JP2010206221A - リソグラフィ装置、放射線ビーム検査デバイス、放射線ビームの検査方法およびデバイス製造方法 - Google Patents
リソグラフィ装置、放射線ビーム検査デバイス、放射線ビームの検査方法およびデバイス製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】放射線ビームの一部が通過する開口を有する放射線のビームのバリアと、開口を通過する放射線の強度と、開口に対して、放射線が放射線センサに入射するポイントの位置とを決定する放射線センサとを有する放射線ビーム検査デバイスを有するリソグラフィ装置。
【選択図】図1
Description
1.ステップモードにおいては、個々に制御可能なエレメントのアレイおよび基板は、基本的に静止状態に保たれている。そして、放射線ビームに与えたパターン全体が1回で目標部分Cに投影される(すなわち1回の静止露光)。次に基板テーブルWTがX方向および/あるいはY方向にシフトされ、したがって異なる目標部分Cが照射され得る。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の静止露光で描像される目標部分Cのサイズを制限する。
2.走査モードにおいては、個々に制御可能なエレメントのアレイおよび基板を同期走査する一方、放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する(つまり1回の動的露光)。個々に制御可能なエレメントのアレイに対する基板の速度および方向は、投影システムPLの拡大(縮小)および像反転特性によって決定することができる。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の動的露光で目標部分の(非走査方向における)幅を制限し、走査動作の長さが目標部分の(走査方向における)高さを決定する。
3.パルスモードでは、個々に制御可能なエレメントのアレイが基本的に静止状態に維持され、パルス状放射線ソースを使用して、パターン全体を基板Wの目標部分Cに投影する。基板テーブルWTは、基本的に一定の速度で動作し、したがって投影ビームBが基板W全体で線を走査する。基板Wの必要な位置で連続的な目標部分Cが露光されるように、放射線システムのパルスの間に、必要に応じて個々に制御可能なエレメントのアレイ上にあるパターンを更新し、パルスのタイミングをとる。その結果、投影ビームBは基板Wを走査し、1片の基板で完全なパターンを露光することができる。完全な基板Wが線1本ずつ露光されるまで、このプロセスを繰り返す。
4.連続走査モードでは、基本的にパルスモードと同じであるが、変調した放射線のビームBに対して基板Wをほぼ一定の速度で走査し、投影ビームBが基板Wを走査して、それを露光するにつれ、個々に制御可能なエレメントのアレイ上にあるパターンを更新する。ほぼ一定の放射線ソース、または個々に制御可能なエレメントのアレイ上にあるパターンの更新と同期したパルス状放射線ソースを使用することができる。
5.図2のリソグラフィ装置を使用して実行可能なピクセル格子描像モードでは、基板W上に形成されるパターンは、パターニングデバイスPDへと配向されたスポット生成器によって形成されたスポットを、その後に露光することによって実現される。露光されたスポットは、ほぼ同じ形状を有する。基板W上には、スポットがほぼ格子状に印刷される。一例では、スポットのサイズは、印刷されたピクセル格子のピッチより大きいが、露光スポット格子より非常に小さい。印刷されるスポットの強度を変更することによって、パターンが実現される。露光フラッシュとフラッシュの間で、スポットの強度分布を変更する。
11 放射線のビーム
12 開口
13 放射線センサ
13a、13b ポイント
20 I層
21 P層
22 N層
23、24 電極
25、30 放射線
31 開口
32 放射線センサ
33 第一方向
34 第二方向
35 アクチュエータ
40 バリア
41 開口
42 放射線センサ
45 アクチュエータ
50 バリア
51、52 開口
53 第一放射線センサ
54 第二放射線センサ
60 バリア
61 第一開口
62 第二開口
63 放射線センサ
70 放射線ビーム検査デバイス
71 アクチュエータシステム
80 放射線ビーム検査デバイス
85 アクチュエータシステム
86 放射線ビーム検査デバイス
91 第一放射線ビーム検査デバイス
92 第二放射線ビーム検査デバイス
93 第三放射線ビーム検査デバイス
94 アクチュエータシステム
95 放射線のビーム
100 放射線ビーム検査デバイス
101、102、103 開口
104 アクチュエータシステム
105 放射線のビーム
111、112、113、121、122、123、131、132、133 開口
Claims (10)
- リソグラフィ投影装置であって、
放射線のビームを提供するパターニングデバイスと、
提供されたビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、
相互に対して固定位置で配置構成された複数の放射線ビーム検査デバイスと、
放射線ビーム検査デバイスを一定速度で投影システムに対して移動するアクチュエータとを有し、
前記複数の放射線ビーム検査デバイスのそれぞれが、
放射線ビームの一部が自身を通過できるようにする開口を有する放射線ビームのバリアと、
開口を通過する放射線の強度と、開口に対して、開口を通過する放射線が放射線センサに入射する位置とを検出する放射線センサとを有し、
放射線ビームがパルス状であり、
放射線ビーム検査デバイスの間隔、投影システムに対する放射線ビーム検査デバイスの速度、およびビームのパルス率は、放射線のビームの連続的パルスの間に、連続する放射線ビーム検査デバイスが放射線ビームの所与の領域にある異なる部分を検査するように設定される、リソグラフィ投影装置。 - リソグラフィ投影装置であって、
放射線のビームを提供するパターニングデバイスと、
提供されたビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、
放射線ビーム検査デバイスとを有し、放射線ビーム検査デバイスが、
放射線ビームの一部が自身を通過できるようにする開口を有する放射線ビームのバリアと、
開口を通過する放射線の強度と、開口に対して、開口を通過する放射線が放射線センサに入射する位置とを検出する放射線センサとを有し、
当該リソグラフィ投影装置はさらに、
少なくともバリアを投影システムに対して一定速度で移動するアクチュエータを有し、
放射線ビームがパルス状であり、
放射線ビーム検査デバイスの放射線のバリアが、複数の開口を有し、
開口の間隔、投影システムに対するバリアの速度、およびビームのパルス率は、放射線ビームの連続パルスの間に、連続する開口によって放射線ビームの所与の領域にある異なる部分がバリアを通過して放射線センサへと至ることができるように設定される、リソグラフィ投影装置。 - 放射線ビーム検査デバイスであって、
放射線ビーム検査デバイスに入射する放射線のビームの一部が、自身を通過できるようにする開口を有する放射線バリアと、
開口を通過する放射線の強度と、開口に対して、開口を通過する放射線が放射線センサに入射する位置とを検出する放射線センサとを有し、
開口が細長い形状を有する、放射線ビーム検査デバイス。 - さらに、
開口が、ビームの断面内の複数の異なる位置で放射線のビームと交差するように、放射線のビームの位置に対して少なくとも放射線バリアを移動するアクチュエータを有する、請求項3に記載の放射線ビーム検査デバイス。 - 放射線のビームを検査する方法であって、
放射線のバリアを有する放射線ビーム検査デバイスを使用して、放射線のビームの少なくとも一部を検査することを含み、バリアは、放射線ビームの一部がバリアを通過できるようにする開口、および放射線センサを有し、さらに、
開口を通過する放射線のビームの強度と、開口に対して、開口を通過する放射線のビームが放射線センサに入射する位置とを検出するために、放射線センサを使用することを含み、
複数の放射線強度を生成するために、放射線のビームを複数回検査し、複数の検査回のそれぞれで、開口がビームの断面内の異なる位置で放射線のビームと交差し、
放射線のビームの少なくとも一部の強度プロフィールを決定するために、複数の放射線強度読み取り値を使用し、放射線のビームの少なくとも一部の伝播方向を決定するために、位置測定の少なくとも1つを使用する、方法。 - さらに、
放射線のビームを生成するためにリソグラフィ装置を使用することと、
放射線の提供されたビームを基板に投影するために、リソグラフィ装置を使用することとを含み、
放射線の提供されたビームを基板に投影するステップのために、検査ステップの結果を使用して、リソグラフィ装置の少なくとも1つの設定値を設定する、請求項5に記載の方法。 - リソグラフィ投影装置であって、
放射線のビームを提供するパターニングデバイスと、
提供されたビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、
放射線ビーム検査デバイスとを有し、放射線ビーム検査デバイスが、
放射線ビームの一部が自身を通過できるようにする開口を有する放射線ビームのバリアと、
開口を通過する放射線の強度と、開口に対して、開口を通過する放射線が放射線センサに入射する位置とを検出する放射線センサとを有し、
開口が細長い形状を有する、リソグラフィ投影装置。 - さらに、投影システムに対して放射線検査デバイスの少なくともバリアを回転するアクチュエータを有する、請求項7に記載のリソグラフィ投影装置。
- リソグラフィ装置が2つの放射線ビーム検査デバイスを有し、これらは、その開口の細長い方向が相互に平行ではないように配置構成される、請求項7に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記2つの放射線ビーム検査デバイスは、開口の細長い方向が相互に対して直角であるように配置される、請求項9に記載のリソグラフィ投影装置。
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