JP2011509401A - 折返し光学エンコーダ及びその用途 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】システム及び方法を用いてデバイスのパラメータ(例えば、角度、位置、向きなど)が決定される。第1の部分は、デバイスの反射部分に反射するように誘導される放射ビームを生成するように構成された放射源を含む。第2の部分は第1の部分に結合され、反射したビームが測定デバイスを透過して検出器に達するように測定デバイスとオプションとして検出器とを含む。デバイスのパラメータが反射したビームと測定デバイスの相互作用に基づいて決定される。一例では、第1及び第2の部分はリソグラフィ装置内のスキャンミラーの角度又はステージの向きを測定する折返し光学エンコーダを形成することができる。
【選択図】図6
Description
[0109] 以上、本発明の様々な実施形態について説明してきたが、それらの実施形態は、限定的ではなく例示としてのものに過ぎないことを理解されたい。本発明の精神及び範囲を逸脱することなく、本発明の形態及び詳細を様々に変更することができることは当業者には明らかであろう。それ故、本発明の範囲は、上述した例示的実施形態によって限定されるものではなく、添付の特許請求の範囲及びその等価物によってのみ規定される。
Claims (20)
- デバイスの反射部分から反射されるように誘導される放射ビームを生成する放射源を含む第1の部分と、
前記第1の部分に結合され、前記反射したビームが前記測定デバイスを透過して前記検出器に達するように測定デバイスと検出器とを含む第2の部分とを備え、
それによって前記デバイスのパラメータが前記反射したビームと前記測定デバイスの相互作用に基づいて決定されるシステム。 - 前記第1の部分が、前記第2の部分にある角度で結合される、請求項1又は2に記載のシステム。
- 前記デバイスが、スキャン、回転、旋回、又は傾斜するように構成され、
前記反射部分が前記デバイスに対して実質的に常に前記ビームを反射す位置にあるように向いている、請求項1に記載のシステム。 - 前記デバイスが、ミラー、レンズ又は光学素子である、請求項1、2又は3に記載のシステム。
- 前記デバイスが、オブジェクトを支持するステージ又はテーブルである、請求項1、2、4又は4に記載のシステム。
- 前記反射部分が、前記デバイス内又は前記デバイス上に形成されているか、あるいは前記デバイスに結合されている、請求項1、2、3、4又は5のいずれか1項に記載のシステム。
- 第2の放射源から受光した第2の放射ビームを調節する照明システムと、
前記第2のビームをパターニングするパターニングデバイスと、
前記第1及び第2の部分と、前記デバイスとを含み、前記デバイスが前記パターン付ビームを基板のターゲット部分に誘導する投影システムと、
をさらに備える、前記請求項のいずれか1項に記載のシステム。 - 前記パターニングデバイスが、個別に制御可能な素子のアレイである、請求項7に記載のシステム。
- 第2の放射源から受光した第2の放射ビームを調節する照明システムと、
パターニングデバイスを支持しスキャンするパターニングデバイステーブル上に支持され、前記第2のビームをパターニングするパターニングデバイスと、
基板を支持しスキャンする基板テーブルと、
前記パターン付ビームを前記基板に投影する投影システムと、
をさらに備え、
前記デバイスが、前記パターニングデバイステーブル又は前記基板テーブルの一方である、請求項1から6のいずれか1項に記載のシステム。 - 前記第1及び第2の部分が、折返し光学エンコーダを形成する、前記請求項のいずれか1項に記載のシステム。
- 前記測定デバイスが、透過型スケール部である、前記請求項のいずれか1項に記載のシステム。
- (a)放射源から生成された放射ビームをデバイスの反射部分に反射させるステップと、
(b)前記反射ビームが、測定デバイスを透過した後で前記反射ビームを検出するステップと、
(c)ステップ(b)に基づいて前記デバイスのパラメータを決定するステップとを含む方法。 - ステップ(a)が、前記反射部分が前記デバイスに対して実質的に常に前記ビームを反射する位置になるような向きであるように前記デバイスをスキャンし、回転させ、枢動させ、又は傾斜させるステップを含む、請求項12に記載の方法。
- ステップ(a)が、前記デバイスとしてスキャンミラーを使用するステップを含む、請求項12又は13に記載の方法。
- ステップ(a)が、前記デバイスとしてオブジェクトを支持し移動させるステージ又はテーブルを使用するステップを含む、請求項12、13又は14に記載の方法。
- ステップ(a)が、前記反射部分を前記デバイスに結合するステップを含む、請求項12、13、14又は15に記載の方法。
- ステップ(a)が、前記反射部分を前記デバイス内又は前記デバイス上に形成するステップを含む、請求項12、13、14、15又は16に記載の方法。
- ステップ(b)が、前記測定デバイスとして透過型スケール部を使用するステップを含む、請求項12、13、14、16又は17に記載の方法。
- ステップ(c)が、前記デバイスのパラメータとして角度、位置、又は向きを決定するステップを含む、請求項12から18のいずれか1項に記載の方法。
- 第1の放射ビームを生成する第1の放射源と、
前記第1の放射源をパターニングする個別に制御可能な素子のアレイと、
前記パターン付ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
を備えるシステムであって、前記投影システムが、
デバイスの反射部分に反射するように誘導される第2の放射ビームを生成する第2の放射源を含む第1の部分であって、前記デバイスが、前記パターン付ビームを前記基板の前記ターゲット部分に投影する第1の部分と、
前記第1の部分に結合され、前記反射した第2のビームが測定デバイスを透過して検出器に達するように測定デバイスと検出器とを含む第2の部分と、
を備え、
それによって前記デバイスのパラメータが、前記反射したビームと前記測定デバイスの相互作用に基づいて決定されるシステム。
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