
【００４５】
請求項６に記載の発明は、３以上の露光ヘッドについても、前記画素位置特定ステップによってそれぞれの画像ヘッドにおける繋ぎ画素の前記基準面上の位置を特定し、前記繋ぎ画素で画像が繋がるように、前記画素位置特定ステップによって特定された繋ぎ画素の市に基いて前記露光ヘッドのそれぞれに入力される画像データを補正する画像ずれ補正方法に関する。
【００４６】
多数の露光ヘッドを有する画像形成装置においても、一の露光ヘッドと、前記一の露光ヘッドに画像が繋げられる他の露光ヘッドとの間で、請求項６または７に記載の画像ずれ補正方法で画像のずれや重なりを補正することにより、露光ヘッド間におけるずれや重なりのない良質な画像が形成される。
【００４７】
請求項７に記載の発明は、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を備えてなるとともに、画像形成面を一定方向に走査しつつ露光して画像を形成する複数の露光ヘッドを備える露光手段と、各露光ヘッドの露光ビームの位置を検出するビーム位置検出手段であって、前記走査方向に対して平行なＹ軸方向に沿って基準面上を移動可能に形成され、前記露光ヘッドの画素配列に対して相対的に斜めであって互いに交差するように配設された少なくとも１対のスリット部と前記スリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段と、前記ビーム位置検出手段によって検出された露光ビーム位置に基いて前記露光ヘッドの画素の位置を特定する画素位置特定手段と、前記画素位置特定手段で特定された画素位置に基づいて前記露光ヘッドを制御する露光制御手段とを備えてなり、前記画素位置特定手段は、前記露光手段において第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第１特定画素をｏｎするとともに、前記ビーム位置検出手段をＹ軸方向に沿って移動させ、前記ビーム位置検出手段の備える前記スリット部の一方および他方を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置と前記スリット部のなす角度とに基いて前記第１特定画素の位置を特定し、前記露光手段において第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第２特定画素をｏｎするとともに、前記ビーム位置検出手段をＹ軸方向に沿って移動させ、前記ビーム位置検出手段の備える前記スリット部の一方および他方を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置と前記スリット部のなす角度とに基いて前記第２特定画素の位置を特定し、前記露光制御手段は、前記ビーム位置検出手段で特定された前記第１特定画素および前記第２特定画素の位置に基き、前記第１特定画素と前記第２特定画素とで画像が繋がるように前記第１の露光ヘッドおよび第２の露光ヘッドに入力される画像データを補正することを特徴とする画像形成装置に関する。
【００４８】
前記画像形成装置においては、請求項１に記載の画素位置特定方法により、第１特定画素と第２特定画素の実際の位置を特定し、前記位置に基いて前記第１の露光ヘッドおよび第２の露光ヘッドに入力される画像データを補正して前記第１特定画素と前記第２特定画素とで画像を繋げている。
【００４９】
したがって、何らかの理由で露光ヘッドの位置がずれた場合にも、露光ヘッド間の画像のずれや重なりは自動的に補正されるから、前記画像のずれや重なりが生じることはない。
【００５０】
請求項８に記載の発明は、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を備えてなるとともに、画像形成面を一定方向に走査しつつ露光して画像を形成する複数の露光ヘッドを備えるとともに、前記露光ヘッドの画素が、前記走査方向に対して斜めに配列された露光手段と、各露光ヘッドの露光ビームの位置を検出するビーム位置検出手段であって、前記露光ヘッドの画素配列に対して相対的に斜めであって一方が前記露光装置の走査方向に対して平行なＹ軸に沿って配設され、他方がＹ軸方向に直交するＸ軸方向に沿って配設された少なくとも１対のスリット部と前記スリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段と、前記ビーム位置検出手段によって検出された露光ビーム位置に基いて前記露光ヘッドの画素の位置を特定する画素位置特定手段と、前記画素位置特定手段で特定された画素位置に基づいて前記露光ヘッドを制御する露光制御手段とを備えてなり、前記画素位置特定手段は、前記第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の画素を順次ｏｎさせ、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の一方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の他方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記２つの画素のＹ座標の差とから第１特定画素の位置を特定し、次に、第２の露光ヘッドの画素を順次ｏｎし、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の一方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の他方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記２つの画素のＹ座標の差とから前記第２特定画素の位置を特定し、前記露光制御手段は、前記画素位置特定手段で特定された前記第１特定画素および前記第２特定画素の位置に基き、前記第１特定画素と前記第２特定画素とで画像が繋がるように前記第１の露光ヘッドおよび第２の露光ヘッドに入力される画像データを補正することを特徴とする画像形成装置に関する。
【００５１】
前記画像形成装置においては、請求項２に記載の画素位置特定方法により、第１特定画素と第２特定画素の実際の位置を特定している。
【００５２】
したがって、前記画像形成装置は、請求項６に記載の画像形成装置の有する特長に加え、第１特定画素および第２特定画素の位置を特定している間、ビーム位置検出手段を動かす必要がない故に画素位置特定操作がより簡略化できるという特長を有する。
【００５３】
請求項９に記載の発明は、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を備えてなるとともに、画像形成面を一定方向に走査しつつ露光して画像を形成する複数の露光ヘッドを備える露光手段と、基準面上をＹ軸方向およびＸ軸方向に沿って移動可能に形成され、Ｙ軸方向に長い第１スリット部とＸ軸方向に長い第２スリット部と前記第１および第２のスリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段と、前記ビーム位置検出手段によって検出された露光ビーム位置に基いて前記露光ヘッドの画素の位置を特定する画素位置特定手段と、前記画素位置特定手段で特定された画素位置に基づいて前記露光ヘッドを制御する露光制御手段とを備えてなり、前記画素位置特定手段は、前記露光手段において第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第１特定画素をｏｎし、前記ビーム位置検出手段をＸ軸方向およびＹ軸方向に沿って移動させ、前記第１スリット部および前記第２スリット部を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置に基いて前記第１特定画素の位置を特定し、次いで前記露光手段において第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第２特定画素をｏｎし、前記ビーム位置検出手段をＸ軸方向およびＹ軸方向に沿って移動させ、前記第１スリット部および前記第２スリット部を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置に基いて前記第２特定画素の位置を特定し、前記露光制御手段は、前記ビーム位置検出手段で特定された前記第１特定画素および前記第２特定画素の位置に基き、前記第１特定画素と前記第２特定画素とで画像が繋がるように前記第１の露光ヘッドおよび第２の露光ヘッドに入力される画像データを補正することを特徴とする画像形成装置に関する。
【００５４】
前記画像形成装置においては、請求項３に記載の画素位置特定方法により、第１特定画素と第２特定画素の実際の位置を特定している。
【００５５】
したがって、前記画像形成装置は、請求項６に記載の画像形成装置の有する特長に加え、第１特定画素と第２特定画素とがＹ軸方向だけでなくＸ軸方向にも離れている場合においても、第１特定画素と第２特定画素との実際の位置を特定し、この位置に基いて第１露光ヘッドと第２露光ヘッドとの露光を制御することにより、画像のずれや重なりを除去できるという特長を有する。
【００５６】
請求項１０に記載の発明は、前記露光ヘッドにおいて複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段は、入力された画像データに応じて光源からの光を変調して画像を形成する空間光変調素子である画像形成装置に関する。
【００５７】
前記画像形成装置は、請求項６〜８に記載の画像形成装置において、前記露光ヘッドにおいて複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段として空間変調素子を用いた例である。
【００５８】
請求項１１に記載の発明は、前記空間変調素子が、光源からの光を反射するとともに、２つの位置の何れかをとることのできる微小反射鏡を多数備え、前記反射鏡の位置を、画像データに応じて前記２つの位置の何れかに切り替えて前記光源からの光の反射経路を切り替えることにより画素を形成するＤＭＤである画像形成装置に関する。
【００５９】
前記画像形成装置は、請求項１０に記載の画像形成装置において、空間光変調素子としてＤＭＤを用いた例である。
【００６０】
【発明の実施の形態】
１．実施形態１
本発明の露光装置の一例について以下に説明する。
【００６１】
実施形態１に係る露光装置は、いわゆるフラッドベッドタイプであり、図１に示すように、シート状の感光材料１５０を表面に吸着して保持する平板状の露光ステージ１５２を備えている。
【００６２】
前記露光装置は、４本の脚部１５４に支持された厚い板状の設置台１５６と、設置台１５６の上面に、図１において矢印で示すステージ移動方向に沿って設けられた２本のガイド１５８を備えている。露光ステージ１５２は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されるとともに、ガイド１５８によって往復移動可能に支持されている。露光ステージ１５２は、駆動装置（図示せず。）により、ガイド１５８に沿って移動する。
【００６３】
設置台１５６の中央部には、露光ステージ１５２の移動経路を跨ぐようにコ字状のゲート１６０が設けられている。コ字状のゲート１６０の各端部は、設置台１５６の両側面に固定されている。このゲート１６０を挟んで一方の側にはスキャナ１６２が設けられ、他方の側には感光材料１５０の先端及び後端を検知する複数（例えば、２個）の検知センサ１６４が設けられている。スキャナ１６２及び検知センサ１６４はゲート１６０に各々取り付けられて、露光ステージ１５２の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ１６２及び検知センサ１６４は、これらを制御する図示しないコントローラに接続されており、後述するように、露光ヘッド１６６によって露光する際に所定のタイミングで露光するように制御される。
【００６４】
露光ステージ１５２における搬送方向（走査方向）に沿って上流側（以下、単に「上流側」ということがある。）の端縁部には、Ｘ軸方向に向かって開く「く」の字型に形成されたスリット１２０が、複数形成されている。
【００６５】
スリット１２０は、上流側に位置するスリット１２０ａと下流側に位置するスリット１２０ｂとからなっている。スリット１２０ａとスリット１２０ｂとは互いに直交するとともに、Ｙ軸に対してスリット１２０ａは１３５度、スリット１２０ｂは４５度の角度を有している。
【００６６】
スリット１２０の下方には、露光ヘッド１６６からの光を検出するディテクタ（図示せず。）が形成されている。
【００６７】
スリット１２０と前記ディテクターとは、露光ステージ１５２とともにＹ軸方向に沿って移動する。
【００６８】
スリット１２０と前記ディテクターとは、本発明におけるビーム位置検出手段に相当する。
【００６９】
なお、スリット１２０ａおよびスリット１２０ｂは、実施形態１においては、走査方向に対して４５度の角度を成すように形成されているが、スリット１２０ａおよびスリット１２０ｂは、露光ヘッド１６６の画素配列に対して傾斜していると同時に、走査方向、即ちステージ移動方向に対して傾斜していれば、走査方向に対する角度は前記角度には限定されない。また、スリット１２０に代えて回折格子を使用してもよい。
【００７０】
スキャナ１６２は、図２及び図３の（Ｂ）に示すように、ｍ行ｎ列（例えば、２行５列）の略マトリックス状に配列された複数の露光ヘッド１６６を備えている。
【００７１】
露光ヘッド１６６で露光される領域である画像領域Ｐは、図２に示すように、短辺が走査方向に沿った矩形状であり、走査方向に対し、所定の傾斜角θで傾斜している。そして、露光ステージ１５２の移動に伴い、感光材料１５０には露光ヘッド１６６毎に帯状の露光済み領域１７０が形成される。なお、図１および図２に示すように、走査方向は、ステージ移動方向とは向きが反対である。
【００７２】
また、図３において（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域１７０びそれぞれが、隣接する露光済み領域１７０と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッドの各々は、配列方向に所定間隔（画像領域の長辺の自然数倍、本実施の形態では１倍）ずらして配置されている。このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する画像領域１６８Ａと、画像領域１６８Ａの右隣に位置する画像領域１６８Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する画像領域１６８Ｂにより露光される。同様に、画像領域１６８Ｂと、画像領域１６８Ｂの右隣に位置する画像領域１６８Ｄとの間の露光できない部分は、画像領域１６８Ｃにより露光される。
【００７３】
露光ヘッド１６６Ａ〜１６６Ｊの各々は、図４、および図５の（Ａ）、（Ｂ）に示すように、入射された光ビームを画像データに応じて各画素毎に変調する空間光変調素子として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）５０を備えている。このＤＭＤ５０は、データ処理部とミラー駆動制御部とを備えたコントローラ（図示せず。）に接続されている。前記コントローラのデータ処理部では、入力された画像データに基づいて、各露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０の制御すべき領域内の各マイクロミラーを駆動制御する制御信号を生成する。
【００７４】
また、ミラー駆動制御部では、画像データ処理部で生成した制御信号に基づいて、各露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０の各マイクロミラーの反射面の角度を制御する。なお、反射面の角度の制御に付いては後述する。
【００７５】
ＤＭＤ５０の光入射側には、光ファイバの出射端部（発光点）が画像領域Ｐの長辺方向と対応する方向に沿って一列に配列されたレーザ出射部を備えたファイバアレイ光源６６、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザ光を補正してＤＭＤ上に集光させるレンズ系６７、レンズ系６７を透過したレーザ光をＤＭＤ５０に向けて反射する反射鏡６９がこの順に配置されている。
【００７６】
レンズ系６７は、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザ光を平行光化する１対の組合せレンズ７１、平行光化されたレーザ光の光量分布が均一になるように補正する１対の組合せレンズ７３、及び光量分布が補正されたレーザ光をＤＭＤ上に集光する集光レンズ７５で構成されている。組合せレンズ７３は、レーザ出射端の配列方向に対しては、レンズの光軸に近い部分は光束を広げ且つ光軸から離れた部分は光束を縮め、且つこの配列方向と直交する方向に対しては光をそのまま通過させる機能を備えており、光量分布が均一となるようにレーザ光を補正する。
【００７７】
また、ＤＭＤ５０の光反射側には、ＤＭＤ５０で反射されたレーザ光を感光材料１５０の走査面（被露光面）５６上に結像するレンズ系５４、５８が配置されている。レンズ系５４及び５８は、ＤＭＤ５０と被露光面５６とが共役な関係となるように配置されている。
【００７８】
本実施形態では、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザ光は、均一化され、ＤＭＤ５０に入射された後、各画素がこれらのレンズ系５４、５８によって約５倍に拡大され、集光されるように設定されている。
【００７９】
ＤＭＤ５０は、図６に示すように、ＳＲＡＭセル（メモリセル）６０上に、微小ミラー（マイクロミラー）６２が支柱により支持されて配置されたものであり、画素（ピクセル）を構成する多数の（例えば、ピッチ１３．６８μｍ、１０２４個×７６８個）の微小ミラーを格子状に配列して構成されたミラーデバイスである。各ピクセルには、最上部に支柱に支えられたマイクロミラー６２が設けられており、マイクロミラー６２の表面にはアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。なお、マイクロミラー６２の反射率は９０％以上である。また、マイクロミラー６２の直下には、ヒンジ及びヨークを含む支柱を介して通常の半導体メモリの製造ラインで製造されるシリコンゲートのＣＭＯＳのＳＲＡＭセル６０が配置されており、全体はモノリシック（一体型）に構成されている。
【００８０】
ＤＭＤ５０のＳＲＡＭセル６０に、マイクロミラー６０の傾斜状態（変調状態）を示すデジタル信号が書き込まれ、さらにＳＲＡＭセル６０からマイクロミラー６２にデジタル信号が出力されると、支柱に支えられたマイクロミラー６２が、対角線を中心としてＤＭＤ５０が配置された基板側に対して±α度（例えば±１０度）の範囲で傾けられる。図７において（Ａ）は、マイクロミラー６２がオン状態である＋α度に傾いた状態を示し、図７において（Ｂ）は、マイクロミラー６２がオフ状態である−α度に傾いた状態を示す。従って、画像信号に応じて、ＤＭＤ５０の各ピクセルにおけるマイクロミラー６２の傾きを、図６に示すように制御することによって、ＤＭＤ５０に入射された光はそれぞれのマイクロミラー６２の傾き方向へ反射される。
【００８１】
なお、図６には、ＤＭＤ５０の一部を拡大し、マイクロミラー６２が＋α度又は−α度に制御されている状態の一例を示す。それぞれのマイクロミラー６２のオンオフ制御は、ＤＭＤ５０に接続された図示しないコントローラによって行われる。なお、オフ状態のマイクロミラー６２により光ビームが反射される方向には、光吸収体（図示せず）が配置されている。
【００８２】
前述のように、スキャナ１６２においては、１行目の最も左側に位置する画像領域１６８Ａと、画像領域１６８Ａの右隣に位置する画像領域１６８Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する画像領域１６８Ｂにより露光されるから、画像領域１６８Ａに繋がれる画像領域は画像領域１６８Ｂである。図８に、画像領域１６８Ａおよび画像領域１６８Ｂの位置関係を示す。図８以下においては、走査方向をＸ軸にとり、露光ヘッド１６６の配列方向をＹ軸にとる。
【００８３】
図８に示すように、画像領域１６８Ａと画像領域１６８Ｂとは、露光ヘッド１６６Ａの画素である繋ぎ画素Ｐ１と、露光ヘッド１６６Ｂの画素である繋ぎ画素Ｐ２とにおいて繋げられる。繋ぎ画素Ｐ１および繋ぎ画素Ｐ２は、それぞれ本発明における第１特定画素および第２特定画素の例である。
【００８４】
以下、繋ぎ画素Ｐ１と繋ぎ画素Ｐ２とを選択して実際の位置を特定する手順について説明する。
【００８５】
先ず、露光ステージ１５２を移動させてスリット１２０をスキャナ１６２の下方に位置させ、露光ヘッド１６６Ａの画素のうち、露光ヘッド１６６Ｂの画素に重ねるべき画素を繋ぎ画素Ｐ１として選択し、点灯させる。
【００８６】
そして、図９および図１０に示すように、露光ステージ１５２をゆっくり移動させてスリット１２０をＹ軸方向に沿って移動させ、画像領域１６８Ａに位置させる。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点を（Ｘ０，Ｙ０）とする。ここで、前述のように、スリット１２０ａはＹ軸に対して１３５度の角度を成し、スリット１２０ｂはＹ軸に対して４５度の角度を成している。なお、図１０以下においてＹ軸から反時計方向に回転する方向を正の角とする。
【００８７】
次に、図１０に示すように、露光ステージ１５２を移動させ、スリット１２０をＹ軸に沿って図１０における右方に移動させる。そして、図１０において二点鎖線で示すように、繋ぎ画素Ｐ１からの光が左側のスリット１２０ａを通過してディテクターで検出されたところで露光ステージ１５２を停止させる。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点を（Ｘ０，Ｙ１１）とする。
【００８８】
今度は露光ステージ１５２を移動させ、スリット１２０をＹ軸に沿って図１１における左方に移動させる。そして、図１１において二点鎖線で示すように、繋ぎ画素ｐ２からの光が右側のスリット１２０ｂを通過してディテクタで検出されたところで露光ステージ１５２を停止させる。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点を（Ｘ０，Ｙ１２）とする。
【００８９】
ここで、繋ぎ画素Ｐ１の座標を（Ｘ１，Ｙ１）とすると、Ｘ１＝Ｘ０＋（Ｙ１１−Ｙ１２）／２で表され、Ｙ１＝（Ｙ１１＋Ｙ１２）／２で表される。
【００９０】
繋ぎ画素Ｐ１の座標が求められたら、繋ぎ画素Ｐ１を消燈し、露光ヘッド１６６Ｂの画素のうち、画像領域１６８Ａに繋ぐべき画素であって繋ぎ画素Ｐ１に位置の近いものを繋ぎ画素ｐ２として選択して点灯する。
【００９１】
そして、露光ステージ１５２をＹだけ移動させてスリット１２０を画像領域１６８Ｂに位置させる。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点の座標は（Ｘ０，Ｙ０＋Ｙ）である。
【００９２】
そして、図１１に示すように、露光ステージ１５２を移動させ、スリット１２０をＹ軸に沿って図１１における右方に移動させる。図１１において二点鎖線で示すように、繋ぎ画素ｐ２からの光が左側のスリット１２０ａを通過してディテクターで検出されたところで露光ステージ１５２を停止させる。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点を（Ｘ０，Ｙ２１）とする。
【００９３】
今度は露光ステージ１５２を移動させ、スリット１２０をＹ軸に沿って図１１における左方に移動させる。そして、図１１において二点鎖線で示すように、繋ぎ画素Ｐ１からの光が右側のスリット１２０ｂを通過してディテクタで検出されたところで露光ステージ１５２を停止させる。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点を（Ｘ０，Ｙ２２）とする。
【００９４】
ここで、繋ぎ画素ｐ２の座標を（ｘ２，ｙ２）とすると、ｘ２＝Ｘ０＋（Ｙ２１−Ｙ２２）／２で表され、ｙ２＝（Ｙ２１＋Ｙ２２）／２で表される。
【００９５】
このようにして求められた繋ぎ画素ｐ２（ｘ２，ｙ２）について、図１２に示すように、繋ぎ画素Ｐ１とのＸ座標の差ΔＸ＝ｘ２−Ｘ１を求める。そして、前記画素ｐ２のうち、Ｘ座標の差ΔＸが最も小さなものを繋ぎ画素Ｐ２（Ｘ２，Ｙ２）として選択する。
【００９６】
繋ぎ画素Ｐ１と繋ぎ画素Ｐ２とは、Ｘ方向のずれは極めて小さいから、露光タイミングを補正してＹ軸方向のずれを除去し、Ｘ方向については画像が重なるように露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂに入力される画像データを制御することにより、図１３に示すように繋ぎ画素Ｐ１と繋ぎ画素Ｐ２との間の画像のずれや重なりを除去できる。
【００９７】
なお、露光ヘッド１６６Ａにおいて繋ぎ画素Ｐ１を複数指定し、前記複数の繋ぎ画素Ｐ１のそれぞれについて前記手順に従って実際のＸＹ座標（Ｘ１，Ｙ１）を特定するとともに、前記繋ぎ画素Ｐ１のそれぞれについて露光ヘッド１６６Ｂの画素から繋ぎ画素Ｐ２を指定して実際のＸＹ座標（Ｘ２、Ｙ２）を特定すれば、露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂとの間の画像のずれや重なりをさらに小さくすることができる。
【００９８】
実施形態１に係る露光装置においては、露光ステージを移動させてスリット１２０ａおよびスリット１２０ｂを透過する露光ビームの光量をディテクターで検出することにより、露光ヘッド１６６Ａおよび露光ヘッド１６６Ｂの画素から繋ぎ画素Ｐ１および繋ぎ画素Ｐ２を選択すると共に、実際の位置を特定できる。
【００９９】
したがって、繋ぎ画素Ｐ１および繋ぎ画素Ｐ２を選択し、位置を特定するのに、高価で大型な付加設備は不要である。
【０１００】
さらに、露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂとの間の相対的な位置関係が何らかの理由でずれた場合においても、繋ぎ画素Ｐ１および繋ぎ画素Ｐ２の実際の位置に関する位置情報に基いて露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂとに入力する画像データを制御することにより、露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂとの間の画像との間のずれや重なりを精度よく補正できる。
【０１０１】
以上、スリット１２０ａおよびスリット１２０ｂを用いることによって露光ヘッド１６６Ａおよび露光ヘッド１６６Ｂの繋ぎ画素を特定し、擦れや重なりのない画像を形成する方法について述べたが、同様の手順を順次繰り返すことにより、露光装置１００の全ての露光ヘッド１６６間の繋ぎ画素を特定し、前記繋ぎ画素で画像が重なるように、前記露光ヘッド１６６に入力される画像データに対して画像データシフト、画像回転、倍率変換などの補正を行うことができ、露光領域全体に亘って繋ぎ目におけるずれの少ない画像を形成できる。
【０１０２】
２．実施形態２
実施形態２に係る露光装置の構成を図１４に示す。
【０１０３】
図１４に示すように、実施形態２に係る露光装置の露光ステージ１５２における上流側の端縁部には、Ｙ軸に対して平行なスリット１３０ａとＸ軸に対して平行なスリット１３０ｂとからなるスリット１３０が設けられている。スリット１３０ａとスリット１３０ｂとは、Ｔ字型に交差するように設けられている。スリット１３０ａとスリット１３０ｂとの下方には、スリット１３０ａとスリット１３０ｂとを透過した露光ビームを検出するディテクターが設けられている。
【０１０４】
実施形態２に係る露光装置は、上記の点を除いては、実施形態１の露光装置と同一の構成を有する。
【０１０５】
実施形態２に係る露光装置において、露光ヘッド１６６Ａの画素から繋ぎ画素Ｐ１を選定して位置を特定する手順について説明する。
【０１０６】
先ず、スリット１３０が、画像領域１６８Ａと画像領域１６８Ｂとの繋ぎ目付近に位置するように露光ステージ１５２を移動させる。
【０１０７】
スリット１３０が露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂとの下方に位置したら、露光ステージ１５２を前記位置で停止させる。そして、図１５に示すように、露光ヘッド１６６Ａのある行方向（横方向）に沿って画素を順次点灯させる。同様に、露光ヘッド１６６Ａのある列方向（縦方向）に沿って画素を下方から上方に向かって順次点灯させる。
【０１０８】
図１５に示すように、画素Ｐ１（ａ，ｎ）を点灯させたときにスリット１３０ａのディテクタが光量のピークを検出し、画素Ｐ＊１（ｍ，ｂ）を点灯させたときにスリット１３０ｂのディテクタが光量のピークを検出したとき、露光ヘッド１６６Ａの画素Ｐ１を繋ぎ画素Ｐ１として選択し、画素Ｐ＊１を補助画素として選択する。なお、繋ぎ画素Ｐ１（ａ，ｎ）および補助画素Ｐ＊１（ｍ，ｂ）の（ａ，ｎ）および（ｍ，ｂ）は、それぞれ繋ぎ画素Ｐ１および補助画素Ｐ＊１のＸ座標およびＹ座標を示す。
【０１０９】
ここで、図１６に示すように、繋ぎ画素Ｐ１（ａ，ｎ）と補助画素Ｐ＊１（ｍ，ｂ）とのＹ軸方向の位置差ΔＹ１は、以下の式：
ΔＹ１＝ｂ−ｎ
で与えられる。
【０１１０】
次に、露光ステージ１５２を距離Ｙｓだけ移動させ、露光ヘッド１６６Ｂのある行の画素を左方から右方に向かって順次点灯させ、同様に、ある列の画素をＸ軸方向に沿って下方から上方に向かって順次点灯させる。
【０１１１】
このとき、画素Ｐ２（ｃ，ｎ´）を点灯させたときにスリット１３０ａのディテクタが光量のピークを検出し、画素Ｐ＊２（ｍ´，ｄ）を点灯させたときにスリット１３０ｂのディテクタが光量のピークを検出したとすると、前記画素Ｐ２（ｃ，ｎ´）を繋ぎ画素として選択し、画素画素Ｐ＊２を補助画素として選択する。
【０１１２】
繋ぎ画素Ｐ２（ｃ，ｎ´）と補助画素Ｐ＊２（ｍ´，ｂ）とのＹ軸方向の位置差ΔＹ２は、以下の式：
ΔＹ２＝（ｄ−ｎ´）
で与えられる。
【０１１３】
繋ぎ画素Ｐ１（ａ，ｎ）を検出したときと、繋ぎ画素Ｐ２（ｃ，ｎ´）を検出したときとで、スリット１３０は、Ｘ軸方向には全く移動していないから、繋ぎ画素Ｐ１（ａ，ｎ）と繋ぎ画素Ｐ２（ｃ，ｎ´）とは、Ｘ座標が一致している。一方、Ｙ軸方向の距離は、以下の式：
【０１１４】
したがって、繋ぎ画素Ｐ１（ａ，ｎ）と繋ぎ画素Ｐ２（ｃ，ｎ´）との間で、前記Ｙ軸方向の距離に応じた点灯タイミング補正を行うことにより、露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂとの間のずれや重なりを除去できる。
【０１１５】
以上、スリット１３０ａおよびスリット１３０ｂを１つづつ用いて繋ぎ画素Ｐ１（ａ，ｎ）と繋ぎ画素Ｐ２（ｃ，ｎ´）とを選定し、位置を特定する例について述べたが、図１７ののようにスリット１３０ａおよびスリット１３０ｂを露光ヘッド１６６Ａおよび露光ヘッド１６６Ｂの画素のＸ方向およびＹ方向に沿ったピッチに合わせて複数個設ければ、透過光量がアップするから、画素の検出精度が向上し、より高精度な画像繋ぎが可能になる。
【０１１６】
実施形態２に係る露光装置においては、繋ぎ画素Ｐ２は、繋ぎ画素Ｐ１とＸ座標が同一であるから、露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂとに、Ｘ方向については同一の画像データが入力されるように画像データ入力を制御すれば、露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂとの間の画像のずれは完全に除去できる。また、Ｙ軸方向の画像のずれも、繋ぎ画素Ｐ１と繋ぎ画素Ｐ２との間で点灯タイミングを調整することにより除去できる。
【０１１７】
したがって、実施形態１に係る露光装置よりもさらに高精度の画像繋ぎが可能になる。
【０１１８】
また、繋ぎ画素Ｐ１および繋ぎ画素Ｐ２を選択しているあいだは、露光ステージ１５２を停止しているから、実施形態１に係る露光装置に比較して、繋ぎ画像の選定および位置特定時に露光テーブル１５２を移動させる頻度をさらに少なくすることができる。
【０１１９】
以上、スリット１３０ａおよびスリット１３０ｂを用いることによって露光ヘッド１６６Ａおよび露光ヘッド１６６Ｂの繋ぎ画素を特定し、擦れや重なりのない画像を形成する方法について述べたが、同様の手順を順次繰り返すことにより、露光装置の全ての露光ヘッド１６６間の繋ぎ画素を特定し、前記繋ぎ画素で画像が重なるように、前記露光ヘッド１６６に入力される画像データに対して画像データシフト、画像回転、倍率変換などの補正を行うことができ、露光領域全体に亘って繋ぎ目におけるずれの少ない画像を形成できる。
【０１２０】
３．実施形態３
実施形態３に係る露光装置の構成を図１８に示す。
【０１２１】
図１８に示すように、実施形態３に係る露光装置においては、露光ステージ１５２の上流側端縁部に本発明のビーム位置検出手段に対応するビーム位置検出装置１４０が設けられている。
【０１２２】
ビーム位置検出装置１４０の詳細を図１９に示す。
【０１２３】
図１８および図１９に示すように、ビーム位置検出装置１４０は、露光ステージ１５２の上流側端縁部に、Ｘ軸方向に沿って設けられた溝１４８の内部を摺動する基台１４２と、基台１４２の移動方向に沿って溝１４８の中央部に設けられているとともに、基台１４２のＸ軸方向の位置を検出するリニアエンコーダ１４４と、溝１４８の内側に、基台１４２を移動させる１対のボールねじ１４６とを備えている。基台１４２にはリニアガイド（図示せず。）が互いに平行に２本設けられている。なお、ボールねじ１４６はモータ（図示せず。）により回転して基台１４２を移動させる。
【０１２４】
基台１４２は、上面が、露光ステージ１５２の露光面と同一面上に位置するように形成されている。基台１４２の上面には、Ｘ軸方向に沿ってスリット１４０ａが、Ｙ軸方向に沿ってスリット１４０ｂが設けられている。スリット１４０ａとスリット１４０ｂとは、互いに直交している。スリット１４０ａとスリット１４０ｂとの下方には、スリット１４０ａとスリット１４０ｂとを透過した露光ビームの光を検出するディテクター（図示せず。）が設けられている。
【０１２５】
以下、前記露光装置において露光ヘッド１６６Ａおよび露光ヘッド１６６Ｂの画素から特定画素Ｐ１および特定画素Ｐ２を選定し、その実際の位置を特定するする。
【０１２６】
先ず、露光ヘッド１５２を移動させてビーム位置検出装置１４０をＹ軸方向に沿って移動させるとともに、ビーム位置検出装置１４０の基台１４２を溝１４８に沿って移動させ、基台１４２を画像領域１６８Ａと画像領域１６８Ｂとの繋ぎ目部分に位置させる。
【０１２７】
つぎに、露光ヘッド１６６Ａの画素の内、画像領域１６８Ｂに繋ごうとするものを選択し、繋ぎ画素Ｐ１とする。
【０１２８】
そして、図２０に示すように、露光ヘッド１５２を微細に移動させ、基台１４２をＹ軸方向に沿って移動させる。繋ぎ画素Ｐ１からの露光ビームがスリット１４０ａを透過した光量がピークに達したら露光ヘッド１５２を停止させ、露光ステージ１５２に設けられたリニアエンコーダ（図示せず。）によって露光ステージのＹ軸方向の位置を検出する。そして前記Ｙ軸方向の位置を繋ぎ画素Ｐ１のＹ座標Ｙ１とする。
【０１２９】
次に、ボールねじ１４６によって基台１４２をＸ軸方向に移動させ、露光ビームがスリット１４０ｂを透過した光量がピークに達したら、リニアエンコーダ１４４によってこのときの基台１４２のＸ軸方向の位置を検出する。そして前記Ｘ軸方向の位置を繋ぎ画素Ｐ１のＸ座標Ｘ１とする。
【０１３０】
繋ぎ画素Ｐ１の位置が特定されたら、繋ぎ画素Ｐ１を消灯し、代わりに露光ヘッド１６６Ｂの画素の内、画像領域１６８Ａに繋ごうとする画素ｐ２を点灯させ、ビーム位置検出装置１４０により、同様の手順に従って画素ｐ２のＸＹ座標（ｘ２，ｙ２）を求める。
【０１３１】
このようにして座標を求めた画素ｐ２のＸＹ座標（ｘ２，ｙ２）を、繋ぎ画素Ｐ１のＸＹ座標（Ｘ１，Ｙ１）と比較し、繋ぎ画素Ｐ１に最も近い画素ｐ２を繋ぎ画素Ｐ２（Ｘ２，Ｙ２）として選択する。
【０１３２】
このようにして繋ぎ画素Ｐ１と繋ぎ画素Ｐ２との実際の位置が特定されたら、前記位置に基いて露光ヘッド１６６Ａと露光ヘッド１６６Ｂに入力される画像データを制御し、繋ぎ画素Ｐ１と繋ぎ画素Ｐ２とで画像が繋がるようにする。
【０１３３】
実施形態３に係る露光装置によれば、ビーム位置検出装置１４０によって繋ぎ画素Ｐ１および繋ぎ画素Ｐ２の正確なＸＹ座標が短時間で求まるから、繋ぎ画素Ｐ１および繋ぎ画素Ｐ２として、Ｘ座標が必ずしも同一でないものを選択した場合においても、正確に画像を繋げることができる。
【０１３４】
以上、ビーム位置検出装置１４０を用いることによって露光ヘッド１６６Ａおよび露光ヘッド１６６Ｂの繋ぎ画素を特定し、擦れや重なりのない画像を形成する方法について述べたが、同様の手順を順次繰り返すことにより、露光装置１００の全ての露光ヘッド１６６間の繋ぎ画素を特定し、前記繋ぎ画素で画像が重なるように、前記露光ヘッド１６６に入力される画像データに対して画像データシフト、画像回転、倍率変換などの補正を行うことができ、露光領域全体に亘って繋ぎ目におけるずれの少ない画像を形成できる。
【０１３５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、前記マルチヘッド露光装置において、各露光ヘッドによって形成される画像間のずれが極めて小さい露光装置および前記露光装置で行うことのできる画像ずれ補正方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、実施形態１に係る露光装置の構成を示す斜視図である。
【図２】図２は、実施形態１に係る露光装置の備えるスキャナの構成を示す斜視図である。
【図３】図３は、感光材料に形成される露光済み領域を示す平面図および各露光ヘッドによる画像領域の配列を示す概略図である。
【図４】図４は、実施形態１に係る露光装置の備える露光ヘッドの概略構成を示す斜視図である。
【図５】図５は、図４に示す露光ヘッドの構成を示す光軸に沿った走査方向の断面図である。
【図６】図６は、図４に示す露光ヘッドの備えるデジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）の構成を示す部分拡大図である。
【図７】図７は、図６に示すＤＭＤの動作を示す説明図である。
【図８】図８は、実施形態１に係る露光装置において、一の露光ヘッドによって照射される一の画像領域と、他の露光ヘッドによって照射されるとともに、前記一の画像領域に繋げようとする他の画像領域との位置関係を示す平面図である。
【図９】図９は、前記一の画像領域および他の画像領域と、前記露光装置の露光ステージに設けられたスリットとの位置関係を示す平面図である。
【図１０】図１０は、前記一の露光ヘッドの繋ぎ画素である一の繋ぎ画素の位置を前記スリットによって特定する手順を示す説明図である。
【図１１】図１１は、前記他の露光ヘッドの画素のうち、前記一の画像領域に繋げようとするものの位置を前記スリットによって特定する手順を示す説明図である。
【図１２】図１２は、前記他の露光ヘッドの画素のうち、図１１の手順によって位置が特定されたものから、他の繋ぎ画素を選択する手順を示す説明図である。
【図１３】図１３は、前記一の繋ぎ画素と前記他の繋ぎ画素とによって前記一の画像領域と他の画像領域とが繋げられた状態を示す平面図である。
【図１４】図１４は、実施形態２に係る露光装置の構成を示す斜視図である。
【図１５】図１５は、実施形態２に係る露光装置において、露光ステージに設けられたスリットによって一の露光ヘッドにおける一の繋ぎ画素の位置を特定する手順を示す説明図である。
【図１６】図１６は、繋ぎ画素Ｐ１と補助画素Ｐ＊１とのＹ軸方向に沿った位置の差を示す説明図である。
【図１７】図１７は、実施形態２に係る露光装置において、互いに平行な複数のスリットを用いて繋ぎ画素の位置を特定する手順を示す説明図である。
【図１８】図１８は、実施形態３に係る露光装置の構成を示す斜視図である。
【図１９】図１９は、実施形態３に係る露光装置の備えるビーム検出装置の構成の詳細を示す拡大図である。
【図２０】図２０は、実施形態３に係る露光装置において、ビーム位置検出装置によって繋ぎ画素のＸＹ座標を特定する手順を示す説明図である。
【符号の説明】
５０ ＤＭＤ
５３ 反射光像（露光ビーム）
５４、５８ レンズ系
５６ 走査面（被露光面）
６４ レーザモジュール
６６ ファイバアレイ光源
６８ レーザ出射部
７３ 組合せレンズ
１２０ スリット
１３０ スリット
１４０ ビーム位置検出装置
１４０ａ スリット
１４０ｂ スリット
１５０ 感光材料
１５２ ステージ（移動手段）
１６２ スキャナ
１６６ 露光ヘッド
１７０ 露光済み領域
Claims (11)
- 複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を有する複数の露光ヘッドを一定方向に走査して画像を形成する画像形成装置において、各露光ヘッドの露光ビームの位置を測定して前記露光ヘッドの繋ぎ目の画素位置を特定する画素位置特定方法であって、
前記露光装置の走査方向に対して平行なＹ軸方向に沿って基準面上を移動可能に形成され、前記露光ヘッドの画素配列に対して相対的に斜めであって互いに交差するように配設された少なくとも１対のスリット部と前記スリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段を用いて前記露光ビームの位置を測定するとともに、
第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第１特定画素をｏｎして前記ビーム位置検出手段をＹ軸方向に沿って移動させ、前記スリット部の一方および他方を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置と前記スリット部の位置と前記スリット部が互いになす角度とに基いて前記第１特定画素の位置を特定する第１画素位置特定ステップと、
第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第２特定画素をｏｎして前記ビーム位置検出手段をＹ軸方向に沿って移動させ、前記スリット部の一方および他方を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置と前記スリット部のなす角度とに基いて前記第２特定画素の位置を特定する第２画素位置特定ステップとを
有することを特徴とする画素位置特定方法。 - 複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を有する複数の露光ヘッドを一定方向に走査して画像を形成する画像形成装置において、各露光ヘッドの露光ビームの位置を測定して前記露光ヘッドの繋ぎ目の画素位置を特定する画素位置特定方法であって、
前記露光ヘッドの画素配列に対して相対的に斜めであって一方が前記露光装置の走査方向に対して平行なＹ軸に沿って配設され、他方がＹ軸方向に直交するＸ軸方向に沿って配設された少なくとも１対のスリット部と前記スリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段を用いて前記露光ビームの位置を測定するとともに、
前記第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の画素を順次ｏｎし、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の一方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の他方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記２つの画素のＹ座標の差とから第１特定画素の位置を特定する第１画素位置特定ステップと、
前記第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の画素を順次ｏｎし、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の一方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の他方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記２つの画素のＹ座標の差とから第２特定画素の位置を特定する第２画素位置特定ステップとを
有することを特徴とする画素位置特定方法。 - 複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を有する複数の露光ヘッドを一定方向に走査して画像を形成する画像形成装置において、各露光ヘッドの露光ビームの位置を測定して前記露光ヘッドの繋ぎ目の画素位置を特定する画素位置特定方法であって、
基準面上をＹ軸方向およびＸ軸方向に沿って移動可能に形成され、Ｙ軸方向に長い第１スリット部とＸ軸方向に長い第２スリット部と前記第１および第２のスリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段を用いて前記露光ビームの位置を測定するとともに、
第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第１特定画素をｏｎし、前記ビーム位置検出手段をＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させ、前記第１スリット部および前記第２スリット部を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置に基いて前記第１特定画素の位置を特定する第１画素位置特定ステップと、
第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第２特定画素をｏｎし、前記ビーム位置検出手段をＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させ、前記第１スリット部および前記第２スリット部を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置に基いて前記第２特定画素の位置を特定する第２画素位置特定ステップとを
有することを特徴とする画素位置特定方法。 - 複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を有する複数の露光ヘッドを一定方向に走査して画像を形成する画像形成装置において、各露光ヘッド間の画像のずれおよび重なりを補正する画像ずれ補正方法であって、
請求項１〜３の何れか１項に記載の画素位置特定方法により、第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第１特定画素、および第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第２特定画素の位置を特定する画素位置特定ステップと、
前記画素位置特定ステップで特定された前記第１特定画素および前記第２特定画素の位置に基き、前記第１特定画素と前記第２特定画素とで画像が繋がるように前記第１の露光ヘッドおよび第２の露光ヘッドに入力される画像データを補正する画像データ補正ステップとを
有することを特徴とする画像ずれ補正方法。 - 前記画像データ補正ステップにおいて、
前記第１特定画素と前記第２特定画素との間のＹ軸方向の画像のずれについては、前記第１特定画素と前記第２特定画素との間のＹ軸方向の距離と前記露光ヘッドの走査速度とに応じて前記第１の露光ヘッドと前記第２の露光ヘッドとの露光タイミングを設定することにより除去するとともに、
前記第１特定画素と前記第２特定画素との間のＸ軸方向の画像のずれについては、前記第１特定画素と前記第２画素とにおいて画像データが重なるように前記第１の露光ヘッドと前記第２の露光ヘッドとに画像データを入力することにより除去する
請求項４に記載の画像ずれ補正方法。 - ３以上の露光ヘッドについても、
前記画素位置特定ステップによってそれぞれの画像ヘッドにおける繋ぎ画素の前記基準面上の位置を特定し、
前記繋ぎ画素で画像が繋がるように、前記画素位置特定ステップによって特定された繋ぎ画素の市に基いて前記露光ヘッドのそれぞれに入力される画像データを補正する
請求項４または５に記載の画像ずれ補正方法。 - 複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を備えてなるとともに、画像形成面を一定方向に走査しつつ露光して画像を形成する複数の露光ヘッドを備える露光手段と、
各露光ヘッドの露光ビームの位置を検出するビーム位置検出手段であって、前記走査方向に対して平行なＹ軸方向に沿って基準面上を移動可能に形成され、前記露光ヘッドの画素配列に対して相対的に斜めであって互いに交差するように配設された少なくとも１対のスリット部と前記スリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段と、
前記ビーム位置検出手段によって検出された露光ビーム位置に基いて前記露光ヘッドの画素の位置を特定する画素位置特定手段と、
前記画素位置特定手段で特定された画素位置に基づいて前記露光ヘッドを制御する露光制御手段とを備えてなり、
前記画素位置特定手段は、
前記露光手段において第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第１特定画素をｏｎするとともに、前記ビーム位置検出手段をＹ軸方向に沿って移動させ、前記ビーム位置検出手段の備える前記スリット部の一方および他方を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置と前記スリット部のなす角度とに基いて前記第１特定画素の位置を特定し、
前記露光手段において第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第２特定画素をｏｎするとともに、前記ビーム位置検出手段をＹ軸方向に沿って移動させ、前記スリット部の一方および他方を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置と前記スリット部のなす角度とに基いて前記第２特定画素の位置を特定し、
前記露光制御手段は、前記ビーム位置検出手段で特定された前記第１特定画素および前記第２特定画素の位置に基き、前記第１特定画素と前記第２特定画素とで画像が繋がるように前記第１の露光ヘッドおよび第２の露光ヘッドに入力される画像データを補正する
ことを特徴とする画像形成装置。 - 複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を有し、画像形成面を一定方向に走査しつつ露光して画像を形成する複数の露光ヘッドを備えるとともに、前記露光ヘッドの画素が、前記走査方向に対して斜めに配列された露光手段と、
各露光ヘッドの露光ビームの位置を検出するビーム位置検出手段であって、前記露光ヘッドの画素配列に対して相対的に斜めであって一方が前記露光装置の走査方向に対して平行なＹ軸に沿って配設され、他方がＹ軸方向に直交するＸ軸方向に沿って配設された少なくとも１対のスリット部と前記スリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段と、
前記ビーム位置検出手段によって検出された露光ビーム位置に基いて前記露光ヘッドの画素の位置を特定する画素位置特定手段と、
前記画素位置特定手段で特定された画素位置に基づいて前記露光ヘッドを制御する露光制御手段とを備えてなり、
前記画素位置特定手段は、
前記第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の画素を順次ｏｎさせ、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の一方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の他方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記２つの画素のＹ座標の差とから第１特定画素の位置を特定し、
次に、第２の露光ヘッドの画素を順次ｏｎし、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の一方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記ビーム位置検出手段において前記スリット部の他方を通過する露光ビームの光量がピークに達したときの画素位置と、前記２つの画素のＹ座標の差とから第２特定画素の位置を特定し、
前記露光制御手段は、前記画素位置特定手段で特定された前記第１特定画素および前記第２特定画素の位置に基き、前記第１特定画素と前記第２特定画素とで画像が繋がるように前記第１の露光ヘッドおよび第２の露光ヘッドに入力される画像データを補正する
ことを特徴とする画像形成装置。 - 複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を有するとともに、画像形成面を一定方向に走査しつつ露光して画像を形成する複数の露光ヘッドを備える露光手段と、
基準面上をＹ軸方向およびＸ軸方向に沿って移動可能に形成され、Ｙ軸方向に長い第１スリット部とＸ軸方向に長い第２スリット部と前記第１および第２のスリット部を透過する前記露光ビームの光量を測定する光量測定手段とを有するビーム位置検出手段と、
前記ビーム位置検出手段によって検出された露光ビーム位置に基いて前記露光ヘッドの画素の位置を特定する画素位置特定手段と、
前記画素位置特定手段で特定された画素位置に基づいて前記露光ヘッドを制御する露光制御手段とを備えてなり、
前記画素位置特定手段は、
前記露光手段において第１の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第１特定画素をｏｎし、前記ビーム位置検出手段をＸ軸方向およびＹ軸方向に沿って移動させ、前記第１スリット部および前記第２スリット部を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置に基いて前記第１特定画素の位置を特定し、次いで
前記露光手段において第２の露光ヘッドにおける画像の繋ぎ目付近の第２特定画素をｏｎし、前記ビーム位置検出手段をＸ軸方向およびＹ軸方向に沿って移動させ、前記第１スリット部および前記第２スリット部を透過する露光ビームの光量がピークに達したときの前記ビーム位置検出手段の位置に基いて前記第２特定画素の位置を特定し、
前記露光制御手段は、前記ビーム位置検出手段で特定された前記第１特定画素および前記第２特定画素の位置に基き、前記第１特定画素と前記第２特定画素とで画像が繋がるように前記第１の露光ヘッドおよび第２の露光ヘッドに入力される画像データを補正する
ことを特徴とする画像形成装置。 - 前記露光ヘッドにおいて複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段は、入力された画像データに応じて光源からの光を変調して画像を形成する空間光変調素子である請求項７〜９のいずれか１項に記載の画像形成装置。
- 前記空間光変調素子は、
光源からの光を反射するとともに、２つの位置の何れかをとることのできる微小反射鏡を多数備え、前記反射鏡の位置を、画像データに応じて前記２つの位置の何れかに切り替えて前記光源からの光の反射経路を切り替えることにより画素を形成するＤＭＤである
請求項１０に記載の画像形成装置。
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| US10/863,357 US7280129B2 (en) | 2003-06-10 | 2004-06-09 | Pixel position specifying method, method of correcting image offset, and image forming device |
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Cited By (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006030873A (ja) * | 2004-07-21 | 2006-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成装置および画像形成方法 |
| JP2006030966A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画方法および装置 |
| JP2006030986A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画装置および描画方法 |
| JP2006173470A (ja) * | 2004-12-17 | 2006-06-29 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 自動補正方法および自動補正装置 |
| WO2006104174A1 (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-05 | Fujifilm Corporation | 記録素子設定方法、画像記録方法及び装置 |
| WO2006104276A1 (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-05 | Fujifilm Corporation | Image drawing apparatus and method |
| JP2006284890A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | アライメントセンサの位置校正方法、基準パターン校正方法、露光位置補正方法、校正用パターン及びアライメント装置 |
| WO2006112137A1 (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-26 | Fujifilm Corporation | パターン形成方法 |
| JP2006330534A (ja) * | 2005-05-30 | 2006-12-07 | Nikon Corp | 基準指標板、基準指標板の調整方法、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
| WO2006129535A1 (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-07 | Fujifilm Corporation | 描画方法および装置 |
| WO2006134922A1 (ja) * | 2005-06-15 | 2006-12-21 | Fujifilm Corporation | 露光装置 |
| WO2006137429A1 (ja) * | 2005-06-23 | 2006-12-28 | Fujifilm Corporation | フレームデータ作成装置、作成方法、作成プログラム及び該プログラムを格納した記憶媒体、及び描画装置 |
| WO2006137343A1 (ja) * | 2005-06-22 | 2006-12-28 | Fujifilm Corporation | カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ並びに表示装置 |
| WO2006137241A1 (ja) * | 2005-06-22 | 2006-12-28 | Fujifilm Corporation | パターン形成方法 |
| WO2007000885A1 (ja) * | 2005-06-28 | 2007-01-04 | Fujifilm Corporation | 永久パターン形成方法 |
| WO2007007818A1 (en) * | 2005-07-12 | 2007-01-18 | Fujifilm Corporation | Method for manufacturing internal cell structure, internal cell structure, and display device |
| JP2007013157A (ja) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、放射線ビーム検査デバイス、放射線ビームの検査方法およびデバイス製造方法 |
| JP2007025398A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Fujifilm Corp | パターン形成方法 |
| JP2007078894A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法 |
| JP2007101592A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Nikon Corp | 走査型露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
| JP2007199532A (ja) * | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Fujifilm Corp | パターン形成方法 |
| JP2007271867A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Fujifilm Corp | 描画位置測定方法および装置並びに描画方法および装置 |
| JP2008046383A (ja) * | 2006-08-17 | 2008-02-28 | Fujifilm Corp | 描画位置測定方法および装置並びに描画方法および装置 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0872311A (ja) * | 1994-09-08 | 1996-03-19 | Matsushita Graphic Commun Syst Inc | 画像記録装置 |
| JP2000267295A (ja) * | 1999-03-15 | 2000-09-29 | Fujitsu Ltd | 露光方法及びその装置 |
| JP2001159742A (ja) * | 1999-12-01 | 2001-06-12 | Asahi Optical Co Ltd | ホログラム走査系を用いた分割露光装置 |
| JP2001305454A (ja) * | 2000-04-24 | 2001-10-31 | Asahi Optical Co Ltd | 走査式描画装置 |
| JP2002506231A (ja) * | 1998-03-02 | 2002-02-26 | マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット | ステッチング誤差防止用改良型パターン・ジェネレータ |
| JP2003122030A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-04-25 | Pentax Corp | 多重露光描画装置および多重露光描画方法 |
-
2003
- 2003-06-10 JP JP2003164705A patent/JP4486323B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0872311A (ja) * | 1994-09-08 | 1996-03-19 | Matsushita Graphic Commun Syst Inc | 画像記録装置 |
| JP2002506231A (ja) * | 1998-03-02 | 2002-02-26 | マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット | ステッチング誤差防止用改良型パターン・ジェネレータ |
| JP2000267295A (ja) * | 1999-03-15 | 2000-09-29 | Fujitsu Ltd | 露光方法及びその装置 |
| JP2001159742A (ja) * | 1999-12-01 | 2001-06-12 | Asahi Optical Co Ltd | ホログラム走査系を用いた分割露光装置 |
| JP2001305454A (ja) * | 2000-04-24 | 2001-10-31 | Asahi Optical Co Ltd | 走査式描画装置 |
| JP2003122030A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-04-25 | Pentax Corp | 多重露光描画装置および多重露光描画方法 |
Cited By (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006030966A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画方法および装置 |
| JP2006030986A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画装置および描画方法 |
| JP4583827B2 (ja) * | 2004-07-21 | 2010-11-17 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成装置および画像形成方法 |
| JP2006030873A (ja) * | 2004-07-21 | 2006-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成装置および画像形成方法 |
| JP4557703B2 (ja) * | 2004-12-17 | 2010-10-06 | 新光電気工業株式会社 | 自動補正方法および自動補正装置 |
| JP2006173470A (ja) * | 2004-12-17 | 2006-06-29 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 自動補正方法および自動補正装置 |
| WO2006104174A1 (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-05 | Fujifilm Corporation | 記録素子設定方法、画像記録方法及び装置 |
| JP2006284890A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | アライメントセンサの位置校正方法、基準パターン校正方法、露光位置補正方法、校正用パターン及びアライメント装置 |
| JP2006306006A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-11-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画装置および描画方法 |
| JP4533785B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2010-09-01 | 富士フイルム株式会社 | アライメントセンサの位置校正方法、基準パターン校正方法、露光位置補正方法、校正用パターン及びアライメント装置 |
| WO2006112137A1 (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-26 | Fujifilm Corporation | パターン形成方法 |
| WO2006104276A1 (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-05 | Fujifilm Corporation | Image drawing apparatus and method |
| JP4606949B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2011-01-05 | 富士フイルム株式会社 | 描画装置および描画方法 |
| JP2006330534A (ja) * | 2005-05-30 | 2006-12-07 | Nikon Corp | 基準指標板、基準指標板の調整方法、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
| WO2006129535A1 (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-07 | Fujifilm Corporation | 描画方法および装置 |
| JP2006337614A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Fujifilm Holdings Corp | 描画方法および装置 |
| WO2006134922A1 (ja) * | 2005-06-15 | 2006-12-21 | Fujifilm Corporation | 露光装置 |
| WO2006137241A1 (ja) * | 2005-06-22 | 2006-12-28 | Fujifilm Corporation | パターン形成方法 |
| WO2006137343A1 (ja) * | 2005-06-22 | 2006-12-28 | Fujifilm Corporation | カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ並びに表示装置 |
| KR101067729B1 (ko) * | 2005-06-23 | 2011-09-28 | 후지필름 가부시키가이샤 | 프레임 데이타 작성 장치, 작성 방법, 작성 프로그램, 그프로그램을 격납한 기억 매체, 및 묘화 장치 |
| WO2006137429A1 (ja) * | 2005-06-23 | 2006-12-28 | Fujifilm Corporation | フレームデータ作成装置、作成方法、作成プログラム及び該プログラムを格納した記憶媒体、及び描画装置 |
| WO2007000885A1 (ja) * | 2005-06-28 | 2007-01-04 | Fujifilm Corporation | 永久パターン形成方法 |
| JP2010206221A (ja) * | 2005-06-29 | 2010-09-16 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、放射線ビーム検査デバイス、放射線ビームの検査方法およびデバイス製造方法 |
| JP2007013157A (ja) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、放射線ビーム検査デバイス、放射線ビームの検査方法およびデバイス製造方法 |
| JP2007024969A (ja) * | 2005-07-12 | 2007-02-01 | Fujifilm Holdings Corp | セル内構造の製造方法及びセル内構造並びに表示装置 |
| WO2007007818A1 (en) * | 2005-07-12 | 2007-01-18 | Fujifilm Corporation | Method for manufacturing internal cell structure, internal cell structure, and display device |
| JP2007025398A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Fujifilm Corp | パターン形成方法 |
| JP2007078894A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法 |
| JP2007101592A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Nikon Corp | 走査型露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
| JP2007199532A (ja) * | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Fujifilm Corp | パターン形成方法 |
| JP2007271867A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Fujifilm Corp | 描画位置測定方法および装置並びに描画方法および装置 |
| WO2007119555A1 (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-25 | Fujifilm Corporation | 描画位置測定方法および装置並びに描画方法および装置 |
| KR101373643B1 (ko) | 2006-03-31 | 2014-03-12 | 가부시키가이샤 아도테크 엔지니어링 | 묘화 위치 측정 방법과 장치 및 묘화 방법과 장치 |
| JP2008046383A (ja) * | 2006-08-17 | 2008-02-28 | Fujifilm Corp | 描画位置測定方法および装置並びに描画方法および装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4486323B2 (ja) | 2010-06-23 |
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