JP2000267295A - 露光方法及びその装置 - Google Patents
露光方法及びその装置Info
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
- A61M5/00—Devices for bringing media into the body in a subcutaneous, intra-vascular or intramuscular way; Accessories therefor, e.g. filling or cleaning devices, arm-rests
- A61M5/178—Syringes
- A61M5/31—Details
- A61M5/32—Needles; Details of needles pertaining to their connection with syringe or hub; Accessories for bringing the needle into, or holding the needle on, the body; Devices for protection of needles
- A61M5/3205—Apparatus for removing or disposing of used needles or syringes, e.g. containers; Means for protection against accidental injuries from used needles
- A61M5/321—Means for protection against accidental injuries by used needles
- A61M5/3213—Caps placed axially onto the needle, e.g. equipped with finger protection guards
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、フィールドのつなぎ部分の寸法差
及び段差の発生を防止し、かつ、露光時間が長くなるこ
とのない露光方法及びその装置を提供することを目的と
する。 【解決手段】 初めのスキャンで露光されるフィールド
のスキャン終了位置と、被露光基板を移動させて次のス
キャンで露光されるフィールドのスキャン開始位置を重
ねてつなぎ部分を露光する際に、初めのスキャンのスキ
ャン終了位置での露光を不連続に行い、かつ、次のスキ
ャンで露光されるフィールドのスキャン開始位置での露
光を不連続に行う不連続露光手段１５ａを有する。この
ため、つなぎ部分では初めのスキャンの露光と次のスキ
ャンの露光とが平均化され、つなぎ部分で寸法差及び段
差が発生することを防止できる。
及び段差の発生を防止し、かつ、露光時間が長くなるこ
とのない露光方法及びその装置を提供することを目的と
する。 【解決手段】 初めのスキャンで露光されるフィールド
のスキャン終了位置と、被露光基板を移動させて次のス
キャンで露光されるフィールドのスキャン開始位置を重
ねてつなぎ部分を露光する際に、初めのスキャンのスキ
ャン終了位置での露光を不連続に行い、かつ、次のスキ
ャンで露光されるフィールドのスキャン開始位置での露
光を不連続に行う不連続露光手段１５ａを有する。この
ため、つなぎ部分では初めのスキャンの露光と次のスキ
ャンの露光とが平均化され、つなぎ部分で寸法差及び段
差が発生することを防止できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は露光方法及びその装
置に関し、特に、半導体製造のフォト工程で使用される
レチクルやフラットパネルディスプレイのパネル等のパ
ターニングを行う露光方法及びその装置に関する。レー
ザビーム等を用いた露光装置では、１回のスキャンでビ
ーム照射する領域には制限がある。その１回のスキャン
で露光できるエリアをフィールドというが、そのフィー
ルドを連続させてパターンを形成していかなければなら
ない。ましてや、高精度化が進んでいる現在では、その
フィールドのつなぎ部分の寸法エラーの減少、つなぎ精
度の向上や大型基板化に対する露光領域の拡大に対応す
る必要がある。
置に関し、特に、半導体製造のフォト工程で使用される
レチクルやフラットパネルディスプレイのパネル等のパ
ターニングを行う露光方法及びその装置に関する。レー
ザビーム等を用いた露光装置では、１回のスキャンでビ
ーム照射する領域には制限がある。その１回のスキャン
で露光できるエリアをフィールドというが、そのフィー
ルドを連続させてパターンを形成していかなければなら
ない。ましてや、高精度化が進んでいる現在では、その
フィールドのつなぎ部分の寸法エラーの減少、つなぎ精
度の向上や大型基板化に対する露光領域の拡大に対応す
る必要がある。
【０００２】
【従来の技術】例えばプラズマディスプレイ等のフラッ
トパネルディスプレイのパネルのパターニングを行う従
来のレーザ露光装置では、レーザ光をビームスプリッタ
で複数の光束に分割し、それぞれのレーザビームを光変
調器において、露光データに従ってＯＮ／ＯＦＦ制御す
る。こＯＮ／ＯＦＦ制御されたレーザビームは回転する
ポリゴンに照射され、ここで反射されたレーザビームは
コンデンサレンズ等を通して被露光基板上に照射され、
ポリゴンの回転に従って被露光基板上をスキャンする。
トパネルディスプレイのパネルのパターニングを行う従
来のレーザ露光装置では、レーザ光をビームスプリッタ
で複数の光束に分割し、それぞれのレーザビームを光変
調器において、露光データに従ってＯＮ／ＯＦＦ制御す
る。こＯＮ／ＯＦＦ制御されたレーザビームは回転する
ポリゴンに照射され、ここで反射されたレーザビームは
コンデンサレンズ等を通して被露光基板上に照射され、
ポリゴンの回転に従って被露光基板上をスキャンする。
【０００３】この場合、図１に示すように、被露光基板
が４２インチのプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
では、直径６００ｍｍのコンデンサレンズを用いて、１
回のスキャンで縦ライン（Ｙ方向）を描画することがで
きる。このようなレーザ露光装置は、例えば特開平７−
３５９９４号公報に記載されている。また、レチクル製
造向けのレーザ露光装置においては、特開昭６２−２６
８１９号公報に記載のように、基板上の被露光部分（パ
ターン形成部分）全体を２回、４回あるいは、８回と多
重露光することで、寸法精度を向上させている。
が４２インチのプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
では、直径６００ｍｍのコンデンサレンズを用いて、１
回のスキャンで縦ライン（Ｙ方向）を描画することがで
きる。このようなレーザ露光装置は、例えば特開平７−
３５９９４号公報に記載されている。また、レチクル製
造向けのレーザ露光装置においては、特開昭６２−２６
８１９号公報に記載のように、基板上の被露光部分（パ
ターン形成部分）全体を２回、４回あるいは、８回と多
重露光することで、寸法精度を向上させている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】プラズマディスプレイ
パネルの場合は、大画面化が進み、被露光基板の大きさ
が４２インチから５５インチ、６０インチと大型化して
いる。このような大基板を、従来の手法でつなぎ部分が
発生しないように１回で露光するには、図２に示すよう
に被露光基板の大きさが５５インチで７５０ｍｍのコン
デンサレンズを製作しなければならない。しかし、図１
に示す現在の６００ｍｍエリアを描画する場合において
も、レンズ周縁部で解像度等の性能が低下する傾向が非
常に強い。なお、図３に設計寸法と誤差（エラー）との
関係を示す。ここでは、レンズ周縁部に対応するスキャ
ンスタートとスキャンエンドの誤差が、レンズ中央部に
対応するスキャンセンターの誤差よりも大きいことが示
されている。
パネルの場合は、大画面化が進み、被露光基板の大きさ
が４２インチから５５インチ、６０インチと大型化して
いる。このような大基板を、従来の手法でつなぎ部分が
発生しないように１回で露光するには、図２に示すよう
に被露光基板の大きさが５５インチで７５０ｍｍのコン
デンサレンズを製作しなければならない。しかし、図１
に示す現在の６００ｍｍエリアを描画する場合において
も、レンズ周縁部で解像度等の性能が低下する傾向が非
常に強い。なお、図３に設計寸法と誤差（エラー）との
関係を示す。ここでは、レンズ周縁部に対応するスキャ
ンスタートとスキャンエンドの誤差が、レンズ中央部に
対応するスキャンセンターの誤差よりも大きいことが示
されている。
【０００５】従って、直径６００ｍｍ以上のコンデンサ
レンズを製作し、パターンを精度良く形成することは、
非常に困難である。しかし、単純にスキャン方向に連続
させたとしても、つなぎ部分でずれの発生が考えられ
る。図４（Ａ）に、つなぎ部分がＹ方向にずれた場合を
示し、図４（Ｂ）に、つなぎ部分がＸ方向にずれた場合
を示す。また、Ｘ方向のずれとＹ方向のずれとの同時発
生も考えられる。更には、図４（Ｃ）に示すように、つ
なぎ部分で寸法差が生じた極端な段差の発生もある。
レンズを製作し、パターンを精度良く形成することは、
非常に困難である。しかし、単純にスキャン方向に連続
させたとしても、つなぎ部分でずれの発生が考えられ
る。図４（Ａ）に、つなぎ部分がＹ方向にずれた場合を
示し、図４（Ｂ）に、つなぎ部分がＸ方向にずれた場合
を示す。また、Ｘ方向のずれとＹ方向のずれとの同時発
生も考えられる。更には、図４（Ｃ）に示すように、つ
なぎ部分で寸法差が生じた極端な段差の発生もある。
【０００６】上記のＸ方向、Ｙ方向のずれに関しては、
レーザ干渉計を使用しステージを高性能化することや光
変調器の精度向上でずれ量を緩和することが考えられ
る。しかし、寸法差に関してはレンズ性能によるところ
が非常に大きく、ずれを緩和することが難しいという問
題があった。また、基板上の被露光部分（パターン形成
部分）全体を多重露光する装置では、被露光部分全体の
露光を数回繰り返して行わなければならず、露光時間を
通常の何倍も要することになるという問題があった。
レーザ干渉計を使用しステージを高性能化することや光
変調器の精度向上でずれ量を緩和することが考えられ
る。しかし、寸法差に関してはレンズ性能によるところ
が非常に大きく、ずれを緩和することが難しいという問
題があった。また、基板上の被露光部分（パターン形成
部分）全体を多重露光する装置では、被露光部分全体の
露光を数回繰り返して行わなければならず、露光時間を
通常の何倍も要することになるという問題があった。
【０００７】本発明は、上記の点に鑑みてなされたもの
で、フィールドのつなぎ部分の寸法差及び段差の発生を
防止し、かつ、露光時間が長くなることのない露光方法
及びその装置を提供することを目的とする。
で、フィールドのつなぎ部分の寸法差及び段差の発生を
防止し、かつ、露光時間が長くなることのない露光方法
及びその装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、レーザビームを回転するポリゴンで反射させてスキ
ャンし、レンズを通して被露光基板に照射し露光を行う
露光装置において、初めのスキャンで露光されるフィー
ルドのスキャン終了位置と、前記被露光基板を移動させ
て次のスキャンで露光されるフィールドのスキャン開始
位置を重ねてつなぎ部分を露光する際に、前記初めのス
キャンのスキャン終了位置での露光を不連続に行い、か
つ、前記次のスキャンで露光されるフィールドのスキャ
ン開始位置での露光を不連続に行う不連続露光手段を有
する。
は、レーザビームを回転するポリゴンで反射させてスキ
ャンし、レンズを通して被露光基板に照射し露光を行う
露光装置において、初めのスキャンで露光されるフィー
ルドのスキャン終了位置と、前記被露光基板を移動させ
て次のスキャンで露光されるフィールドのスキャン開始
位置を重ねてつなぎ部分を露光する際に、前記初めのス
キャンのスキャン終了位置での露光を不連続に行い、か
つ、前記次のスキャンで露光されるフィールドのスキャ
ン開始位置での露光を不連続に行う不連続露光手段を有
する。
【０００９】このように、初めのスキャンのスキャン終
了位置での露光を不連続に行い、かつ、次のスキャンで
露光されるフィールドのスキャン開始位置での露光を不
連続に行うため、つなぎ部分では初めのスキャンの露光
と次のスキャンの露光とが平均化され、つなぎ部分で寸
法差及び段差が発生することを防止できる。請求項２に
記載の発明は、請求項１記載の露光装置において、前記
不連続露光手段は、前記初めのスキャンのスキャン終了
位置での露光はスキャン方向の奇数番目または偶数番目
の露光データ（ビットマップ）だけを用いて不連続に行
い、前記次のスキャンで露光されるフィールドのスキャ
ン開始位置での露光はスキャン方向の偶数番目または奇
数番目の露光データ（ビットマップ）だけを用いて不連
続に行う。
了位置での露光を不連続に行い、かつ、次のスキャンで
露光されるフィールドのスキャン開始位置での露光を不
連続に行うため、つなぎ部分では初めのスキャンの露光
と次のスキャンの露光とが平均化され、つなぎ部分で寸
法差及び段差が発生することを防止できる。請求項２に
記載の発明は、請求項１記載の露光装置において、前記
不連続露光手段は、前記初めのスキャンのスキャン終了
位置での露光はスキャン方向の奇数番目または偶数番目
の露光データ（ビットマップ）だけを用いて不連続に行
い、前記次のスキャンで露光されるフィールドのスキャ
ン開始位置での露光はスキャン方向の偶数番目または奇
数番目の露光データ（ビットマップ）だけを用いて不連
続に行う。
【００１０】このため、つなぎ部分で初めのスキャンの
露光と次のスキャンの露光との平均化を最適に行うこと
ができる。請求項３に記載の発明は、レーザビームを回
転するポリゴンで反射させてスキャンし、レンズを通し
て被露光基板に照射し露光を行う露光装置において、初
めのスキャンでフィールドの露光を行った後、前記被露
光基板を１８０度回転させる回転手段を有し、前記被露
光基板を１８０度回転させた後、次のスキャンでフィー
ルドの露光を行い、前記初めのスキャンのスキャン終了
位置と、前記次のスキャンのスキャン開始位置とを連続
させる。
露光と次のスキャンの露光との平均化を最適に行うこと
ができる。請求項３に記載の発明は、レーザビームを回
転するポリゴンで反射させてスキャンし、レンズを通し
て被露光基板に照射し露光を行う露光装置において、初
めのスキャンでフィールドの露光を行った後、前記被露
光基板を１８０度回転させる回転手段を有し、前記被露
光基板を１８０度回転させた後、次のスキャンでフィー
ルドの露光を行い、前記初めのスキャンのスキャン終了
位置と、前記次のスキャンのスキャン開始位置とを連続
させる。
【００１１】このように、初めのスキャンでフィールド
の露光を行った後、被露光基板を１８０度回転させ、次
のスキャンでフィールドの露光を行うことにより、初め
のスキャンのスキャン終了位置と、次のスキャンのスキ
ャン開始位置とをレンズの略同じ位置で露光することが
でき、レンズ性能に起因するつなぎ部分での寸法差及び
段差の発生を防止できる。
の露光を行った後、被露光基板を１８０度回転させ、次
のスキャンでフィールドの露光を行うことにより、初め
のスキャンのスキャン終了位置と、次のスキャンのスキ
ャン開始位置とをレンズの略同じ位置で露光することが
でき、レンズ性能に起因するつなぎ部分での寸法差及び
段差の発生を防止できる。
【００１２】請求項４に記載の発明は、レーザビームを
回転するポリゴンで反射させてスキャンし、レンズを通
して被露光基板に照射し露光を行う露光装置において、
前記被露光基板のスキャン方向の中央部の主要パターン
を露光する第１のレンズと、前記被露光基板の前記中央
部のスキャン開始位置及び終了位置それぞれに隣接する
周縁部の付随パターンを露光する第２、第３のレンズを
有する。
回転するポリゴンで反射させてスキャンし、レンズを通
して被露光基板に照射し露光を行う露光装置において、
前記被露光基板のスキャン方向の中央部の主要パターン
を露光する第１のレンズと、前記被露光基板の前記中央
部のスキャン開始位置及び終了位置それぞれに隣接する
周縁部の付随パターンを露光する第２、第３のレンズを
有する。
【００１３】このように、中央部の主要パターン、周縁
部の付随パターンそれぞれを第１〜第３のレンズを用い
て露光するため、各レンズの中央部の性能が略一定の範
囲を使用して露光を行うため、レンズ性能に起因する寸
法差及び段差の発生を防止できる。請求項５に記載の発
明は、レーザビームを回転するポリゴンで反射させてス
キャンし、レンズを通して被露光基板に照射し露光を行
う露光方法において、初めのスキャンで露光されるフィ
ールドのスキャン終了位置と、前記被露光基板を移動さ
せて次のスキャンで露光されるフィールドのスキャン開
始位置を重ねてつなぎ部分を露光する際に、前記初めの
スキャンのスキャン終了位置での露光を不連続に行い、
かつ、前記次のスキャンで露光されるフィールドのスキ
ャン開始位置での露光を不連続に行う。
部の付随パターンそれぞれを第１〜第３のレンズを用い
て露光するため、各レンズの中央部の性能が略一定の範
囲を使用して露光を行うため、レンズ性能に起因する寸
法差及び段差の発生を防止できる。請求項５に記載の発
明は、レーザビームを回転するポリゴンで反射させてス
キャンし、レンズを通して被露光基板に照射し露光を行
う露光方法において、初めのスキャンで露光されるフィ
ールドのスキャン終了位置と、前記被露光基板を移動さ
せて次のスキャンで露光されるフィールドのスキャン開
始位置を重ねてつなぎ部分を露光する際に、前記初めの
スキャンのスキャン終了位置での露光を不連続に行い、
かつ、前記次のスキャンで露光されるフィールドのスキ
ャン開始位置での露光を不連続に行う。
【００１４】このように、初めのスキャンのスキャン終
了位置での露光を不連続に行い、かつ、次のスキャンで
露光されるフィールドのスキャン開始位置での露光を不
連続に行うため、つなぎ部分では初めのスキャンの露光
と次のスキャンの露光とが平均化され、つなぎ部分で寸
法差及び段差が発生することを防止できる。請求項６に
記載の発明は、請求項５記載の露光方法において、前記
初めのスキャンのスキャン終了位置での露光はスキャン
方向の奇数番目または偶数番目の露光データ（ビットマ
ップ）だけを用いて不連続に行い、前記次のスキャンで
露光されるフィールドのスキャン開始位置での露光はス
キャン方向の偶数番目または奇数番目の露光データ（ビ
ットマップ）だけを用いて不連続に行う。
了位置での露光を不連続に行い、かつ、次のスキャンで
露光されるフィールドのスキャン開始位置での露光を不
連続に行うため、つなぎ部分では初めのスキャンの露光
と次のスキャンの露光とが平均化され、つなぎ部分で寸
法差及び段差が発生することを防止できる。請求項６に
記載の発明は、請求項５記載の露光方法において、前記
初めのスキャンのスキャン終了位置での露光はスキャン
方向の奇数番目または偶数番目の露光データ（ビットマ
ップ）だけを用いて不連続に行い、前記次のスキャンで
露光されるフィールドのスキャン開始位置での露光はス
キャン方向の偶数番目または奇数番目の露光データ（ビ
ットマップ）だけを用いて不連続に行う。
【００１５】このため、つなぎ部分で初めのスキャンの
露光と次のスキャンの露光との平均化を最適に行うこと
ができる。請求項７に記載の発明は、レーザビームを回
転するポリゴンで反射させてスキャンし、レンズを通し
て被露光基板に照射し露光を行う露光方法において、初
めのスキャンでフィールドの露光を行った後、前記被露
光基板を１８０度回転させ、前記被露光基板を１８０度
回転させた後、次のスキャンでフィールドの露光を行
い、前記初めのスキャンのスキャン終了位置と、前記次
のスキャンのスキャン開始位置とを連続させる。
露光と次のスキャンの露光との平均化を最適に行うこと
ができる。請求項７に記載の発明は、レーザビームを回
転するポリゴンで反射させてスキャンし、レンズを通し
て被露光基板に照射し露光を行う露光方法において、初
めのスキャンでフィールドの露光を行った後、前記被露
光基板を１８０度回転させ、前記被露光基板を１８０度
回転させた後、次のスキャンでフィールドの露光を行
い、前記初めのスキャンのスキャン終了位置と、前記次
のスキャンのスキャン開始位置とを連続させる。
【００１６】このように、初めのスキャンでフィールド
の露光を行った後、被露光基板を１８０度回転させ、次
のスキャンでフィールドの露光を行うことにより、初め
のスキャンのスキャン終了位置と、次のスキャンのスキ
ャン開始位置とをレンズの略同じ位置で露光することが
でき、レンズ性能に起因するつなぎ部分での寸法差及び
段差の発生を防止できる。
の露光を行った後、被露光基板を１８０度回転させ、次
のスキャンでフィールドの露光を行うことにより、初め
のスキャンのスキャン終了位置と、次のスキャンのスキ
ャン開始位置とをレンズの略同じ位置で露光することが
でき、レンズ性能に起因するつなぎ部分での寸法差及び
段差の発生を防止できる。
【００１７】請求項８に記載の発明は、レーザビームを
回転するポリゴンで反射させてスキャンし、レンズを通
して被露光基板に照射し露光を行う露光方法において、
前記被露光基板のスキャン方向の中央部の主要パターン
を第１のレンズで露光し、前記被露光基板の前記中央部
のスキャン開始位置及び終了位置それぞれに隣接する周
縁部の付随パターンを第２、第３のレンズで露光する。
回転するポリゴンで反射させてスキャンし、レンズを通
して被露光基板に照射し露光を行う露光方法において、
前記被露光基板のスキャン方向の中央部の主要パターン
を第１のレンズで露光し、前記被露光基板の前記中央部
のスキャン開始位置及び終了位置それぞれに隣接する周
縁部の付随パターンを第２、第３のレンズで露光する。
【００１８】このように、中央部の主要パターン、周縁
部の付随パターンそれぞれを第１〜第３のレンズを用い
て露光するため、各レンズの中央部の性能が略一定の範
囲を使用して露光を行うため、レンズ性能に起因する寸
法差及び段差の発生を防止できる。
部の付随パターンそれぞれを第１〜第３のレンズを用い
て露光するため、各レンズの中央部の性能が略一定の範
囲を使用して露光を行うため、レンズ性能に起因する寸
法差及び段差の発生を防止できる。
【００１９】
【発明の実施の形態】図５は、本発明のレーザ露光装置
の一実施例のブロック図を示す。この装置は例えばプラ
ズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイのパ
ネルのパターニングを行う。図５において、アルゴンレ
ーザ装置１０から発射されるレーザ光は、ビームスプリ
ッタ１２で複数の光束に分割され、それぞれのレーザビ
ームを音響光学変調器（ＡＯＭ）１４において、露光デ
ータに従ってＯＮ／ＯＦＦ制御する。図６はこの部分の
詳細なブロック図を示す。データ制御部１５ａは複数の
光束にそれぞれに対応する露光データ（ビットマップ）
を露光データメモリ１５ｃから読み出し、この露光デー
タに従ってＲＦ制御装置１５ｂを制御して、露光データ
に応じた周波数の超音波を光束毎に発生させ、音響光学
変調器１４に供給させる。音響光学変調器１４では各光
束それぞれを上記超音波の周波数に応じて屈折させ、各
光束それぞれのＯＮ／ＯＦＦを制御する。
の一実施例のブロック図を示す。この装置は例えばプラ
ズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイのパ
ネルのパターニングを行う。図５において、アルゴンレ
ーザ装置１０から発射されるレーザ光は、ビームスプリ
ッタ１２で複数の光束に分割され、それぞれのレーザビ
ームを音響光学変調器（ＡＯＭ）１４において、露光デ
ータに従ってＯＮ／ＯＦＦ制御する。図６はこの部分の
詳細なブロック図を示す。データ制御部１５ａは複数の
光束にそれぞれに対応する露光データ（ビットマップ）
を露光データメモリ１５ｃから読み出し、この露光デー
タに従ってＲＦ制御装置１５ｂを制御して、露光データ
に応じた周波数の超音波を光束毎に発生させ、音響光学
変調器１４に供給させる。音響光学変調器１４では各光
束それぞれを上記超音波の周波数に応じて屈折させ、各
光束それぞれのＯＮ／ＯＦＦを制御する。
【００２０】このようにして光束毎にＯＮ／ＯＦＦ制御
されたレーザビームはレンズ１６を通して回転するポリ
ゴン１８に照射され、ここで反射されたレーザビームは
コンデンサレンズ２０を通してステージ２２に載置され
た被露光基板２４上に照射され、ポリゴン１８の回転に
従って被露光基板２４上をスキャンする。このスキャン
は、コンデンサレンズ２０のレンズ周縁部で解像度等の
性能がそれほど低下しない範囲を使用する。
されたレーザビームはレンズ１６を通して回転するポリ
ゴン１８に照射され、ここで反射されたレーザビームは
コンデンサレンズ２０を通してステージ２２に載置され
た被露光基板２４上に照射され、ポリゴン１８の回転に
従って被露光基板２４上をスキャンする。このスキャン
は、コンデンサレンズ２０のレンズ周縁部で解像度等の
性能がそれほど低下しない範囲を使用する。
【００２１】図７は本発明方法の第１実施例の説明図を
示す。図７（Ａ）に示す、被露光基板２４をパターニン
グする場合、先ず、Ｙ方向に位置ａから位置ｃまでポリ
ゴン１８の回転によってスキャンを行い、かつ、ステー
ジ２２をＸ方向左側に等速度で移動させて初めのフィー
ルドの露光を行う。なお、位置ａから位置ｃまでの距離
は、コンデンサレンズ２０の直径により決定され、コン
デンサレンズ２０のレンズ周縁部で解像度等の性能がそ
れほど低下しない範囲を使用する。
示す。図７（Ａ）に示す、被露光基板２４をパターニン
グする場合、先ず、Ｙ方向に位置ａから位置ｃまでポリ
ゴン１８の回転によってスキャンを行い、かつ、ステー
ジ２２をＸ方向左側に等速度で移動させて初めのフィー
ルドの露光を行う。なお、位置ａから位置ｃまでの距離
は、コンデンサレンズ２０の直径により決定され、コン
デンサレンズ２０のレンズ周縁部で解像度等の性能がそ
れほど低下しない範囲を使用する。
【００２２】このとき、図７（Ｂ）に示すように、位置
ａから位置ｂまではデータ制御部１５ａは通常の露光デ
ータ（ビットマップ）を用いて音響光学変調器１４のＯ
Ｎ／ＯＦＦ制御を行うが、位置ｂから位置ｃではデータ
制御部１５ａはで例えば奇数番目の露光データ（ビット
マップ）だけを用いることにより不連続として音響光学
変調器１４のＯＮ／ＯＦＦ制御を行う。
ａから位置ｂまではデータ制御部１５ａは通常の露光デ
ータ（ビットマップ）を用いて音響光学変調器１４のＯ
Ｎ／ＯＦＦ制御を行うが、位置ｂから位置ｃではデータ
制御部１５ａはで例えば奇数番目の露光データ（ビット
マップ）だけを用いることにより不連続として音響光学
変調器１４のＯＮ／ＯＦＦ制御を行う。
【００２３】次に、ステージ２２をＹ方向上側に移動さ
せると共にＸ方向右側に初期位置まで移動させた後、Ｙ
方向に位置ｂから位置ｄまでポリゴン１８の回転によっ
てスキャンを行い、ステージ２２をＸ方向左側に移動さ
せて次のフィールドの露光を行う。このとき、図７
（Ｂ）に示すように、位置ｂから位置ｃではデータ制御
部１５ａは例えば偶数番目の露光データ（ビットマッ
プ）だけを用いることにより不連続として音響光学変調
器１４のＯＮ／ＯＦＦ制御を行う。そして、位置ｃから
位置ｄまではデータ制御部１５ａは通常の露光データを
用いて音響光学変調器１４のＯＮ／ＯＦＦ制御を行う。
せると共にＸ方向右側に初期位置まで移動させた後、Ｙ
方向に位置ｂから位置ｄまでポリゴン１８の回転によっ
てスキャンを行い、ステージ２２をＸ方向左側に移動さ
せて次のフィールドの露光を行う。このとき、図７
（Ｂ）に示すように、位置ｂから位置ｃではデータ制御
部１５ａは例えば偶数番目の露光データ（ビットマッ
プ）だけを用いることにより不連続として音響光学変調
器１４のＯＮ／ＯＦＦ制御を行う。そして、位置ｃから
位置ｄまではデータ制御部１５ａは通常の露光データを
用いて音響光学変調器１４のＯＮ／ＯＦＦ制御を行う。
【００２４】ここで、コンデンサレンズ２０の性能か
ら、レンズ周縁部のスキャン終了位置でのビーム径はレ
ンズ中央部と同等であるが、レンズ周縁部のスキャン開
始位置でのビーム径がレンズ中央部より小さくなる場合
について考える。本実施例の方法では、ビーム照射状態
は、図８（Ａ）に示す区間ａ〜ｃのスキャン時における
スキャン終了位置、つまり、つなぎ部分ｂ〜ｃでビーム
ｂ１，ｂ２，ｂ３のビーム径が通常の大きさであり、区
間ｂ〜ｄのスキャン時におけるスキャン開始位置、つま
り、つなぎ部分ｂ〜ｃでビームｂ４，ｂ５のビーム径が
小さくなっても、ビームｂ１，ｂ２，ｂ３，ｂ４，ｂ５
が平均化され、パターニングされるレジストは図８
（Ｂ）に示すように、つなぎ部分ｂ〜ｃでレジスト幅は
通常からそれほど小さくならずに済む。
ら、レンズ周縁部のスキャン終了位置でのビーム径はレ
ンズ中央部と同等であるが、レンズ周縁部のスキャン開
始位置でのビーム径がレンズ中央部より小さくなる場合
について考える。本実施例の方法では、ビーム照射状態
は、図８（Ａ）に示す区間ａ〜ｃのスキャン時における
スキャン終了位置、つまり、つなぎ部分ｂ〜ｃでビーム
ｂ１，ｂ２，ｂ３のビーム径が通常の大きさであり、区
間ｂ〜ｄのスキャン時におけるスキャン開始位置、つま
り、つなぎ部分ｂ〜ｃでビームｂ４，ｂ５のビーム径が
小さくなっても、ビームｂ１，ｂ２，ｂ３，ｂ４，ｂ５
が平均化され、パターニングされるレジストは図８
（Ｂ）に示すように、つなぎ部分ｂ〜ｃでレジスト幅は
通常からそれほど小さくならずに済む。
【００２５】これに対して、従来の露光方法では、ビー
ム照射状態は図９（Ａ）のように区間ｅ〜ｆのスキャン
時におけるスキャン終了位置でビーム径は通常の大きさ
であるが、区間ｆ〜ｇのスキャン時におけるスキャン開
始位置でビーム径が小さくなるため、パターニングされ
るレジストは図９（Ｂ）に示すように、寸法差が生じ段
差が発生する。
ム照射状態は図９（Ａ）のように区間ｅ〜ｆのスキャン
時におけるスキャン終了位置でビーム径は通常の大きさ
であるが、区間ｆ〜ｇのスキャン時におけるスキャン開
始位置でビーム径が小さくなるため、パターニングされ
るレジストは図９（Ｂ）に示すように、寸法差が生じ段
差が発生する。
【００２６】図１０は本発明方法の第２実施例の説明
図、図１１はそのフローチャートを示す。図１０に示す
被露光基板２４をパターニングする場合、先ず、図１１
のステップＳ１０でＹ方向に位置ａから位置ｂまでポリ
ゴン１８の回転によってスキャンを行い、かつ、ステー
ジ２２をＸ方向左側に等速度で移動させてＡ領域（初め
のスキャンで露光されるフィールド）の露光を行う。な
お、位置ａから位置ｂまでの距離は、コンデンサレンズ
２０の直径により決定され、コンデンサレンズ２０のレ
ンズ周縁部で解像度等の性能がそれほど低下しない範囲
を使用する。このとき、位置ａから位置ｂまで通常の露
光データを用いて音響光学変調器１４のＯＮ／ＯＦＦ制
御を行う。
図、図１１はそのフローチャートを示す。図１０に示す
被露光基板２４をパターニングする場合、先ず、図１１
のステップＳ１０でＹ方向に位置ａから位置ｂまでポリ
ゴン１８の回転によってスキャンを行い、かつ、ステー
ジ２２をＸ方向左側に等速度で移動させてＡ領域（初め
のスキャンで露光されるフィールド）の露光を行う。な
お、位置ａから位置ｂまでの距離は、コンデンサレンズ
２０の直径により決定され、コンデンサレンズ２０のレ
ンズ周縁部で解像度等の性能がそれほど低下しない範囲
を使用する。このとき、位置ａから位置ｂまで通常の露
光データを用いて音響光学変調器１４のＯＮ／ＯＦＦ制
御を行う。
【００２７】次に、ステップＳ１２で被露光基板２４を
載置固定したステージ２２を矢印θ方向に１８０度回転
させて、被露光基板２４のＢ領域の位置ｃ，ｄそれぞれ
がコンデンサレンズ２０に対してＡ領域の露光開始時の
位置ａ，ｂとなるように位置合わせする。この後、ステ
ップＳ１４でＹ方向に位置ｃから位置ｄまでポリゴン１
８の回転によってスキャンを行い、かつ、ステージ２２
をＸ方向左側に等速度で移動させてＢ領域（次のスキャ
ンで露光されるフィールド）の露光を行う。このとき、
位置ｃから位置ｄまで通常の露光データを用いて音響光
学変調器１４のＯＮ／ＯＦＦ制御を行う。但し、この露
光データはスキャン及びステージ移動方向に合わせて並
べ換えておくか、読み出しをスキャン及びステージ移動
方向に合わせる必要がある。
載置固定したステージ２２を矢印θ方向に１８０度回転
させて、被露光基板２４のＢ領域の位置ｃ，ｄそれぞれ
がコンデンサレンズ２０に対してＡ領域の露光開始時の
位置ａ，ｂとなるように位置合わせする。この後、ステ
ップＳ１４でＹ方向に位置ｃから位置ｄまでポリゴン１
８の回転によってスキャンを行い、かつ、ステージ２２
をＸ方向左側に等速度で移動させてＢ領域（次のスキャ
ンで露光されるフィールド）の露光を行う。このとき、
位置ｃから位置ｄまで通常の露光データを用いて音響光
学変調器１４のＯＮ／ＯＦＦ制御を行う。但し、この露
光データはスキャン及びステージ移動方向に合わせて並
べ換えておくか、読み出しをスキャン及びステージ移動
方向に合わせる必要がある。
【００２８】本実施例の方法では、コンデンサレンズ２
０周縁部のスキャン開始位置２０ａとスキャン終了位置
２０ｂでのビーム径が異なっている場合においても、被
露光基板２４のＡ領域を露光する際に、Ａ領域とＢ領域
の境界近傍はコンデンサレンズ２０のスキャン終了位置
２０ｂで露光され、被露光基板２４のＢ領域を露光する
際に、Ａ領域とＢ領域の境界近傍は同じくコンデンサレ
ンズ２０のスキャン終了位置２０ｂで露光される。この
ため、被露光基板２４のＡ領域とＢ領域の境界では、コ
ンデンサレンズ２０の解像度等の性能が一致するため、
このレンズ性能に起因するレジストの寸法差及び段差の
発生が防止される。
０周縁部のスキャン開始位置２０ａとスキャン終了位置
２０ｂでのビーム径が異なっている場合においても、被
露光基板２４のＡ領域を露光する際に、Ａ領域とＢ領域
の境界近傍はコンデンサレンズ２０のスキャン終了位置
２０ｂで露光され、被露光基板２４のＢ領域を露光する
際に、Ａ領域とＢ領域の境界近傍は同じくコンデンサレ
ンズ２０のスキャン終了位置２０ｂで露光される。この
ため、被露光基板２４のＡ領域とＢ領域の境界では、コ
ンデンサレンズ２０の解像度等の性能が一致するため、
このレンズ性能に起因するレジストの寸法差及び段差の
発生が防止される。
【００２９】ところで、プラズマディスプレイ等のフラ
ットパネルディスプレイのパネルをパターニングする場
合には、被露光基板のスキャン方向の中央部分にメイン
の表示パターンが形成される表示パターン領域となり、
上記中央部分のスキャン開始位置及び終了位置に隣接す
る周縁部分に表示パターンに対する配線パターンが形成
される配線パターン領域となる。この場合、図５に示す
音響光学変調器１４、レンズ群１６、ポリゴン１８、コ
ンデンサレンズ２０それぞれを２系統に分離し、第１系
統を表示パターン領域の露光に用い、第２系統を配線パ
ターン領域の露光に用いる。この実施例について説明す
る。
ットパネルディスプレイのパネルをパターニングする場
合には、被露光基板のスキャン方向の中央部分にメイン
の表示パターンが形成される表示パターン領域となり、
上記中央部分のスキャン開始位置及び終了位置に隣接す
る周縁部分に表示パターンに対する配線パターンが形成
される配線パターン領域となる。この場合、図５に示す
音響光学変調器１４、レンズ群１６、ポリゴン１８、コ
ンデンサレンズ２０それぞれを２系統に分離し、第１系
統を表示パターン領域の露光に用い、第２系統を配線パ
ターン領域の露光に用いる。この実施例について説明す
る。
【００３０】図１２は本発明方法の第３実施例の説明図
を示す。同図中、表示パターン領域露光用の第１系統の
コンデンサレンズ２０Ａに隣接して、配線パターン領域
露光用の第２系統のコンデンサレンズ２０Ｂ，２０Ｃが
設けられている。コンデンサレンズ２０Ａとコンデンサ
レンズ２０Ｂ，２０Ｃとは、Ｘ方向の配置位置がずらさ
れている。先ず、表示パターン領域２４ａのデータを露
光する際にコンデンサレンズ２０Ａを用いて露光し、次
に、コンデンサレンズ２０Ｂ，２０Ｃを用いて配線パタ
ーン領域２４ｂ，２４ｃのデータの露光を行う。その
際、露光データは表示パターン領域２４ａと、配線パタ
ーン領域２４ｂ，２４ｃとに分けられている。なお、こ
れらのコンデンサレンズ２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃを互い
に固定して一体化していても良い。露光の際には、各コ
ンデンサレンズ２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは、レンズ中央
部の解像度等の性能が略一定の範囲が使用される。
を示す。同図中、表示パターン領域露光用の第１系統の
コンデンサレンズ２０Ａに隣接して、配線パターン領域
露光用の第２系統のコンデンサレンズ２０Ｂ，２０Ｃが
設けられている。コンデンサレンズ２０Ａとコンデンサ
レンズ２０Ｂ，２０Ｃとは、Ｘ方向の配置位置がずらさ
れている。先ず、表示パターン領域２４ａのデータを露
光する際にコンデンサレンズ２０Ａを用いて露光し、次
に、コンデンサレンズ２０Ｂ，２０Ｃを用いて配線パタ
ーン領域２４ｂ，２４ｃのデータの露光を行う。その
際、露光データは表示パターン領域２４ａと、配線パタ
ーン領域２４ｂ，２４ｃとに分けられている。なお、こ
れらのコンデンサレンズ２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃを互い
に固定して一体化していても良い。露光の際には、各コ
ンデンサレンズ２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは、レンズ中央
部の解像度等の性能が略一定の範囲が使用される。
【００３１】更なる実施例としては、図１２に示す被露
光基板２４をパターニングする場合、Ｙ方向に位置ａか
らｂまで第１，第２系統それぞれのポリゴン１８の回転
によってスキャンを行い、かつ、ステージ２２をＸ方向
左側に等速度で移動させて、コンデンサレンズ２０Ａ，
２０Ｂ，２４Ｃにより、被露光基板２４のスキャン方向
の中央部の表示パターン領域２４ａ及びこれに隣接する
配線パターン領域２４ｂ，２４ｃの露光を行う。このと
き、コンデンサレンズ２０Ａと２０Ｂ，２０Ｃとの間の
配置位置のずれに応じて、表示パターンの露光データに
よる音響光学変調と配線パターンの露光データによる音
響光学変調とのタイミングを合わせておく。この際に
も、露光データは表示パターン領域２４ａと、配線パタ
ーン領域２４ｂ，２４ｃとに分けられている。
光基板２４をパターニングする場合、Ｙ方向に位置ａか
らｂまで第１，第２系統それぞれのポリゴン１８の回転
によってスキャンを行い、かつ、ステージ２２をＸ方向
左側に等速度で移動させて、コンデンサレンズ２０Ａ，
２０Ｂ，２４Ｃにより、被露光基板２４のスキャン方向
の中央部の表示パターン領域２４ａ及びこれに隣接する
配線パターン領域２４ｂ，２４ｃの露光を行う。このと
き、コンデンサレンズ２０Ａと２０Ｂ，２０Ｃとの間の
配置位置のずれに応じて、表示パターンの露光データに
よる音響光学変調と配線パターンの露光データによる音
響光学変調とのタイミングを合わせておく。この際に
も、露光データは表示パターン領域２４ａと、配線パタ
ーン領域２４ｂ，２４ｃとに分けられている。
【００３２】本実施例の方法では、コンデンサレンズ２
０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃそれぞれのレンズ中央部の解像度
等の性能が略一定の範囲を使用して、表示パターン領域
２４ａ、配線パターン領域２４ｂ，２４ｃそれぞれの露
光を行うため、被露光基板２４の表示パターン領域２４
ａと配線パターン領域２４ｂ，２４ｃそれぞれとの境界
で各レンズの解像度等の性能は略一致し、レンズ性能に
起因するレジストの寸法差及び段差の発生が防止され
る。
０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃそれぞれのレンズ中央部の解像度
等の性能が略一定の範囲を使用して、表示パターン領域
２４ａ、配線パターン領域２４ｂ，２４ｃそれぞれの露
光を行うため、被露光基板２４の表示パターン領域２４
ａと配線パターン領域２４ｂ，２４ｃそれぞれとの境界
で各レンズの解像度等の性能は略一致し、レンズ性能に
起因するレジストの寸法差及び段差の発生が防止され
る。
【００３３】なお、請求項に記載の不連続露光手段はデ
ータ制御部１５ａに対応し、回転手段はステップＳ１２
に対応し、第１のレンズはコンデンサレンズ２０Ａに対
応し、第２のレンズはコンデンサレンズ２０Ｂに対応
し、第３のレンズはコンデンサレンズ２０Ｃに対応す
る。
ータ制御部１５ａに対応し、回転手段はステップＳ１２
に対応し、第１のレンズはコンデンサレンズ２０Ａに対
応し、第２のレンズはコンデンサレンズ２０Ｂに対応
し、第３のレンズはコンデンサレンズ２０Ｃに対応す
る。
【００３４】
【発明の効果】上述の如く、請求項１に記載の発明は、
レーザビームを回転するポリゴンで反射させてスキャン
し、レンズを通して被露光基板に照射し露光を行う露光
装置において、初めのスキャンで露光されるフィールド
のスキャン終了位置と、前記被露光基板を移動させて次
のスキャンで露光されるフィールドのスキャン開始位置
を重ねてつなぎ部分を露光する際に、前記初めのスキャ
ンのスキャン終了位置での露光を不連続に行い、かつ、
前記次のスキャンで露光されるフィールドのスキャン開
始位置での露光を不連続に行う不連続露光手段を有す
る。
レーザビームを回転するポリゴンで反射させてスキャン
し、レンズを通して被露光基板に照射し露光を行う露光
装置において、初めのスキャンで露光されるフィールド
のスキャン終了位置と、前記被露光基板を移動させて次
のスキャンで露光されるフィールドのスキャン開始位置
を重ねてつなぎ部分を露光する際に、前記初めのスキャ
ンのスキャン終了位置での露光を不連続に行い、かつ、
前記次のスキャンで露光されるフィールドのスキャン開
始位置での露光を不連続に行う不連続露光手段を有す
る。
【００３５】このように、初めのスキャンのスキャン終
了位置での露光を不連続に行い、かつ、次のスキャンで
露光されるフィールドのスキャン開始位置での露光を不
連続に行うため、つなぎ部分では初めのスキャンの露光
と次のスキャンの露光とが平均化され、つなぎ部分で寸
法差及び段差が発生することを防止できる。請求項２に
記載の発明は、請求項１記載の露光装置において、前記
不連続露光手段は、前記初めのスキャンのスキャン終了
位置での露光はスキャン方向の奇数番目または偶数番目
の露光データだけを用いて不連続に行い、前記次のスキ
ャンで露光されるフィールドのスキャン開始位置での露
光はスキャン方向の偶数番目または奇数番目の露光デー
タだけを用いて不連続に行う。
了位置での露光を不連続に行い、かつ、次のスキャンで
露光されるフィールドのスキャン開始位置での露光を不
連続に行うため、つなぎ部分では初めのスキャンの露光
と次のスキャンの露光とが平均化され、つなぎ部分で寸
法差及び段差が発生することを防止できる。請求項２に
記載の発明は、請求項１記載の露光装置において、前記
不連続露光手段は、前記初めのスキャンのスキャン終了
位置での露光はスキャン方向の奇数番目または偶数番目
の露光データだけを用いて不連続に行い、前記次のスキ
ャンで露光されるフィールドのスキャン開始位置での露
光はスキャン方向の偶数番目または奇数番目の露光デー
タだけを用いて不連続に行う。
【００３６】このため、つなぎ部分で初めのスキャンの
露光と次のスキャンの露光との平均化を最適に行うこと
ができる。請求項３に記載の発明は、レーザビームを回
転するポリゴンで反射させてスキャンし、レンズを通し
て被露光基板に照射し露光を行う露光装置において、初
めのスキャンでフィールドの露光を行った後、前記被露
光基板を１８０度回転させる回転手段を有し、前記被露
光基板を１８０度回転させた後、次のスキャンでフィー
ルドの露光を行い、前記初めのスキャンのスキャン終了
位置と、前記次のスキャンのスキャン開始位置とを連続
させる。
露光と次のスキャンの露光との平均化を最適に行うこと
ができる。請求項３に記載の発明は、レーザビームを回
転するポリゴンで反射させてスキャンし、レンズを通し
て被露光基板に照射し露光を行う露光装置において、初
めのスキャンでフィールドの露光を行った後、前記被露
光基板を１８０度回転させる回転手段を有し、前記被露
光基板を１８０度回転させた後、次のスキャンでフィー
ルドの露光を行い、前記初めのスキャンのスキャン終了
位置と、前記次のスキャンのスキャン開始位置とを連続
させる。
【００３７】このように、初めのスキャンでフィールド
の露光を行った後、被露光基板を１８０度回転させ、次
のスキャンでフィールドの露光を行うことにより、初め
のスキャンのスキャン終了位置と、次のスキャンのスキ
ャン開始位置とをレンズの略同じ位置で露光することが
でき、レンズ性能に起因するつなぎ部分での寸法差及び
段差の発生を防止できる。
の露光を行った後、被露光基板を１８０度回転させ、次
のスキャンでフィールドの露光を行うことにより、初め
のスキャンのスキャン終了位置と、次のスキャンのスキ
ャン開始位置とをレンズの略同じ位置で露光することが
でき、レンズ性能に起因するつなぎ部分での寸法差及び
段差の発生を防止できる。
【００３８】請求項４に記載の発明は、レーザビームを
回転するポリゴンで反射させてスキャンし、レンズを通
して被露光基板に照射し露光を行う露光装置において、
前記被露光基板のスキャン方向の中央部の主要パターン
を露光する第１のレンズと、前記被露光基板の前記中央
部のスキャン開始位置及び終了位置それぞれに隣接する
周縁部の付随パターンを露光する第２、第３のレンズを
有する。
回転するポリゴンで反射させてスキャンし、レンズを通
して被露光基板に照射し露光を行う露光装置において、
前記被露光基板のスキャン方向の中央部の主要パターン
を露光する第１のレンズと、前記被露光基板の前記中央
部のスキャン開始位置及び終了位置それぞれに隣接する
周縁部の付随パターンを露光する第２、第３のレンズを
有する。
【００３９】このように、中央部の主要パターン、周縁
部の付随パターンそれぞれを第１〜第３のレンズを用い
て露光するため、各レンズの中央部の性能が略一定の範
囲を使用して露光を行うため、レンズ性能に起因する寸
法差及び段差の発生を防止できる。請求項５に記載の発
明は、レーザビームを回転するポリゴンで反射させてス
キャンし、レンズを通して被露光基板に照射し露光を行
う露光方法において、初めのスキャンで露光されるフィ
ールドのスキャン終了位置と、前記被露光基板を移動さ
せて次のスキャンで露光されるフィールドのスキャン開
始位置を重ねてつなぎ部分を露光する際に、前記初めの
スキャンのスキャン終了位置での露光を不連続に行い、
かつ、前記次のスキャンで露光されるフィールドのスキ
ャン開始位置での露光を不連続に行う。
部の付随パターンそれぞれを第１〜第３のレンズを用い
て露光するため、各レンズの中央部の性能が略一定の範
囲を使用して露光を行うため、レンズ性能に起因する寸
法差及び段差の発生を防止できる。請求項５に記載の発
明は、レーザビームを回転するポリゴンで反射させてス
キャンし、レンズを通して被露光基板に照射し露光を行
う露光方法において、初めのスキャンで露光されるフィ
ールドのスキャン終了位置と、前記被露光基板を移動さ
せて次のスキャンで露光されるフィールドのスキャン開
始位置を重ねてつなぎ部分を露光する際に、前記初めの
スキャンのスキャン終了位置での露光を不連続に行い、
かつ、前記次のスキャンで露光されるフィールドのスキ
ャン開始位置での露光を不連続に行う。
【００４０】このように、初めのスキャンのスキャン終
了位置での露光を不連続に行い、かつ、次のスキャンで
露光されるフィールドのスキャン開始位置での露光を不
連続に行うため、つなぎ部分では初めのスキャンの露光
と次のスキャンの露光とが平均化され、つなぎ部分で寸
法差及び段差が発生することを防止できる。請求項６に
記載の発明は、請求項５記載の露光方法において、前記
初めのスキャンのスキャン終了位置での露光はスキャン
方向の奇数番目または偶数番目の露光データだけを用い
て不連続に行い、前記次のスキャンで露光されるフィー
ルドのスキャン開始位置での露光はスキャン方向の偶数
番目または奇数番目の露光データだけを用いて不連続に
行う。
了位置での露光を不連続に行い、かつ、次のスキャンで
露光されるフィールドのスキャン開始位置での露光を不
連続に行うため、つなぎ部分では初めのスキャンの露光
と次のスキャンの露光とが平均化され、つなぎ部分で寸
法差及び段差が発生することを防止できる。請求項６に
記載の発明は、請求項５記載の露光方法において、前記
初めのスキャンのスキャン終了位置での露光はスキャン
方向の奇数番目または偶数番目の露光データだけを用い
て不連続に行い、前記次のスキャンで露光されるフィー
ルドのスキャン開始位置での露光はスキャン方向の偶数
番目または奇数番目の露光データだけを用いて不連続に
行う。
【００４１】このため、つなぎ部分で初めのスキャンの
露光と次のスキャンの露光との平均化を最適に行うこと
ができる。請求項７に記載の発明は、レーザビームを回
転するポリゴンで反射させてスキャンし、レンズを通し
て被露光基板に照射し露光を行う露光方法において、初
めのスキャンでフィールドの露光を行った後、前記被露
光基板を１８０度回転させ、前記被露光基板を１８０度
回転させた後、次のスキャンでフィールドの露光を行
い、前記初めのスキャンのスキャン終了位置と、前記次
のスキャンのスキャン開始位置とを連続させる。
露光と次のスキャンの露光との平均化を最適に行うこと
ができる。請求項７に記載の発明は、レーザビームを回
転するポリゴンで反射させてスキャンし、レンズを通し
て被露光基板に照射し露光を行う露光方法において、初
めのスキャンでフィールドの露光を行った後、前記被露
光基板を１８０度回転させ、前記被露光基板を１８０度
回転させた後、次のスキャンでフィールドの露光を行
い、前記初めのスキャンのスキャン終了位置と、前記次
のスキャンのスキャン開始位置とを連続させる。
【００４２】このように、初めのスキャンでフィールド
の露光を行った後、被露光基板を１８０度回転させ、次
のスキャンでフィールドの露光を行うことにより、初め
のスキャンのスキャン終了位置と、次のスキャンのスキ
ャン開始位置とをレンズの略同じ位置で露光することが
でき、レンズ性能に起因するつなぎ部分での寸法差及び
段差の発生を防止できる。
の露光を行った後、被露光基板を１８０度回転させ、次
のスキャンでフィールドの露光を行うことにより、初め
のスキャンのスキャン終了位置と、次のスキャンのスキ
ャン開始位置とをレンズの略同じ位置で露光することが
でき、レンズ性能に起因するつなぎ部分での寸法差及び
段差の発生を防止できる。
【００４３】請求項８に記載の発明は、レーザビームを
回転するポリゴンで反射させてスキャンし、レンズを通
して被露光基板に照射し露光を行う露光方法において、
前記被露光基板のスキャン方向の中央部の主要パターン
を第１のレンズで露光し、前記被露光基板の前記中央部
のスキャン開始位置及び終了位置それぞれに隣接する周
縁部の付随パターンを第２、第３のレンズで露光する。
回転するポリゴンで反射させてスキャンし、レンズを通
して被露光基板に照射し露光を行う露光方法において、
前記被露光基板のスキャン方向の中央部の主要パターン
を第１のレンズで露光し、前記被露光基板の前記中央部
のスキャン開始位置及び終了位置それぞれに隣接する周
縁部の付随パターンを第２、第３のレンズで露光する。
【００４４】このように、中央部の主要パターン、周縁
部の付随パターンそれぞれを第１〜第３のレンズを用い
て露光するため、各レンズの中央部の性能が略一定の範
囲を使用して露光を行うため、レンズ性能に起因する寸
法差及び段差の発生を防止できる。
部の付随パターンそれぞれを第１〜第３のレンズを用い
て露光するため、各レンズの中央部の性能が略一定の範
囲を使用して露光を行うため、レンズ性能に起因する寸
法差及び段差の発生を防止できる。
【図１】従来のプラズマディスプレイパネルのパターニ
ング方法を示す図である。
ング方法を示す図である。
【図２】従来のプラズマディスプレイパネルのパターニ
ング方法を示す図である。
ング方法を示す図である。
【図３】設計寸法と誤差（エラー）との関係を示す図で
ある。
ある。
【図４】露光パターンのつなぎ部分で発生するずれを説
明するための図である。
明するための図である。
【図５】発明のレーザ露光装置の一実施例のブロック図
である。
である。
【図６】レーザビームを露光データに従ってＯＮ／ＯＦ
Ｆ制御する部分の詳細なブロック図である。
Ｆ制御する部分の詳細なブロック図である。
【図７】本発明方法の第１実施例の説明図である。
【図８】本発明方法の第１実施例のビーム照射状態とパ
ターニングを示す図である。測長センサを示す図であ
る。
ターニングを示す図である。測長センサを示す図であ
る。
【図９】従来方法のビーム照射状態とパターニングを示
す図である。
す図である。
【図１０】本発明方法の第２実施例の説明図である。
【図１１】本発明方法の第２実施例のフローチャートで
ある。
ある。
【図１２】本発明方法の第３実施例の説明図である。
１０ アルゴンレーザ装置 １２ ビームスプリッタ １４ 音響光学変調器（ＡＯＭ） １５ａ データ制御部 １５ｂ ＲＦ制御装置 １５ｃ 露光データメモリ １６ レンズ １８ ポリゴン ２０ コンデンサレンズ ２２ ステージ ２４ 被露光基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H097 AA03 AA11 BB01 CA17 KA28 5C040 GC19 GF19 JA15 JA36 LA17 MA24 MA25 5F046 BA07 CA03 CB01 CB02 CB12 CB21 CC01 CC03 CC06 DA01 DA07
Claims (8)
- 【請求項１】 レーザビームを回転するポリゴンで反射
させてスキャンし、レンズを通して被露光基板に照射し
露光を行う露光装置において、 初めのスキャンで露光されるフィールドのスキャン終了
位置と、前記被露光基板を移動させて次のスキャンで露
光されるフィールドのスキャン開始位置を重ねてつなぎ
部分を露光する際に、前記初めのスキャンのスキャン終
了位置での露光を不連続に行い、かつ、前記次のスキャ
ンで露光されるフィールドのスキャン開始位置での露光
を不連続に行う不連続露光手段を有することを特徴とす
る露光装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の露光装置において、 前記不連続露光手段は、前記初めのスキャンのスキャン
終了位置での露光はスキャン方向の奇数番目または偶数
番目の露光データだけを用いて不連続に行い、前記次の
スキャンで露光されるフィールドのスキャン開始位置で
の露光はスキャン方向の偶数番目または奇数番目の露光
データだけを用いて不連続に行うことを特徴とする露光
装置。 - 【請求項３】 レーザビームを回転するポリゴンで反射
させてスキャンし、レンズを通して被露光基板に照射し
露光を行う露光装置において、 初めのスキャンでフィールドの露光を行った後、前記被
露光基板を１８０度回転させる回転手段を有し、 前記被露光基板を１８０度回転させた後、次のスキャン
でフィールドの露光を行い、前記初めのスキャンのスキ
ャン終了位置と、前記次のスキャンのスキャン開始位置
とを連続させることを特徴とする露光装置。 - 【請求項４】 レーザビームを回転するポリゴンで反射
させてスキャンし、レンズを通して被露光基板に照射し
露光を行う露光装置において、 前記被露光基板のスキャン方向の中央部の主要パターン
を露光する第１のレンズと、 前記被露光基板の前記中央部のスキャン開始位置及び終
了位置それぞれに隣接する周縁部の付随パターンを露光
する第２、第３のレンズを有することを特徴とする露光
装置。 - 【請求項５】 レーザビームを回転するポリゴンで反射
させてスキャンし、レンズを通して被露光基板に照射し
露光を行う露光方法において、 初めのスキャンで露光されるフィールドのスキャン終了
位置と、前記被露光基板を移動させて次のスキャンで露
光されるフィールドのスキャン開始位置を重ねてつなぎ
部分を露光する際に、前記初めのスキャンのスキャン終
了位置での露光を不連続に行い、かつ、前記次のスキャ
ンで露光されるフィールドのスキャン開始位置での露光
を不連続に行うことを特徴とする露光方法。 - 【請求項６】 請求項５記載の露光方法において、 前記初めのスキャンのスキャン終了位置での露光はスキ
ャン方向の奇数番目または偶数番目の露光データだけを
用いて不連続に行い、前記次のスキャンで露光されるフ
ィールドのスキャン開始位置での露光はスキャン方向の
偶数番目または奇数番目の露光データだけを用いて不連
続に行うことを特徴とする露光方法。 - 【請求項７】 レーザビームを回転するポリゴンで反射
させてスキャンし、レンズを通して被露光基板に照射し
露光を行う露光方法において、 初めのスキャンでフィールドの露光を行った後、前記被
露光基板を１８０度回転させ、 前記被露光基板を１８０度回転させた後、次のスキャン
でフィールドの露光を行い、前記初めのスキャンのスキ
ャン終了位置と、前記次のスキャンのスキャン開始位置
とを連続させることを特徴とする露光方法。 - 【請求項８】 レーザビームを回転するポリゴンで反射
させてスキャンし、レンズを通して被露光基板に照射し
露光を行う露光方法において、 前記被露光基板のスキャン方向の中央部の主要パターン
を第１のレンズで露光し、 前記被露光基板の前記中央部のスキャン開始位置及び終
了位置それぞれに隣接する周縁部の付随パターンを第
２、第３のレンズで露光することを特徴とする露光方
法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11069002A JP2000267295A (ja) | 1999-03-15 | 1999-03-15 | 露光方法及びその装置 |
| KR1020000010321A KR20000062701A (ko) | 1999-03-15 | 2000-03-02 | 노광 방법 및 그 장치 |
| US09/522,445 US6388737B1 (en) | 1999-03-15 | 2000-03-09 | Exposure method and apparatus |
| TW089104613A TW455924B (en) | 1999-03-15 | 2000-03-14 | Exposure method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11069002A JP2000267295A (ja) | 1999-03-15 | 1999-03-15 | 露光方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000267295A true JP2000267295A (ja) | 2000-09-29 |
Family
ID=13389969
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11069002A Pending JP2000267295A (ja) | 1999-03-15 | 1999-03-15 | 露光方法及びその装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6388737B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000267295A (ja) |
| KR (1) | KR20000062701A (ja) |
| TW (1) | TW455924B (ja) |
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| JP2003068634A (ja) * | 2001-08-23 | 2003-03-07 | Toshiyuki Horiuchi | 液晶マトリックス投影露光装置および液晶マトリックス投影露光方法 |
| JP2005003762A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画素位置特定方法、画像ずれ補正方法、および画像形成装置 |
| JP2006030966A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画方法および装置 |
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| JP2019090819A (ja) * | 2012-09-28 | 2019-06-13 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 回折光学素子及び測定方法 |
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-
1999
- 1999-03-15 JP JP11069002A patent/JP2000267295A/ja active Pending
-
2000
- 2000-03-02 KR KR1020000010321A patent/KR20000062701A/ko active IP Right Grant
- 2000-03-09 US US09/522,445 patent/US6388737B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-14 TW TW089104613A patent/TW455924B/zh not_active IP Right Cessation
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Also Published As
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050517 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051004 |