DE102015212878A1

DE102015212878A1 - Strahlführungsvorrichtung

Info

Publication number: DE102015212878A1
Application number: DE102015212878.4A
Authority: DE
Inventors: Michael Patra
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2015-07-09
Filing date: 2015-07-09
Publication date: 2017-01-12
Also published as: CN107924143A; CN107924143B; KR20180028487A; WO2017005912A2; WO2017005912A3

Abstract

Mittels einer Strahlführungsvorrichtung (28) kann Beleuchtungsstrahlung (5) von unterschiedlichen Strahlungsquellen (4i) zu unterschiedlichen Scannern (3i) gelenkt werden.

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Führung eines Strahlengangs von Beleuchtungsstrahlung, insbesondere eines Strahlengangs von Beleuchtungsstrahlung in einem Beleuchtungssystem eines Projektionsbelichtungssystems. Die Erfindung betrifft außerdem ein Beleuchtungssystem für ein Projektionsbelichtungssystem mit einer derartigen Strahlführungsvorrichtung. Außerdem betrifft die Erfindung ein Projektionsbelichtungssystem mit einem entsprechenden Beleuchtungssystem, ein Verfahren zum Betrieb und ein Verfahren zur Wartung eines derartigen Projektionsbelichtungssystems. Schließlich betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines mikro- oder nanostrukturierten Bauelements sowie ein verfahrensgemäß hergestelltes Bauelement.
Als Strahlungsquelle für ein Projektionsbelichtungssystem kann ein Freie Elektronen-Laser (FEL) dienen. Freie Elektronen-Laser sind relativ zu der von ihnen insgesamt emittierten Strahlungsleistung umso kostengünstiger, je größer sie sind. Dies ist von daher wünschenswert, einen einzelnen FEL als Strahlungsquelle für eine Mehrzahl von Scanner zu verwenden. Fällt dieser FEL allerdings aus, hat dies dann eine Auswirkung auf mehrere Scanner.
Eine EUV-Lithographieanlage mit einem Freie-Elektronen-Laser und mehreren Scannern ist beispielsweise aus der DE 10 2013 211 830 A1 bekannt.
Es ist eine Aufgabe der Erfindung, eine Vorrichtung bereitzustellen, mittels welcher der Betrieb eines Projektionsbelichtungssystems, insbesondere eines Projektionsbelichtungssystems mit mindestens zwei Strahlungsquellen, insbesondere in Form von FEL, und einer Mehrzahl von Scannern verbessert wird.
Diese Aufgabe wird durch eine Strahlführungsvorrichtung gemäß Anspruch 1 gelöst.
Der Kern der Erfindung besteht darin, eine Vorrichtung zur Führung des Strahlengangs von Beleuchtungsstrahlung bereitzustellen, mittels welcher die Beleuchtungsstrahlung von mindestens einer Strahlungsquelle, insbesondere einem FEL, auf unterschiedliche Teilmengen von Scannern verteilt werden kann. Die Vorrichtung umfasst mindestens einen Eingang und mindestens zwei Ausgänge für Beleuchtungsstrahlung sowie mindestens ein Strahlführungs-Element, welches zwischen mindestens zwei Verlagerungspositionen verlagerbar ist, wobei die Beleuchtungsstrahlung vom mindestens einen Eingang in Abhängigkeit von der Verlagerungsposition des Strahlführungs-Elements zu unterschiedlichen der mindestens zwei Ausgänge lenkbar ist.
Mit einer derartigen Strahlführungsvorrichtung ist es möglich, eine Mehrzahl von Scannern, insbesondere mindestens zwei Gruppen von Scannern, mit einem einzigen FEL mit Beleuchtungsstrahlung zu versorgen. Die Scanner werden insbesondere intervallweise, insbesondere sequentiell, mit Beleuchtungsstrahlung versorgt. Überraschenderweise wurde erkannt, dass dies ohne einen erheblichen Produktionsverlust möglich ist.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung umfasst die Vorrichtung mindestens zwei Eingänge für Beleuchtungsstrahlung und mindestens zwei Ausgänge für Beleuchtungsstrahlung sowie mindestens zwei Strahlführungs-Elemente, welche jeweils zwischen mindestens zwei Verlagerungspositionen verlagerbar sind, wobei die Beleuchtungsstrahlung vom ersten Eingang in Abhängigkeit der Verlagerungsposition des ersten Strahlführungs-Elements zu unterschiedlichen der mindestens zwei Ausgänge lenkbar ist, und wobei die Beleuchtungsstrahlung vom zweiten Eingang in Abhängigkeit von der Verlagerungsposition des zweiten Strahlführungs-Elements zu unterschiedlichen der mindestens zwei Ausgänge lenkbar ist.
Es wurde erkannt, dass es mit einer derartigen Strahlführungsvorrichtung möglich ist, die Beleuchtungsstrahlung von mindestens zwei separaten Strahlungsquellen, insbesondere zwei FEL, auf unterschiedliche Teilmengen von Scannern zu verteilen. Es ist insbesondere möglich, eine Mehrzahl von Scannern mittels zweier FEL mit Beleuchtungsstrahlung zu versorgen, wobei jeder der beiden FEL im Falle eines Ausfalls des jeweils anderen der FEL auch die im Grundzustand von diesem mit Beleuchtungsstrahlung versorgten Scanner mit Beleuchtungsstrahlung versorgen kann. Es ist insbesondere möglich, während eines Wartungsintervalls, in welchem der eine der FEL ausgeschaltet ist, sämtliche Scanner des Projektionsbelichtungssystems mittels des anderen FEL mit Beleuchtungsstrahlung zu versorgen. Im Idealfall kommt es hierbei zu keinem Produktionsverlust. Der Produktionsverlust im Wartungsintervall beträgt insbesondere höchstens 25%, insbesondere höchstens 20%, insbesondere höchstens 15%, insbesondere höchstens 10%, insbesondere höchstens 5%. Die Strahlführungsvorrichtung ist insbesondere derart ausgebildet, dass die Beleuchtungsstrahlung von den FEL in Abhängigkeit von den Verlagerungspositionen der Strahlführungs-Elemente zu unterschiedlichen Ausgängen, das heißt zu unterschiedlichen Scannern, geführt wird.
Die Strahlführungsvorrichtung ist insbesondere zum Einsatz in einem Beleuchtungssystem mit mindestens zwei Freie-Elektronen-Laser (FEL) und einer Mehrzahl von Scannern vorgesehen.
Bei den Strahlführungs-Elementen handelt es sich insbesondere um Spiegel-Einrichtungen oder Spiegel-Elemente.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung sind die Strahlführungs-Elemente in einer ersten Verlagerungsposition jeweils außerhalb des Strahlengangs der Beleuchtungsstrahlung angeordnet. Sie sind insbesondere derart angeordnet, dass sie in der ersten Verlagerungsposition jeweils nicht zu einer Umlenkung des Strahlengangs führen.
Die Stellung der Strahlführungs-Elemente in ihrer ersten Verlagerungsposition wird daher auch als Grundzustand bezeichnet. Im Grundzustand ist jedem der Eingänge der Strahlführungsvorrichtung genau einer der Ausgänge der Strahlführungsvorrichtung zugeordnet.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung sind bei einer Anordnung sämtlicher der Strahlführungs-Elemente in ihrer ersten Verlagerungsposition sämtliche Ausgänge der Strahlführungsvorrichtung gleichzeitig mit Beleuchtungsstrahlung beaufschlagbar.
Im Grundzustand kann insbesondere der erste der FEL eine erste Teilmenge der Scanner mit Beleuchtungsstrahlung versorgen, während der zweite der FEL eine hiervon disjunkte zweite Teilmenge der Scanner mit Beleuchtungsstrahlung versorgt.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung wird die Zuordnung mindestens einer der Ausgänge zu einem der Eingänge, das heißt die Zuordnung mindestens eines der Scanner zu einem der FEL, durch eine Verlagerung eines der Strahlführungs-Elemente in eine zweite Verlagerungsposition im Strahlengang der Beleuchtungsstrahlung verändert. Gemäß einem Aspekt der Erfindung ist es insbesondere möglich, durch eine Verlagerung eines der Strahlführungs-Elemente in die zweite Verlagerungsposition die Zuordnung eines der Eingänge zu einem der Ausgänge zu verändern. Konkret bedeutet dies, dass die Beleuchtungsstrahlung von einem einzigen der beiden FEL durch Verlagerung eines der Strahlführungs-Elemente zwischen dessen beiden Verlagerungspositionen zwischen den beiden disjunkten Teilmengen der Scanner hin und her geschaltet werden kann.
Bei einer Anordnung eines der Strahlführungs-Elemente in seiner zweiten Verlagerungsposition ist insbesondere nur einer der Ausgänge zu einem bestimmten Zeitpunkt mit Beleuchtungsstrahlung beaufschlagbar. Dies bedeutet, dass zu einem gegebenen Zeitpunkt jeweils nur eine Teilmenge der Scanner gleichzeitig mit Beleuchtungsstrahlung versorgt werden kann. Wie nachfolgend noch dargelegt wird, ist es jedoch möglich, durch eine gezielte Steuerung der Verlagerung des entsprechenden Strahlführungs-Elements zu erreichen, dass unterschiedliche Scanner sequentiell, insbesondere alternierend, mit Beleuchtungsstrahlung versorgt werden. Hierbei kann ein möglicher Produktionsverlust durch geeignete Steuerung der Verlagerung des entsprechenden Strahlführungs-Elements verringert, insbesondere minimiert, vorzugsweise verhindert werden.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung sind zumindest zwei der Strahlführungs-Elemente mit einer Frequenz von mindestens 1 Hz zwischen einer ersten und einer zweiten Verlagerungsposition verlagerbar. Hierdurch wird ein ausreichend schnelles Umschalten des Strahlengangs der Beleuchtungsstrahlung von einem der Eingänge auf mindestens zwei unterschiedliche Ausgänge ermöglicht. Die Frequenz, mit welcher die Strahlführungs-Elemente verlagerbar sind, kann insbesondere mindestens 2 Hz, insbesondere mindestens 3 Hz, insbesondere mindestens 5 Hz, insbesondere mindestens 10 Hz betragen.
Die Strahlführungsvorrichtung kann außerdem weitere Strahlführungs-Elemente aufweisen, welche eine geringere Verlagerungsfrequenz aufweisen. Derartige Strahlführungs-Elemente können vorteilhaft sein, um zu erreichen, dass die Beleuchtungsstrahlung von den unterschiedlichen FEL an identischen Ausgängen eine identische Richtung, insbesondere eine identische Richtungsverteilung, aufweist. Das langsamere der Strahlführungs-Elemente kann insbesondere während des gesamten Wartungsintervalls in seiner zweiten Verlagerungsposition bleiben. Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass es daher ausreichend ist, wenn das entsprechende Strahlführungs-Element lediglich quasi-statisch verlagerbar ist.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung umfassen die Strahlführungs-Elemente jeweils mindestens eine rotierbar gelagerte Spiegeleinrichtung. Die Spiegeleinrichtung kann insbesondere mehrere Reflexionsflächen aufweisen. Sie kann insbesondere mehrere strahlungsdurchlässige Bereiche aufweisen. Sie weist insbesondere eine steuerbare Rotationsfrequenz auf. Vorzugsweise weist die Spiegeleinrichtung abgesehen von der steuerbaren Frequenz eine konstante Winkelgeschwindigkeit auf. Beschleunigungs- und Abbremsvorgänge können somit vermieden werden.
Es wurde erkannt, dass es für die Verlagerung der Strahlführungs-Elemente vorteilhaft ist, wenn diese entlang einer Tangente zu ihrer Reflexionsfläche verlagert werden. Bei einem planen Spiegel entspricht dies einer geradlinigen Verlagerung parallel zur Reflexionsfläche. Bei einem gekrümmten Spiegel, insbesondere einem Spiegel mit konstantem Krümmungsradius, kann dies durch eine kreisförmige Verlagerung, das heißt eine Verschwenkung, erreicht werden.
Weitere Aufgaben der Erfindung bestehen darin, ein Beleuchtungssystem für ein Projektionsbelichtungssystem und ein derartiges Projektionsbelichtungssystem zu verbessern.
Diese Aufgaben werden durch ein Beleuchtungssystem mit einer Strahlführungsvorrichtung gemäß der vorhergehenden Beschreibung gelöst. Die Vorteile ergeben sich aus denen der Strahlführungsvorrichtung.
Bei den Strahlungsquellen des Beleuchtungssystems handelt es sich insbesondere um Freie-Elektronen-Laser (FEL).
Mit Hilfe der Strahlführungsvorrichtung ist es insbesondere möglich, Beleuchtungsstrahlung von einer einzigen, zwei oder mehr Strahlungsquellen, insbesondere in Form von Freie-Elektronen-Lasern (FEL), derart auf eine Mehrzahl von Scanner aufzuteilen, dass im Grundzustand jeder der FEL eine disjunkte Teilmenge von Scannern mit Beleuchtungsstrahlung versorgt, im Falle eines Ausfalls eines der FEL jedoch der andere FEL beide Teilmengen der Scanner, insbesondere sämtliche Scanner des Projektionsbelichtungssystems, mit Beleuchtungsstrahlung versorgt. Durch das erfindungsgemäße Beleuchtungssystem, insbesondere durch die Strahlführungsvorrichtung, lässt sich insbesondere der Produktionsverlust, welcher durch den Ausfall eines FEL, insbesondere aufgrund von Wartungsarbeiten, verursacht werden kann, verringern, insbesondere verhindern.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung sind die Strahlführungsvorrichtungen jeweils im Strahlengang der Beleuchtungsstrahlung hinter einer Auskoppeleinheit angeordnet. Hierdurch ist es möglich, Beleuchtungsstrahlung flexibel zwischen paarweise einander zugeordneten Scannern der unterschiedlichen Teilmengen hin und her zu schalten.
Die Auskoppeleinheit dient hierbei der Erzeugung von mehreren Einzelausgabestrahlen aus einem Sammel-Ausgabestrahl. Die Einzelausgabestrahlen dienen jeweils der Versorgung einzelner Scanner mit Beleuchtungsstrahlung. Der Sammel-Ausgabestrahl kann mit einer Strahlformungsoptik aus einem von der Strahlungsquelle emittierten Rohstrahl geformt werden.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung ist vorgesehen, jeder der beiden Strahlungsquellen jeweils eine Gruppe von N Scannern zuzuordnen und jedem Scanner der einen Gruppe einen bestimmten Scanner der anderen Gruppe zuzuordnen, wobei für jeweils zwei einander zugeordnet Scanner unterschiedlicher Gruppen eine Strahlführungsvorrichtung gemäß der vorhergehenden Beschreibung vorgesehen ist.
Die Scanner der unterschiedlichen Gruppen werden insbesondere paarweise einander zugeordnet. Mittels der Strahlführungsvorrichtung ist es in diesem Fall möglich, für jedes Paar der Scanner zu steuern, ob beziehungsweise insbesondere zu welchem Zeitpunkt die Beleuchtungsstrahlung von den Strahlungsquellen zu welchen der Scanner geführt wird. Es ist insbesondere möglich, die Beleuchtungsstrahlung von einer der Strahlungsquellen zwischen den beiden einander zugeordneten Scannern hin und her zu schalten, ohne dass hierdurch die Versorgung der übrigen Scanner des Projektionsbelichtungssystems mit Beleuchtungsstrahlung beeinflusst wird.
Hierdurch wird die Flexibilität der Versorgung der einzelnen Scanner mit Beleuchtungsstrahlung verbessert. Dadurch kann der Produktionsverlust weiter verringert, insbesondere minimiert, insbesondere vollständig verhindert werden. Details hierzu ergeben sich aus einem nachfolgend noch näher beschriebenen Verfahren.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung ist die Strahlführungsvorrichtung im Strahlengang der Beleuchtungsstrahlung vor einer Auskoppeleinheit angeordnet.
Dies hat den Vorteil, dass mittels der Strahlführungsvorrichtung gleichzeitig der Strahlengang der Beleuchtungsstrahlung für eine Mehrzahl der Scanner beeinflussbar ist.
Bei dieser Variante können in die Strahlführungsvorrichtung auch zusätzliche optische Komponenten, beispielsweise zur Strahlformung und/oder Komponenten der Auskoppeloptik integriert sein.
Prinzipiell ist es möglich, die Strahlführungsvorrichtung und die Auskoppeloptik als eine einzige optische Vorrichtung, insbesondere als ein einziges optisches Modul, auszubilden. Die Strahlführungsvorrichtung kann insbesondere in die Auskoppeloptik integriert sein. Es ist auch möglich, die Auskoppeloptik in die Umlenk-Vorrichtung zu integrieren.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung ist jeder der beiden Strahlungsquellen jeweils eine Gruppe von Scannern und eine Strahlführungsvorrichtung gemäß der vorhergehenden Beschreibung zugeordnet, wobei die Zuordnung der Scanner einer Gruppe zu einer der beiden Strahlungsquellen mit Hilfe der Strahlführungsvorrichtung gewechselt werden kann.
Dies ermöglicht ein besonders einfaches Ändern der Zuordnung der Scanner zu den Strahlungsquellen.
Die Vorteile des Projektionsbelichtungssystems ergeben sich aus denen des Beleuchtungssystems.
Durch das erfindungsgemäße Beleuchtungssystem, insbesondere durch die Strahlführungsvorrichtung, lässt sich ein Produktionsverlust bei Ausfall eines der FEL verringern, insbesondere vollständig vermeiden. Mittels der erfindungsgemäßen Strahlführungsvorrichtung lässt sich allgemein die Strahlung von einem einzigen FEL besonders effizient auf zwei Gruppen von Scannern verteilen. Dies führt insbesondere zu einer Steigerung der Effizienz, insbesondere zu einer Steigerung des Durchsatzes.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein Verfahren zum Betrieb eines Projektionsbelichtungssystems zu verbessern.
Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren gelöst, bei welchem unterschiedliche Scanner eines Projektionsbelichtungssystems mit Beleuchtungsstrahlung von einer einzigen Strahlungsquelle in Form eines FEL versorgt werden, wobei die Beleuchtungsstrahlung von diesem FEL mittels einer Strahlführungsvorrichtung gemäß der vorhergehenden Beschreibung intervallweise zu unterschiedlichen der Scanner umgelenkt wird. Hierbei können die Dies unter Berücksichtigung ihrer gegebenenfalls unterschiedlichen Größe unterschiedlichen Scannern zugeordnet werden.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung wird die Zuordnung der Dies zu den Scannern derart festgelegt, dass die Produktionsverluste, welche durch den Ausfall eines der FEL verursacht werden, reduziert, insbesondere minimiert, insbesondere vollständig vermieden werden. Mit anderen Worten wird die Zuordnung der Dies zu den Scannern derart bestimmt, dass die Effizienz des Projektionsbelichtungssystems gesteigert, insbesondere maximiert wird. Hierbei kann insbesondere eine Totzeit, in welcher keine Belichtung eines Dies stattfindet, obwohl Beleuchtungsstrahlung angeboten wird, reduziert, insbesondere minimiert, insbesondere vollständig vermieden werden.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung kann vorgesehen sein, die zu belichtenden Dies in Abhängigkeit ihrer Größe zu sortieren, insbesondere umzusortieren. Diese können insbesondere dann so in zwei Gruppen aufgeteilt werden, dass alle Dies einer ersten Gruppe größer oder gleichgroß wie alle Dies einer zweiten Gruppen sind. Die Dies werden dann so den Scannern zugeordnet, dass die Scanner der Dies der einen Gruppe gleichzeitig und die Scanner der Dies der anderen Gruppe gleichzeitig belichtet werden.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung ist vorgesehen, Paare von Dies zu bestimmen, welche sich höchstens um einen vorgegebenen Maximalwert in ihren Größen unterscheiden, sodann die entsprechenden Scanner paarweise einander zuzuordnen und die Dies der vorhergehend bestimmten Paare abwechselnd zu belichten, wobei zum abwechselnden Belichten dieser Dies jeweils eines der Strahlführungs-Elemente zwischen seinen beiden Verlagerungspositionen hin und her verlagert wird.
Hierdurch können Produktionsverluste besonders gut reduziert, insbesondere minimiert werden.
Der maximale Größenunterschied der beiden Dies eines Paares beträgt insbesondere höchstens 25%, insbesondere höchstens 10%, insbesondere höchstens 5%, insbesondere höchstens 3%, insbesondere höchstens 1%.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung werden zum Bestimmen der Menge der im bestimmten Zeitraum zu belichtenden N Dies aus der Gesamtheit der Dies N ausgewählt, derart dass ein Größenunterschied zwischen dem größten dieser Dies und dem kleinsten dieser Dies kleiner ist als ein maximaler Größenunterschied sämtlicher Dies.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein Verfahren zur Wartung eines Projektionsbelichtungssystems zu verbessern.
Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren gelöst, bei welchem sämtliche Scanner des Projektionsbelichtungssystems während des Wartungszeitraums eines der FEL vom anderen der FEL mit Beleuchtungsstrahlung versorgt werden. Hierbei ist insbesondere vorgesehen, die Beleuchtungsstrahlung von dem aktiven FEL intervallweise zu unterschiedlichen der Scanner zu führen. Hierbei können die Dies unter Berücksichtigung ihrer gegebenenfalls unterschiedlichen Größe unterschiedlichen Scannern zugeordnet werden.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein Verfahren zur Herstellung von mikro- oder nanostrukturierten Bauelementen zu verbessern.
Diese Aufgabe wird durch Bereitstellung eines erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungssystems gelöst. Das Verfahren führt insbesondere zu einem verringerten Produktionsverlust und damit zu einer erhöhten Produktivität. Es führt insbesondere zu einer Erhöhung der über die Zeit gemittelten Produktivität der einzelnen Scanner.
Weitere Vorteile, Details und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der Figuren. Es zeigen:
1 eine schematische Darstellung der Bestandteile eines Projektionsbelichtungssystems mit einer Mehrzahl von Scannern,
2 eine Darstellung des Projektionsbelichtungssystems gemäß 1 mit einer veränderten Strahlführung,
3 eine schematische Darstellung einer ersten Variante eines verlagerbaren Strahlführungs-Elements,
4 eine schematische Darstellung einer weiteren Variante eines verlagerbaren Strahlführungs-Elements,
5 eine schematische Darstellung einer weiteren Variante eines verlagerbaren Strahlführungs-Element,
6 eine schematische Darstellung einer weiteren Variante eines verlagerbaren Strahlführungs-Element,
7 eine schematische Darstellung einer weiteren Variante eines verlagerbaren Strahlführungs-Element,
8 eine schematische Darstellung einer weiteren Variante eines verlagerbaren Strahlführungs-Element,
9 eine schematische Darstellung zur Erläuterung des zeitlichen Ablaufs eines Betriebsmodus für das Projektionsbelichtungssystem gemäß 1,
10 eine Darstellung gemäß 9 für den Betriebsmodus des Projektionsbelichtungssystems gemäß 2,
11 eine schematische Darstellung einer weiteren Variante des Projektionsbelichtungssystems gemäß 1,
12 eine schematische Darstellung einer Variante zum Betriebsmodus gemäß 10,
13 eine Darstellung entsprechend 12, in welcher die Reihenfolge der Scanner exemplarisch umsortiert dargestellt ist,
14 und 15 schematische Darstellungen weiterer Varianten von Betriebsmodi des Projektionsbelichtungssystems,
16 eine schematische Darstellung einer weiteren Variante eines Projektionsbelichtungssystems,
17 eine Darstellung gemäß 10 einer Alternative, bei welcher die Dies auf den Scannern 1 bis 3 gleichlang oder länger sind als die Dies auf den Scannern 4 bis 6, und
18A bis 18D eine schematische, ausschnittsweise Darstellung einer alternativen Ausführungsform des Projektionsbelichtungssystems gemäß 1 mit unterschiedlichen Verlagerungspositionen der Strahlführungselemente, und
19 eine schematische Darstellung einer alternativen Ausführungsform des Projektionsbelichtungssystems gemäß 1.
Im Folgenden werden unter Bezugnahme auf die 1 zunächst die wesentlichen Bestandteile eines Projektionsbelichtungssystems 1 beschrieben.
Die nachfolgend vorgenommene Unterteilung des Projektionsbelichtungssystems 1 in Teilsysteme dient primär der begrifflichen Abgrenzung derselben. Die Teilsysteme können separate konstruktive Teilsysteme bilden. Die Aufteilung in Teilsysteme muss sich jedoch nicht notwendigerweise in einer konstruktiven Abgrenzung widerspiegeln.
Das Projektionsbelichtungssystem 1 umfasst zwei Strahlungsquellenmodule 2 und eine Mehrzahl von Scannern 3 _i. Die Bestandteile der Strahlungsquellenmodule 2 können auch in einem einzigen Strahlungsquellenmodul 2 zusammengefasst sein.
Die Strahlungsquellenmodule 2 umfassen jeweils eine Strahlungsquelle 4 zur Erzeugung von Beleuchtungsstrahlung 5.
Bei der Strahlungsquelle 4 handelt es sich insbesondere um einen Freie Elektronen-Laser (FEL). Es kann sich auch um eine Synchrotronstrahlungsquelle beziehungsweise um eine synchrotronstrahlungsbasierte Strahlungsquelle, die kohärente Strahlung mit sehr hoher Brillanz erzeugt, handeln. Exemplarisch sei für derartige Strahlungsquellen auf die US 2007/0152171 A1 und die DE 103 58 225 B3 verwiesen.
Die Strahlungsquelle 4 hat beispielsweise eine mittlere Leistung im Bereich von 1 kW bis 25 kW. Sie weist eine Pulsfrequenz im Bereich von 10 MHz bis 10 GHz auf. Jeder einzelne Strahlungsimpuls kann beispielsweise eine Energie von 83 µJ betragen. Bei einer Strahlungsimpulslänge von 100 fs entspricht dies einer Strahlungsimpulsleistung von 833 MW.
Die Strahlungsquelle 4 kann auch eine Repetitionsrate im Kilohertzbereich, beispielsweise von 100 kHz, oder im niederen Megahertzbereich, beispielsweise bei 3 MHz, im mittleren Megahertzbereich, beispielsweise bei 30 MHz, im oberem Megahertzbereich, beispielsweise bei 300 MHz oder auch im Gigahertzbereich, beispielsweise bei 1,3 GHz, besitzen.
Bei der Strahlungsquelle 4 handelt es sich insbesondere um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Strahlungsquelle 4 emittiert insbesondere EUV-Strahlung im Wellenlängenbereich beispielsweise zwischen 2 nm und 30 nm, insbesondere zwischen 2 nm und 15 nm.
Die Strahlungsquelle 4 emittiert die Beleuchtungsstrahlung 5 in Form eines Rohstrahls 6. Der Rohstrahl 6 hat eine sehr kleine Divergenz. Die Divergenz des Rohstrahls 6 kann kleiner als 10 mrad sein, insbesondere kleiner als 1 mrad, insbesondere kleiner als 100 µrad, insbesondere kleiner als 10 µrad. Zur einfacheren Beschreibung von Lageverhältnissen werden im Folgenden Koordinaten eines kartesischen xyz-Koordinatensystems verwendet. Die x-Koordinate spannt mit der y-Koordinate regelmäßig einen Bündelquerschnitt der Beleuchtungsstrahlung 5 auf. Die z-Richtung verläuft regelmäßig in Strahlungsrichtung der Beleuchtungsstrahlung 5. Im Bereich der Objektebene 21 beziehungsweise der Bildebene 24 verläuft die y-Richtung parallel zu einer Scanrichtung. Die x-Richtung verläuft senkrecht zur Scanrichtung. Der Rohstrahl 6 wird von der Strahlungsquelle 4 in eine bestimmte Richtung emittiert. Diese wird im Folgenden auch als Pointing P bezeichnet.
Der Rohstrahl 6 kann einen Lichtleitwert aufweisen, welcher kleiner ist als 0,1 mm², insbesondere kleiner als 0,01 mm². Beim Lichtleitwert handelt es sich um das kleinste Volumen eines Phasenraums, welches 90 % der Energie der von der Strahlungsquelle 2 emittierten Beleuchtungsstrahlung 5 enthält. Hierzu entsprechende Definitionen des Lichtleitwerts finden sich beispielsweise in der EP 1 072 957 A2 und der US 6 198 793 B1 .
Die Strahlungsquellenmodule 2 umfassen weiterhin jeweils eine der Strahlungsquelle 4 nachgeordnete Strahlformungsoptik 7. Die Strahlformungsoptik 7 dient zur Erzeugung eines Sammel-Ausgabestrahls 8 aus dem Rohstrahl 6. Der Sammel-Ausgabestrahl 8 hat eine sehr kleine Divergenz. Die Divergenz des Sammel-Ausgabestrahls 8 kann kleiner als 10 mrad sein, insbesondere kleiner als 1 mrad, insbesondere kleiner als 100 µrad, insbesondere kleiner als 10 µrad.
Mittels der Strahlformungsoptik 7 kann insbesondere der Durchmesser des Rohstrahls 6 beziehungsweise des Sammel-Ausgabestrahls 8 beeinflusst werden. Mittels der Strahlformungsoptik 7 kann insbesondere eine Aufweitung des Rohstrahls 6 erreicht werden. Der Rohstrahl 6 kann mittels der Strahlformungsoptik 7 insbesondere um einen Faktor von mindestens 1,5, insbesondere mindestens 2, insbesondere mindestens 3, insbesondere mindestens 5, insbesondere mindestens 10 aufgeweitet werden. Der Aufweitungsfaktor ist insbesondere kleiner als 1000. Es ist auch möglich, den Rohstrahl 6 in unterschiedlichen Richtungen unterschiedlich stark aufzuweiten. Er kann insbesondere in einer x-Richtung stärker aufgeweitet werden als in einer y-Richtung. Hierbei entspricht die y-Richtung im Bereich des Objektfeldes 11 _i der Scanrichtung. Die Divergenz des Sammel-Ausgabestrahls 8 kann kleiner sein als die Divergenz, insbesondere kleiner als die halbe Divergenz, des Rohstrahls 6.
Alternativ kann der Rohstrahl 6 in einer y-Richtung stärker als in einer x-Richtung aufgeweitet werden. Der Unterschied im Aufweitungsfaktor kann insbesondere ungefähr gleich der Gesamtzahl der später erzeugten Einzel-Ausgabestrahlen 10 _i sein.
Für weitere Details der Strahlformungsoptik 7 sei auf die DE 10 2013 223 935.1 verwiesen, die hiermit in die vorliegende Anmeldung integriert ist. Die Strahlformungsoptik 7 kann insbesondere jeweils eine oder zwei Strahlformungsspiegelgruppen mit jeweils zwei Spiegeln aufweisen. Die Strahlformungsspiegelgruppen dienen insbesondere zur Strahlformung des Sammel-Ausgabestrahls 8 in zueinander senkrechten Ebenen, welche parallel zur Ausbreitungsrichtung des Sammel-Ausgabestrahls 8 verlaufen.
Die Strahlformungsoptik 7 kann auch weitere Strahlformungsspiegel umfassen.
Die Strahlformungsoptik 7 kann insbesondere Zylinderspiegel, insbesondere mindestens einen konvexen und mindestens einen konkaven Zylinderspiegel, umfassen. Sie kann auch Spiegel mit einem Freiformprofil umfassen. Derartige Spiegel weisen jeweils ein Höhenprofil auf, welches nicht als Kegelschnitt darstellbar ist.
Mittels der Strahlformungsoptik 7 kann außerdem das Intensitätsprofil des Rohstrahls 6 beeinflusst werden.
Außerdem kann das Strahlungsquellenmodul 2 jeweils eine der Strahlformungsoptik 7 nachgeordnete Auskoppeloptik 9 umfassen. Die Auskoppeloptik 9 dient zur Erzeugung von mehreren, nämlich von n, Einzelausgabestrahlen 10 _i (i = 1 bis n) aus dem Sammel-Ausgabestrahl 8. Die Einzelausgabestrahlen 10 _i bilden jeweils Strahlenbündel zur Beleuchtung eines Objektfeldes 11 _i. Die Einzelausgabestrahlen 10 _i sind jeweils einem der Scanner 3 _i zugeordnet. Die Strahlenbündel der Einzelausgabestrahlen 10 _i können jeweils eine Mehrzahl von separaten Teilstrahlen 12 _i umfassen.
Das Strahlungsquellenmodul 2 ist jeweils insbesondere in einem evakuierbaren Gehäuse angeordnet.
Die Scanner 3 _i umfassen jeweils eine Strahlführungsoptik 13 _i und eine Projektionsoptik 14 _i.
Die Strahlführungsoptik 13 _i der Scanner 3 _i dient der Führung der Beleuchtungsstrahlung 5, insbesondere der jeweiligen Einzel-Ausgabestrahlen 10 _i zu den Objektfeldern 11 _i der einzelnen Scanner 3 _i.
Die Projektionsoptik 14 _i dient jeweils der Abbildung eines in einem der Objektfelder 11 _i angeordneten Retikels 22 _i in ein Bildfeld 23 _i, insbesondere auf einen im Bildfeld 23 _i angeordneten Wafer 25 _i.
Die Strahlungsführungsoptik 13 _i umfasst in der Reihenfolge des Strahlengangs der Beleuchtungsstrahlung 5 jeweils eine Umlenkoptik 15 _i, eine Einkoppeloptik 16 _i, insbesondere in Form einer Fokussier-Baugruppe, und eine Beleuchtungsoptik 17 _i. Die Einkoppeloptik 16 _i kann insbesondere auch als Wolter-Type-III-Kollektor ausgebildet sein.
Die Umlenkoptik 15 _i kann auch in die Auskoppeloptik 9 integriert sein. Die Auskoppeloptik 9 kann insbesondere derart ausgebildet sein, dass sie die Einzelausgabestrahlen 10 _i bereits in eine gewünschte Richtung umlenkt. Gemäß einer Variante kann auch auf die Umlenkoptiken 15 _i insgesamt verzichtet werden. Allgemein können die Auskoppeloptik 9 und die Umlenkoptiken 15 _i eine Auskoppel-Umlenk-Einrichtung bilden. Gemäß einer weiteren Variante kann die Auskoppeloptik 9 auch jeweils im Strahlengang nach der Umlenkoptik 15 _i angeordnet sein. Diese unterschiedlichen Varianten beziehen sich auf sämtliche nachfolgend beschriebenen Ausführungsbeispiele.
Für unterschiedliche Varianten der Umlenkoptiken 15 _i sei beispielsweise auf die DE 10 2013 223 935.1 verwiesen, die hiermit als Bestandteil der vorliegenden Anmeldung in diese integriert ist.
Die Einkoppeloptik 16 _i dient insbesondere dem Einkoppeln der Beleuchtungsstrahlung 5, insbesondere eines der von der Auskoppeloptik 9 erzeugten Einzel-Ausgabestrahlen 10 _i in jeweils eine der Beleuchtungsoptiken 17 _i.
Die Strahlführungsoptik 13 _i bildet jeweils zusammen mit der Strahlformungsoptik 7 und der Auskoppeloptik 9 Bestandteile einer Beleuchtungseinrichtung 18.
Die Beleuchtungseinrichtung 18 ist ebenso wie die Strahlungsquelle 4 jeweils Bestandteil eines Beleuchtungssystems 19.
Jeder der Beleuchtungsoptiken 17 _i ist jeweils eine der Projektionsoptiken 14 _i zugeordnet. Zusammen werden die einander zugeordnete Beleuchtungsoptik 17 _i und die Projektionsoptik 14 _i auch als optisches System 20 _i bezeichnet.
Die Beleuchtungsoptik 17 _i dient jeweils zur Überführung von Beleuchtungsstrahlung 5 zu einem im Objektfeld 11 _i in einer Objektebene 21 _i angeordneten Retikel 22 _i. Die Projektionsoptik 14 _i dient zur Abbildung des Retikels 22 _i, insbesondere zur Abbildung von Strukturen auf dem Retikel 22 _i, auf einen in einem Bildfeld 23 _i in einer Bildebene 24 angeordneten Wafer 25 _i.
Das Projektionsbelichtungssystem 1 umfasst insbesondere mindestens zwei, insbesondere mindestens drei, insbesondere mindestens vier, insbesondere mindestens fünf, insbesondere mindestens sechs, insbesondere mindestens sieben, insbesondere mindestens acht, insbesondere mindestens neun, insbesondere mindestens zehn Scanner 3 _i. Das Projektionsbelichtungssystem 1 kann auch zwanzig oder mehr Scanner 3 _i umfassen. Je nach Ausbildung des Strahlungsquellenmoduls 2, insbesondere je nach Anzahl der Strahlungsquellen 4, kann das Projektionsbelichtungssystem 1 beispielsweise auch bis zu 100 Scanner 3 _i umfassen.
Die Scanner 3 _i werden von den gemeinsamen Strahlungsquellenmodulen 2, insbesondere von den Strahlungsquellen 4, mit Beleuchtungsstrahlung 5 versorgt.
Das Projektionsbelichtungssystem 1 dient zur Herstellung von mikro- beziehungsweise nanostrukturierten Bauelementen, insbesondere elektronischen Halbleiter-Bauelementen.
Die Einkoppeloptik 16 _i ist im Strahlengang zwischen dem Strahlungsquellenmodul 2, insbesondere der Auskoppeloptik 9, und jeweils einer der Beleuchtungsoptiken 17 _i angeordnet. Sie ist insbesondere als Fokussier-Baugruppe ausgebildet. Sie dient der Überführung jeweils eines der Einzel-Ausgabestrahlen 10 _i in einen Zwischenfokus 26 _i in einer Zwischenfokusebene 27. Der Zwischenfokus 26 _i kann im Bereich einer Durchtrittsöffnung eines Gehäuses des optischen Systems 20 _i oder des Scanners 3 _i angeordnet sein. Das Gehäuse ist insbesondere evakuierbar.
Die Beleuchtungsoptik 17 _i umfasst jeweils einen ersten Facettenspiegel und einen zweiten Facettenspiegel, deren Funktion jeweils derjenigen entspricht, die aus dem Stand der Technik bekannt sind. Beim ersten Facettenspiegel kann es sich insbesondere um einen Feldfacettenspiegel handeln. Beim zweiten Facettenspiegel kann es sich insbesondere um einen Pupillenfacettenspiegel handeln. Der zweite Facettenspiegel kann jedoch auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 17 _i angeordnet sein. Dieser allgemeine Fall wird auch als spekularer Reflektor bezeichnet.
Die Facettenspiegel umfassen jeweils eine Vielzahl von ersten beziehungsweise zweiten Facetten. Beim Betrieb des Projektionsbelichtungssystems 1 ist jeder der ersten Facetten jeweils eine der zweiten Facetten zugeordnet. Die einander zugeordneten Facetten bilden jeweils einen Beleuchtungskanal der Beleuchtungsstrahlung 5 zur Beleuchtung des Objektfeldes 11 _i unter einem bestimmten Beleuchtungswinkel.
Die kanalweise Zuordnung der zweiten Facetten zu den ersten Facetten erfolgt in Abhängigkeit einer gewünschten Beleuchtung, insbesondere eines vorgegebenen Beleuchtungssettings. Die Facetten des ersten Facettenspiegels können verlagerbar, insbesondere verkippbar, insbesondere mit jeweils zwei Kippfreiheitsgraden, ausgebildet sein. Die Facetten des ersten Facettenspiegels sind insbesondere zwischen unterschiedlichen Stellungen schaltbar. Sie sind in unterschiedlichen Schaltstellungen unterschiedlichen der zweiten Facetten zugeordnet. Es kann jeweils auch mindestens eine Schaltstellung der ersten Facetten vorgesehen sein, in welcher die auf sie auftreffende Beleuchtungsstrahlung 5 nicht zur Beleuchtung des Objektfeldes 11 _i beiträgt. Die Facetten des ersten Facettenspiegels können als virtuelle Facetten ausgebildet sein. Hierunter sei verstanden, dass sie durch eine variable Gruppierung einer Mehrzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Mehrzahl von Mikrospiegeln, gebildet werden. Für Details sei auf die WO 2009/100856 A1 verwiesen, die hiermit als Bestandteil der vorliegenden Anmeldung in diese integriert ist.
Die Facetten des zweiten Facettenspiegels können entsprechend als virtuelle Facetten ausgebildet sein. Sie können auch entsprechend verlagerbar, insbesondere verkippbar, ausgebildet sein.
Über den zweiten Facettenspiegel und gegebenenfalls über eine nachfolgende, in den Figuren nicht dargestellte Übertragungsoptik, welche beispielsweise drei EUV-Spiegel umfasst, werden die ersten Facetten in das Objektfeld 11 _i in der Retikel- beziehungsweise Objektebene 21 abgebildet.
Die einzelnen Beleuchtungskanäle führen zur Beleuchtung des Objektfeldes 11 _i mit bestimmten Beleuchtungswinkeln. Die Gesamtheit der Beleuchtungskanäle führt somit zu einer Beleuchtungswinkelverteilung der Beleuchtung des Objektfeldes 11 _i durch die Beleuchtungsoptik 17 _i. Die Beleuchtungswinkelverteilung wird auch als Beleuchtungssetting bezeichnet.
Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 17 _i, insbesondere bei einer geeigneten Lage der Eintrittspupille der Projektionsoptik 14 _i, kann auf die Spiegel der Übertragungsoptik vor dem Objektfeld 11 _i auch verzichtet werden, was zu einer entsprechenden Transmissionserhöhung für das Nutzstrahlungsbündel führt.
Das Retikel 22 _i mit für die Beleuchtungsstrahlung 5 reflektierenden Strukturen ist in der Objektebene 21 im Bereich des Objektfeldes 11 _i angeordnet. Das Retikel 22 _i wird von einem Retikelhalter getragen. Der Retikelhalter ist über eine Verlagerungseinrichtung angesteuert verlagerbar.
Die Projektionsoptik 14 _i bildet jeweils das Objektfeld 11 _i in das Bildfeld 23 _i in der Bildebene 24 ab. In dieser Bildebene 24 ist bei der Projektionsbelichtung der Wafer 25 _i angeordnet. Der Wafer 25 _i weist eine lichtempfindliche Beschichtung auf, die während der Projektionsbelichtung mit dem Projektionsbelichtungssystem 1 belichtet wird. Der Wafer 25 _i wird von einem Waferhalter getragen. Der Waferhalter ist mittels einer Verlagerungseinrichtung gesteuert verlagerbar.
Die Verlagerungseinrichtung des Retikelhalters und die Verlagerungseinrichtung des Waferhalters können in Signalverbindung miteinander stehen. Sie sind insbesondere synchronisiert. Das Retikel 22 _i und der Wafer 25 _i sind insbesondere synchronisiert zueinander verlagerbar.
Auf dem Retikel 22 _i sind Strukturen angebracht. Der Flächenbereich, auf dem die Strukturen angebracht sind, wird im Folgenden als Die bezeichnet. Das Die ist im Regelfall größer als das Objektfeld 11 _i, weswegen zu seiner Abbildung auf den Wafer 25 _i eine synchronisierte Scanbewegung von Retikel 22 _i und Wafer 25 _i notwendig ist. Wird während einen Zeitraums des Scanvorgangs nur ein Teil des Objektfeldes 11 _i vom Die überdeckt, so kann der restliche Bereich des Objektfeldes 11 _i mittels verfahrbarer Retikelmaskierungsblenden abgedeckt werden.
Durch den Scan- und Belichtungsprozess entstehen in der lichtempfindlichen Beschichtung auf dem Wafer 25 _i Strukturen, welche in erster Näherung ein verkleinertes Abbild des Dies darstellen. Ein solches Abbild des Dies auf dem Wafer 25 _i umfasst im Normalfall alle Strukturen eines oder mehrerer mikro- oder nanolithographischer Bauelemente wie z.B. Halbleiterchips. Ein Die kann also insbesondere Strukturen umfassen, die nach Auseinandersägen eines fertig prozessierten Wafers 25 _i zu mehr als einem einzigen Halbleiterchip gehören.
Jedes Retikel 22 _i enthält im Regelfall genau einen Die. Die maximale Größe des Retikels 22 _i ist im Regelfall begrenzt, und damit auch die maximale Größe eines Dies. Ein Die kann jedoch kleiner als diese Maximalgröße sein.
Die verschiedenen Retikel 22 _i, die jeweils einem Scanner 3 _i zugeordnet sind, können identische oder unterschiedliche Dies tragen. Die Retikel 22 _i sind im Allgemeinen automatisiert austauschbar und zwischen verschiedenen Scannern 3 _i austauschbar. Das Projektionsbelichtungssystem 1 besitzt im Regelfall ein System, um ein bestimmtes Retikel 22 _i in einen bestimmten Scanner 3 _k einführen zu können, damit anschließend durch diesen Scanner ein oder mehrere Wafer 25 _k mittels des entsprechenden Dies belichtet werden. Umgekehrt bedeutet dies, dass zur Belichtung eines bestimmten Dies das entsprechende Retikel 25 _i in den Scanner 3 _k eingebracht werden muss.
Im Folgenden wird eine vorteilhafte Ausführungsform des Beleuchtungssystems 19 beschrieben.
Es wurde erkannt, dass als Strahlungsquellen 4 vorteilhafterweise Freie Elektronen Laser (FEL) oder synchrotronbasierte Strahlungsquelle eingesetzt werden können. Ein FEL skaliert sehr gut, das heißt er kann insbesondere dann besonders ökonomisch betrieben werden, wenn er groß genug ausgelegt wird, um eine Mehrzahl von Scannern 3 _i mit Beleuchtungsstrahlung 5 zu versorgen. Der FEL kann insbesondere jeweils bis zu acht, zehn, zwölf oder auch zwanzig Scanner mit Beleuchtungsstrahlung 5 versorgen.
Fällt einer der FEL aus, beispielsweise weil er wegen Wartungsarbeiten abgeschaltet werden muss, so hat dies Konsequenzen für eine entsprechende Mehrzahl von Scannern 3 _i. Ohne geeignete Kompensationsmaßnahmen stehen die im Grundzustand von diesem FEL mit Beleuchtungsstrahlung 5 versorgten Scanner 3 _i dann still. Dies ist aus Effizienzgründen nicht wünschenswert.
Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass dieses Problem dadurch gelöst werden kann, dass das Projektionsbelichtungssystem 1 mindestens zwei FEL als Strahlungsquellen 4 _i umfasst. Im Folgenden werden die Begriffe Strahlungsquelle 4 _i und FEL austauschbar verwendet.
Mittels einer Strahlführungsvorrichtung 28 kann die Beleuchtungsstrahlung von den beiden FEL je nach Bedarf flexibel auf die unterschiedlichen Scanner 3 _i aufgeteilt werden. Hierbei ist insbesondere vorgesehen, dass der erste FEL in einem Grundzustand eine erste Teilmenge der Scanner 3 ₁ bis 3 _N mit Beleuchtungsstrahlung versorgt, während der zweite FEL im Grundzustand eine zweite Teilmenge der Scanner 3 _N+1 bis 3 _2N mit Beleuchtungsstrahlung 5 versorgt. Fällt einer der FEL aus, beispielsweise weil er zu Wartungsarbeiten ausgeschaltet werden muss, kann der andere der FEL sämtliche Scanner 3 _i mit Beleuchtungsstrahlung 5 versorgen. Dies wird im Nachfolgenden noch näher beschrieben. Die Strahlführungsvorrichtung 28 kann ein Bestandteil des Strahlungsquellenmoduls 2 bilden. Sie bildet insbesondere einen Bestandteil des Beleuchtungssystems 19. Die beiden Teilmengen können auch unterschiedliche Anzahlen von Scannern 3 _i umfassen.
Die Kernidee der vorliegenden Erfindung wird im Folgenden anhand eines Projektionsbelichtungssystems 1 mit zwei Strahlungsquellen 4 ₁, 4 ₂ beschrieben. Dies ist nicht einschränkend zu verstehen. Das erfindungsgemäße Prinzip lässt sich problemlos auf den Fall einer größeren Anzahl von Strahlungsquellen 4 _i erweitern. Das Projektionsbelichtungssystem 1 kann insbesondere auch drei, vier, fünf, sechs oder mehr Strahlungsquellen 4 _i, insbesondere in Form von FEL, umfassen.
Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass es bei der Belichtung der Wafer 25 _i Zeitintervalle gibt, während welcher zumindest ein Teil der Scanner 3 _i nicht mit Beleuchtungsstrahlung 5 oder zumindest nicht mit der Maximalintensität der Beleuchtungsstrahlung 5 versorgt zu werden brauchen. Dies ist beispielsweise der Fall, wenn die sogenannten Retikel-Maskierungs-Blenden teilweise, insbesondere vollständig, geschlossen sind. Dies kann insbesondere im Zeitraum zwischen der Belichtung zweier aufeinanderfolgender Dies der Fall sein. Dies kann insbesondere der Fall sein, wenn der Wafer 25 _i verschoben wird, während das zugehörige Retikel 22 _i still steht.
Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass ein gegebener der Scanner 3 _i typischerweise nur zu höchstens 70%, insbesondere nur zu höchstens 60%, insbesondere höchstens etwa 55% der Zeit mit Beleuchtungsstrahlung 5 versorgt zu werden braucht. Erfindungsgemäß wurde weiter erkannt, dass diese Tatsache ausgenutzt werden kann, um in den Zeitintervallen, in denen ein bestimmter der Scanner 3 _i nicht mit Beleuchtungsstrahlung 5 versorgt zu werden braucht, die für diesen Scanner 3 _i bereitgestellte Beleuchtungsstrahlung 5 zu einem anderen der Scanner 3 _i zu führen.
Im Folgenden werden unterschiedliche Ausführungsformen der Strahlführungsvorrichtung 28 sowie des mittels dieser vorgesehenen Verfahren zur Führung der Beleuchtungsstrahlung 5 beschrieben.
Gemäß einem ersten in den 1 und 2 dargestellten Ausführungsbeispiel umfasst die Strahlführungsvorrichtung 28 für jeden der FEL einen ersten Spiegel 29 ₁, 29 ₂ und einen zweiten Spiegel 30 ₁, 30 ₂.
Die Spiegel 29 _i, 30 _i bilden allgemein Strahlführungs-Elemente. Die Spiegel 29 _i, 30 _i sind verlagerbar, insbesondere aktuierbar verlagerbar.
Der erste Spiegel 29 _i weist jeweils eine Reflexionsfläche 33 auf.
In einem in 1 exemplarisch dargestellten Grundzustand sind sämtliche Spiegel 29 _i, 30 _i der Strahlführungsvorrichtung 28 außerhalb des Strahlengangs der Beleuchtungsstrahlung 5 angeordnet. Die Spiegel 29 _i, 30 _i der Strahlführungsvorrichtung 28 sind somit im Grundzustand funktionslos.
Die Spiegel 29 _i, 30 _i sind insbesondere jeweils zwischen zwei Verlagerungspositionen verlagerbar. Hierbei ist die erste Verlagerungsposition derart, dass die Spiegel 29 _i, 30 _i außerhalb des Strahlengangs der Beleuchtungsstrahlung 5 angeordnet sind. Die zweite Verlagerungsposition der Spiegel 29 _i, 30 _i ist gerade derart gewählt beziehungsweise eingestellt, dass der Strahlengang der Beleuchtungsstrahlung 5 bei einer Positionierung der Spiegel 29 ₂, 30 ₂ in deren zweiten Verlagerungsposition von der zweiten Strahlungsquelle 4 ₂ zur ersten Teilmenge der Scanner 3 ₁ bis 3 _N geführt wird (siehe 2). Entsprechend wird die Beleuchtungsstrahlung 5 der Spiegel 29 ₁, 30 ₁ in deren zweiten Verlagerungsposition von der ersten Strahlungsquelle 4 ₁ zur zweiten Teilmenge der Scanner 3 _N+1 bis 3 _2N geführt.
Die Spiegel 29 _i, 30 _i sind insbesondere derart ausgebildet, dass die Beleuchtungsstrahlung 5 von einer der beiden Strahlungsquellen 4 _i bei einer Anordnung der entsprechenden Spiegel 29 _i, 30 _i in deren zweiten Verlagerungsposition unter einem Einfallswinkel zur Auskoppeloptik 9 _j, insbesondere zum Eingang der entsprechenden Scanner 3 _j, geführt wird, welche gerade dem Einfallswinkel der Beleuchtungsstrahlung 5 von der anderen Strahlungsquelle 4 _j im Grundzustand entspricht. Für die Scanner 3 _i ergibt sich somit aus einer Verlagerung der Spiegel 29 _i, 30 _i kein Unterschied im Hinblick auf die Einfallswinkel der Beleuchtungsstrahlung 5.
Allgemein kann mittels der Strahlführungsvorrichtung 28, insbesondere durch Verlagerung der Spiegel 29 _i, 30 _i, eine Führung der Beleuchtungsstrahlung 5 zwischen mindestens zwei Eingängen der Strahlführungsvorrichtung 28 und mindestens zwei Ausgängen derselben gesteuert werden. Hierbei sind die als Strahlungsquellen 4 _i vorgesehenen FEL jeweils einem der Eingänge der Strahlführungsvorrichtung 28 zugeordnet. Die Teilmengen der Scanner 3 _i sind jeweils einem der Ausgänge der Strahlführungsvorrichtung 28 zugeordnet (siehe die schematische Darstellung in den Figuren).
Ohne Beschränkung der Allgemeinheit wird zur Erläuterung der Erfindungsidee im Folgenden exemplarisch davon ausgegangen, dass die Strahlungsquelle 4 ₁ zu Wartungszwecken abgeschaltet werden soll (siehe 2). In diesem Fall ist vorgesehen, den zweiten Spiegel 30 ₂ in seine zweite Verlagerungsposition zu verlagern. Er kann für die gesamte Dauer des Wartungsvorgangs in der zweiten Verlagerungsposition bleiben. Es genügt daher, wenn die zweiten Spiegel 30 _i langsam, quasistatisch verlagerbar sind.
Der erste Spiegel 29 ₂ wird zum Umschalten der Beleuchtungsstrahlung 5 zwischen der ersten Teilmenge der Scanner 3 ₁ bis 3 _N und der zweiten Teilmenge der Scanner 3 _N+1 bis 3 _2N während des Wartungsvorgangs der ersten Strahlungsquelle 4 ₁ zwischen seiner ersten und zweiten Verlagerungsposition hin und her verlagert. In der 2 sind die beiden Strahlengänge der Beleuchtungsstrahlung 5, welche sich aus den unterschiedlichen Verlagerungspositionen des ersten Spiegels 29 ₂ ergeben, exemplarisch mit einer Strichlierung entsprechend der des Spiegels 29 ₂ in den unterschiedlichen Verlagerungspositionen dargestellt.
Der erste Spiegel 29 _i ist vorzugsweise mit einer Frequenz von mindestens 1 Hz, insbesondere mindestens 2 Hz, insbesondere mindestens 3 Hz, insbesondere mindestens 5 Hz, insbesondere mindestens 10 Hz zwischen der ersten und zweiten Verlagerungsposition hin und her verlagerbar.
Die zur Verlagerung der Spiegel 29 _i, 30 _i vorgesehenen Aktuatoren erfüllen die üblichen Voraussetzungen für die Aktuatoren eines Projektionsbelichtungssystems 1, insbesondere eines EUV-Projektionsbelichtungssystems 1. Die Aktuatoren sind vakuumtauglich oder so gekapselt, dass sie vakuumtauglich ist. Sie sind unempfindlich gegen atomaren Wasserstoff, insbesondere auch gegen ionisierten Wasserstoff. Sie enthalten keine Substanzen, die ausgasen können, insbesondere keine Substanzen, die zu einer Verschmutzung der Spiegel des EUV-Projektionsbelichtungssystems führen können, oder sie sind so gekapselt, dass ein Austritt solcher Substanzen verhindert wird. Die Aktuatoren sind vorteilhafterweise abriebsfrei, d.h., bei einer Bewegung der aktuierten Komponenten werden keine Partikel freigesetzt, oder der Aktuator ist so gekapselt, dass der Austritt von Partikeln verhindert wird.
Die Aktuatoren sind wartungsarm, vorzugsweise wartungsfrei.
Zur Steuerung der Verlagerung der Spiegel 29 _i, 30 _i ist eine Steuervorrichtung 35 vorgesehen. Die Steuervorrichtung 35 kann eine Recheneinheit umfassen.
Im Folgenden werden unterschiedliche Optionen der Verlagerung des ersten Spiegels 29 _i anhand der 3 bis 8 beschrieben.
In den 3 bis 8 ist die Bewegungsrichtung des ersten Spiegels 29 _i jeweils schematisch durch einen Doppelpfeil 32 verdeutlicht.
Wie in der 3 schematisch dargestellt ist, kann der erste Spiegel 29 _i aktuierbar verschwenkbar um eine Drehachse 31 gelagert sein.
Alternativ hierzu kann der Spiegel 29 _i, wie in der 4 exemplarisch dargestellt ist, linear, insbesondere in Richtung senkrecht zur Beleuchtungsstrahlung 5, verlagerbar sein.
Als Aktuatoren eignen sich insbesondere Lorentz-Aktuatoren, insbesondere mit einer Spulen-Magnetanordnung. Derartige Aktuatoren können sowohl Rotations- bzw. Verschwenkbewegungen als auch Translationsbewegungen bewirken.
Es können auch pneumatische und/oder hydraulische Aktuatoren eingesetzt werden. Es können prinzipiell auch andere Aktuatortypen, wie z.B. Piezoaktuatoren, Bimetallaktuatoren oder auf Formgedächtnislegierungen beruhende Aktuatoren, verwendet werden.
Lager können als Festkörpergelenke ausgeführt sein. Diese sind vorteilhafterweise reibungsfrei und/oder abriebsfrei ausgebildet. Die Lager können auch als magnetische Lager ausgeführt sein. Diese können insbesondere berührungsfrei sein. Weiterhin können Lager als Wälzlager, insbesondere als Kugellager, ausgeführt sein. Zur Schmierung der Lager können vakuumtaugliche Schmierstoffe vorgesehen sein. Es können auch Gleitlager verwendet werden. Diese sind vorteilhafterweise reibungsfrei oder so gekapselt, dass Abrieb nicht das Lager verlassen kann.
Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass es für die Präzision der Positionierung des Spiegels 29 _i in den Verlagerungspositionen vorteilhaft ist, wenn er entlang einer Tangente an seine Reflexionsfläche verlagert wird. Entsprechende Varianten sind in den 5 und 6 schematisch dargestellt. Bei der Variante gemäß 5 ist die Reflexionsfläche des ersten Spiegels 29 _i gekrümmt ausgebildet. Ihr Krümmungsradius entspricht hierbei insbesondere gerade dem Abstand zur Drehachse 31.
Bei einer gekrümmten Ausführung des ersten Spiegels 29 _i ist vorzugsweise vorgesehen, auch den diesem im Strahlengang der Beleuchtungsstrahlung 5 nachfolgenden zweiten Spiegel 30 _i gekrümmt auszubilden. Der zum ersten Spiegel 29 _i gehörende zweite Spiegel 30 _i ist insbesondere derart ausgebildet, dass eine durch die Krümmung des ersten Spiegels 29 _i verursachte Auffächerung des Beleuchtungsstrahls durch eine geeignete Krümmung des zweiten Spiegels 30 _i wieder ausgeglichen wird.
Bei einer planen Ausbildung der Reflexionsfläche des Spiegels 29 _i entspricht die Verlagerung entlang einer Tangente an die Reflexionsfläche gerade einer linearen Verlagerung in der Reflexionsflächenebene. Diese Alternative ist schematisch in 6 dargestellt.
Bei einer Ausbildung und Verlagerbarkeit des ersten Spiegels 29 _i gemäß einer der 5 oder 6 ist das präzise Erreichen der Verlagerungspositionen in Bezug auf die Verlagerungsrichtung nicht besonders wichtig. Solange die Beleuchtungsstrahlung 5 auf den Spiegel 29 _i auftrifft, wird sie unabhängig von dessen genauen Verlagerungsposition weitergelenkt. Hierdurch wird die Verlagerung des ersten Spiegels 29 _i, insbesondere dessen schnelle Verlagerung, erheblich vereinfacht.
In den 7 und 8 sind zwei weitere Alternativen für die Ausführung des ersten Spiegels 29 _i und dessen Anordnung im Strahlengang der Beleuchtungsstrahlung 5 dargestellt. Bei diesen Alternativen ist der erste Spiegel 29 _i als rotierbar gelagerte Spiegeleinrichtung ausgebildet. In den exemplarischen 7 und 8 weist der erste Spiegel 29 _i jeweils vier Reflexionsflächen 33 auf.
Der Spiegel 29 _i kann auch eine andere Anzahl an Reflexionsflächen 33 aufweisen. Er weist insbesondere mindestens eine, insbesondere mindestens zwei, insbesondere mindestens drei, insbesondere mindestens vier, insbesondere mindestens fünf, insbesondere mindestens sechs Reflexionsflächen 33 auf.
Die Ausbildung der Reflexionsfläche 33 entspricht jeweils der des in der 5 dargestellten Ausführungsbeispiels.
Der erste Spiegel 29 _i ist insbesondere um die Drehachse 31 rotierbar gelagert. Er kann eine konstante Rotationsfrequenz aufweisen. Die Rotationsfrequenz kann steuerbar sein.
Bei einer gleichmäßigen Rotation ist fest vorgegeben, zu welchem Anteil der Rotationsperiode die Beleuchtungsstrahlung 5 auf eine der Reflexionsflächen 33 fällt. Der Spiegel 29 _i ist insbesondere derart ausgebildet, dass die Reflexionsflächen 33 insgesamt gerade die Hälfte des Umfangsbereichs des ersten Spiegels 29 _i ausmachen. Bei einer konstanten Rotation führt dies zu einem Tastverhältnis von 1:1, das heißt die Beleuchtungsstrahlung 5 fällt im Mittel genau so lange auf eine der Reflexionsflächen 33 wie sie auf einen der zwischen zwei Reflexionsflächen 33 vorgesehenen Zwischenbereich 34 fällt.
Alternative Tastverhältnisse sind ebenfalls möglich. Diese liegen insbesondere zwischen 45:55 und 55:45.
Bei der in 8 dargestellten Ausführungsform sind die Zwischenbereiche 34 strahlungsdurchlässig ausgebildet.
Die Rotationsfrequenz ist insbesondere an die Größe der zu belichtenden Dies auf den Wafern 25 _i anpassbar. Ist die Größe der Dies vorgegeben, kann die Rotationsfrequenz, wenn sie einmal geeignet eingestellt ist, konstant gehalten werden. Es ist insbesondere keine Winkelbeschleunigung während des eigentlichen Betriebs, das heißt während der Belichtung der Dies, notwendig. Der Spiegel 29 _i ist vorzugsweise ausgewuchtet. Dies kann beispielsweise durch eine geeignete Formgebung eines Spiegelrahmens, welcher beispielsweise in den 7 und 8 vor und/oder hinter der Zeichenebene angeordnet sein kann, erreicht werden.
Im Grundzustand, das heißt wenn sämtliche der Strahlungsquellen 4 _i Beleuchtungsstrahlung 5 emittieren, ist der erste Spiegel 29 _i insbesondere derart angeordnet, dass er nicht zu einer Ablenkung der Beleuchtungsstrahlung 5 führt. Der erste Spiegel 29 _i kann hierzu zusätzlich zu seiner Rotierbarkeit linear verlagerbar, das heißt verschiebbar, sein. Es ist insbesondere möglich, den Spiegel 29 _i derart zu lagern, dass seine Drehachse 31 linear verlagerbar, das heißt verschiebbar, ist.
Die ersten Spiegel 29 _i können auch bei den nachfolgend beschriebenen Ausführungsbeispielen beliebig gemäß einer der anhand der 3 bis 8 beschriebenen Alternativen ausgebildet sein.
Im Folgenden wird ein Verfahren zum Betrieb des Projektionsbelichtungssystems 1, insbesondere ein Verfahren zur Wartung desselben, beschrieben. Im Grundzustand, welcher auch als normaler Betriebsmodus bezeichnet wird, sind beide Strahlungsquellen 4 _i funktionsfähig.
Der erste FEL versorgt die Scanner 3 ₁ bis 3 _N kontinuierlich mit Beleuchtungsstrahlung 5. Die Pulsstruktur des FEL sei hierbei ignoriert, da sie für die vorliegende Erfindung irrelevant ist. Analog versorgt der zweite FEL die Scanner 3 _N+1 bis 3 _2N mit Beleuchtungsstrahlung 5. Ein zeitlicher Ablauf dieses Betriebsmodus ist beispielhaft für N = 3 in der 9 dargestellt. Jede Zeile entspricht der Versorgung eines der Scanner 3 _i mit Beleuchtungsstrahlung 5. Die Schraffuren verdeutlichen, von welchem der FEL der jeweilige Scanner 3 _i mit Beleuchtungsstrahlung 5 versorgt wird. Ohne Beschränkung der Allgemeinheit ist Beleuchtungsstrahlung 5 vom ersten FEL durch eine vertikale Schraffur gekennzeichnet, während Beleuchtungsstrahlung 5 vom zweiten FEL durch eine horizontale Schraffur gekennzeichnet ist. Mit einer durchgehenden Schraffur sind die Zeiträume gekennzeichnet, in welchen einem bestimmten der Scanner 3 _i Beleuchtungsstrahlung 5 zur Verfügung gestellt und von diesem auch tatsächlich genutzt wird. Unterbrochen schraffiert dargestellt sind Zeiträume, in denen einem bestimmten der Scanner 3 _i Beleuchtungsstrahlung 5 zur Verfügung gestellt wird, diese jedoch von dem entsprechenden Scanner 3 _i gar nicht oder nicht vollständig genutzt wird, beispielsweise weil die Retikel-Maskierungs-Blenden teilweise oder vollständig geschlossen sind.
Diese Zeiträume können für die unterschiedlichen Scanner 3 _i unterschiedlich lang sein. Dies ist beispielsweise darauf zurückzuführen, dass durch den Aufbau des Projektionsbelichtungssystems 1 eine maximale Länge und Breite der Dies vorgegeben ist, jedoch keine minimale Länge und Breite derselben. Ist ein bestimmter Die kleiner als die maximal mögliche Größe, so dauert die Belichtung desselben entsprechend kürzer. Die unterschiedliche Dauer der Zeiträume kann auch darauf zurückzuführen sein, dass für bestimmte Dies der Scanvorgang verlangsamt durchgeführt werden muss, z.B. weil für diesen Anwendungsfall eine höhere Strahlungsdosis auf der lichtempfindlichen Schicht des Wafers 25 _i notwendig ist. Dies kann als eine effektive Verlängerung des Dies angesehen werden, und der Begriff der Länge des Dies ist so zu verstehen.
In der 10 ist exemplarisch der Betrieb des Projektionsbelichtungssystems 1 im Wartungsmodus, das heißt wenn nur einer der FEL, in diesem Fall der erste FEL zur Verfügung steht, dargestellt. In diesem Fall ist vorgesehen, die Beleuchtungsstrahlung 5 vom ersten FEL abwechselnd auf die Scanner 3 ₁ bis 3 _N und auf die Scanner 3 _N+1 bis 3 _2N zu verteilen.
Ohne Schraffur sind die Zeiträume dargestellt, während welcher die entsprechenden Scanner 3 _i nicht mit Beleuchtungsstrahlung 5 versorgt werden.
Die Beleuchtungsstrahlung 5 wird jeweils für die Dauer eines Intervalls I_i zu einer Teilmenge der Scanner 3 _i geführt. Die Intervalle I_i haben sämtliche dieselbe Länge T. Die beiden Teilmengen, insbesondere die beiden disjunkten Teilmengen der Scanner 3 ₁ bis 3 _N und 3 _N+1 bis 3 _2N werden mit anderen Worten alternierend mit Beleuchtungsstrahlung 5 versorgt. Das Tastverhältnis beträgt 1:1.
Das Tastverhältnis kann auch leicht von 1:1 abweichen, allerdings sind dann weiterhin alle geraden Zeitintervalle gleich lang, I₀ = I₂ = I₄ = ..., und alle ungeraden Zeitintervalle gleich lang, I₁ = I₃ = I₅ = .... Dieses kann insbesondere dann vorteilhaft ausgenutzt werden, wenn die verschiedenen, auf Wafer 25 _i abzubildenden Dies nicht beliebig auf die Scanner 3 _i verteilt werden, sondern alle Dies auf den Scannern 3 ₁ bis 3 _N gleich lang oder länger als die Dies auf den Scannern 3 _N+1 bis 3 _2N sind. Analog gilt dieses dafür, dass alle Dies auf den Scannern 3 ₁ bis 3 _N gleich lang oder kürzer als die Dies auf den Scannern 3 _N+1 bis 3 _2N sind. Dies kann z.B. mittels einer zentralen Produktionsplanung- und -steuerung erreicht werden. 17 zeigt eine zu 10 analoge Darstellung einer derartigen Situation, bei der alle Dies auf den Scannern 3 ₁ bis 3 _N gleich lang oder länger als die Dies auf den Scannern 3 _N+1 bis 3 _2N sind.
Erfindungsgemäß wurde gefunden, dass im Fall, dass alle Dies gleich groß sind und die maximal mögliche Die-Größe aufweisen, die zur Belichtung sämtlicher Dies benötigte Zeit im Wartungsmodus lediglich um etwa 10% gegenüber dem normalen Betriebsmodus zunimmt. Die Produktivität nimmt also nur um etwa 10% ab. Der Produktionsverlust, welcher durch den Ausfall eines der FEL verursacht wird, beträgt also lediglich etwa 10%.
Die Strahlführungsvorrichtung 28 kann vorteilhaft mit weiteren Funktionen kombiniert werden. Die 18A bis 18D zeigen eine beispielhafte Kombination mit einer Umlenkfunktion. Diese Umlenkfunktion kann mit der der Umlenkgruppe 15 identisch sein, aber auch andere Umlenkfunktionen erfüllen. In der in der 18A dargestellten Konfiguration sind Spiegel 29 ₁ und 30 ₂ so verlagert, dass sie die Beleuchtungsstrahlung 5 auf Umlenkspiegel 36 lenken. Die Spiegel 29 ₂ und 30 ₁ sind so verlagert, dass sie die Beleuchtungsstrahlung 5 nicht beeinflussen. In der in der 18D dargestellten Konfiguration sind die Spiegel 29 ₂ und 30 ₁ so verlagert, dass die Beleuchtungsstrahlung 5 auf andere zugeordnete Umlenkspiegel 36 gelenkt wird, während die Spiegel 29 ₁ und 30 ₂ so verlagert sind, dass sie die Beleuchtungsstrahlung 5 nicht beeinflussen.
Sowohl mit der Konfiguration gemäß 18A als auch mit der Konfiguration gemäß 18D wird die Beleuchtungsstrahlung 5 ₁, 5 ₂ von beiden Strahlungsquellen 4 ₁, 4 ₂ zu den Scannern 3 _i gelenkt. Der Einfachheit halber sind in den Figuren jeweils nur zwei Beleuchtungsoptiken 17 ₁, 17 ₂ dargestellt. Dies ist nicht einschränkend zu verstehen. Die Beleuchtungsstrahlung 5 kann auch bei diesem Ausführungsbeispiel auf eine Vielzahl von Scannern 3 _i mit einer Vielzahl von optischen Systemen 20 _i aufgeteilt werden. Diesbezüglich sei auf die Beschreibung der Ausführungsform gemäß 1 verwiesen.
In den 18B beziehungsweise 18C sind schematisch Konfigurationen der Strahlführungsvorrichtung 28 dargestellt, welche für den Fall vorgesehen sind, dass eine der Strahlungsquellen 4 ₁ beziehungsweise 4 ₂ ausfällt, was beispielsweise aufgrund von Wartungsarbeiten notwendig sein kann.
Bei der in 18B dargestellten Konfiguration versorgt ausschließlich die Strahlungsquelle 4 ₁ die Scanner 3 _i mit Beleuchtungsstrahlung 5. Der Spiegel 30 ₁ wird in diesem Fall in den Strahlengang der Beleuchtungsstrahlung 5, welche von der ersten Strahlungsquelle 4 ₁ emittiert wird, verlagert. Er kann in dieser Position belassen werden. Zur Umstellung, welche der Scanner 3 _i mit Beleuchtungsstrahlung 5 versorgt werden, kann, wie vorhergehend beschrieben, der Spiegel 29 ₁ zwischen zwei Verlagerungspositionen verlagert werden. Für Details sei wiederum auf die vorhergehende Beschreibung verwiesen.
Entsprechend werden bei der in der 18C dargestellten Konfiguration die Spiegel 29 ₁ und 30 ₁ außerhalb des Strahlengangs der Beleuchtungsstrahlung 5 angeordnet. Der Spiegel 30 ₂ kann ortsfest im Strahlengang der Beleuchtungsstrahlung 5 angeordnet werden. Der Spiegel 29 ₂ ist zur Führung der Beleuchtungsstrahlung 5 zu unterschiedlichen Teilmengen der Scanner 3 _i zwischen zwei Verlagerungspositionen verlagerbar.
Bei dieser Alternative kann der Spiegel 30 ₂ ortsfest angeordnet sein. Er kann insbesondere einen Referenzpunkt für die Anordnung der Strahlführungsvorrichtung 28 bilden.
Bei der Variante gemäß den 18A bis 18D ist die Anzahl der Reflexionen der Beleuchtungsstrahlung 5 im Strahlengang zwischen der Strahlformungsoptik 7 _i und der Beleuchtungsoptik 17 _i unabhängig von der Konfiguration der Strahlführungsvorrichtung 28. Dies kann vorteilhaft sein. Hierdurch kann insbesondere die auf das Retikel 22 _i auftreffende Dosis der Beleuchtungsstrahlung 5 unabhängig von der Konfiguration der Strahlführungsvorrichtung 28 konstant gehalten werden. Weiterhin kann die Anzahl der Reflexionen der Beleuchtungsstrahlung 5 im Strahlengang zwischen der Strahlformungsoptik 7 _i und der Beleuchtungsoptik 17 _i identisch mit der Anzahl der Reflexion, die für eine reine Umlenkung durch Umlenkspiegel 36 notwendig wäre, sein. Für die Funktionalität der Verlagerung des Strahlpfades ist dann keine zusätzliche Reflexion notwendig.
Bei dieser Alternative können die Spiegel 29 _i, 30 _i Bestandteile der Umlenkoptik 15 _i bilden. Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass der Produktionsverlust, welcher durch den Ausfall eines der FEL verursacht wird, unter Umständen weiter reduziert werden kann. Hierfür ist vorgesehen, die Scanner 3 _i jeweils paarweise einander zuzuordnen. Es ist insbesondere vorgesehen, jeweils einen der Scanner 3 ₁ bis 3 _N und einen der Scanner 3 _N+1 bis 3 _2N einander zuzuordnen. Beispielsweise können jeweils die Scanner 3 _k und 3 _2N+1-k (k = 1...N) einander zugeordnet werden. Dies ist exemplarisch in der 11 dargestellt.
Gemäß der in 11 dargestellten Alternative ist für jedes Paar der einander zugeordneten Scanner 3 _k, 3 _2N+1-k eine Strahlführungsvorrichtung 28 mit ersten und zweiten Spiegeln 29 _i, 30 _i vorgesehen. Die Beleuchtungsstrahlung 5 kann somit gezielt jeweils zwischen den Scannern 3 _k und 3 _2N+1-k umverteilt werden. Dies führt zu einer größeren Flexibilität. Sofern unterschiedlich große Dies auf den Wafern 25 _i belichtet werden sollen, ist erfindungsgemäß vorgesehen, Dies ähnlicher Größe jeweils auf den einander zugeordneten Scannern 3 _k, 3 _2N+1-k eines Paares zu belichten. Dies ist insbesondere durch eine zentrale Produktionsplanung und -steuerung aller Scanner 3 _i des Projektionsbelichtungssystems 1 erreichbar. Im Gegensatz zum vorhergehend beschriebenen Ausführungsbeispiel genügt es somit, wenn sich Paare von Dies mit ungefähr gleicher Größe finden lassen. Diese können dann jeweils auf den beiden Scannern 3 _k, 3 _2N+1-k, die miteinander gekoppelt sind, hergestellt werden. Es ist nicht mehr notwendig, dass sämtliche Dies ungefähr gleich groß sind, um einen effizienten Betriebsmodus zu erhalten. Ein entsprechender Betriebsmodus ist exemplarisch in der 12 dargestellt. In diesem Fall ließ sich der Produktionsverlust trotz unterschiedlicher Größe der einzelnen Dies auf null reduzieren. Dies ist darauf zurückzuführen, dass sich jeweils Paare gleichgroßer Dies finden ließen.
13 stellt dieselbe Situation dar wie 12, wobei die Reihenfolge der Scanner entsprechend der exemplarisch in der 11 dargestellten Ausführungsform umsortiert dargestellt ist. Bei diesem exemplarisch dargestellten Ausführungsbeispiel sind die Intervalle I_i zum Hin- und Herschalten der Beleuchtungsstrahlung 5 zwischen jeweils zwei der Scanner 3 _k und 3 _2N+1-k gleich lang. Die Intervalle I_i eines bestimmten Paares der Scanner 3 _k, 3 _2N+1-k sind jedoch unabhängig von denen eines anderen Paares.
Sofern sich jeweils paarweise Dies ähnlicher Größen, vorzugsweise identischer Größen, finden lassen, lässt sich durch diese paarweise Gruppierung die Effizienz verbessern, insbesondere maximieren.
Es kann insbesondere vorgesehen sein, für den Wartungszeitraum eines der Scanner zu belichtende Dies derart auszuwählen, dass sich jeweils Paare von Dies finden lassen, deren Größe sich höchstens um einen vorgegebenen Maximalwert unterscheidet. Der maximale Größenunterschied der beiden Dies eines Paares kann insbesondere höchstens 25%, insbesondere höchstens 10%, insbesondere höchstens 5%, insbesondere höchstens 3%, insbesondere höchstens 1% betragen. In diesem Fall ist es möglich, den Produktionsverlust besonders weitgehend, insbesondere vollständig, zu vermeiden.
Ein weiteres Beispiel ist exemplarisch in der 14 dargestellt. Bei diesem Ausführungsbeispiel weisen Paare von Dies sehr unterschiedliche Größen auf. Beispielsweise sind die Dies, welche auf den Scannern 3 ₂ und 3 ₅ belichtet werden, nur ungefähr halb so groß wie die Dies, die auf den Scannern 3 ₁ und 3 ₆ belichtet werden. Die Periode T für das Umschalten der Beleuchtungsstrahlung 5 ist somit beim Paar der Scanner 3 ₂, 3 ₅ lediglich etwa halb so lang wie beim Paar der Scanner 3 ₁, 3 ₆.
Exemplarisch ist in der 15 dieselbe Situation wie in 14 dargestellt, jedoch für den Fall, dass die Scanner 3 _i nicht in Abhängigkeit von der Größe der Dies paarweise gruppiert sind. Wie man der 15 entnehmen kann, kommt es in diesem Fall zu Totzeiten 35, bei einer der Scanner 3 _i bereits mit Belichten fertig ist, bevor der jeweils zugeordnete andere Scanner 3 _j wieder Beleuchtungsstrahlung 5 benötigt.
Gemäß einer weiteren Alternative der Erfindung kann die Flexibilität der Strahlführung von den FEL zu den unterschiedlichen Scannern 3 _i weiter vergrößert werden. Es ist grundsätzlich möglich, für N Scanner 3 _i bis zu N(N – 1) Strahlführungsvorrichtungen 21 vorzusehen. In diesem Fall ist es möglich, die Beleuchtungsstrahlung 5 beliebig paarweise zwischen den Scannern 3 _i umzuverteilen. Mit anderen Worten, kann jeder Scanner 3 _i des einen FEL mit jedem Scanner 3 _j des anderen FEL verbunden werden. Aus Übersichtlichkeitsgründen ist diese Option nicht in einer Figur dargestellt. Eine äquivalente Alternative ist in 19 dargestellt. Jede der beiden Strahlformungsoptiken 7 _i erzeugt an Stelle eines Sammelausgabestrahls 8 mit Beleuchtungslicht 5 eine diskrete Anzahl von Einzelausgabestrahlen 10 _i. Spiegel 29 _i,k lenken in einer ersten Verlagerungsposition den Strahl zum Scanner 3 _k. Diese Verlagerungsposition ist in der Figur durchgezogen dargestellt. In einer zweiten Verlagerungsposition beeinflusst der Spiegel 29 _i,k den Strahl 10 _i nicht. Ein Spiegel in einer solchen zweiten Verlagerungsposition ist in der Figur gestrichelt gezeichnet. Benötigt ein Scanner 3 _k, der bisher vom Strahl 10 _i mit Beleuchtungslicht 5 versorgt wurde, kein Beleuchtungslicht 5 mehr, so kann der Strahl 10 _i nun zur Beleuchtung des Scanners 3 _k‘, der vorher kein Beleuchtungslicht erhielt, verwendet werden. Für diese Umschaltung müssen nur die Spiegel 29 _i,k und 29 _i,k‘ verlagert werden, während alle anderen Spiegel 29 unverändert bleiben können. Von den beiden Spiegeln 29 _i,k und 29 _i,k‘ muss nur einer schnell bewegt werden, und zwar der im Strahlengang vordere.
Bei dieser sämtlichen Alternativen lässt sich die Effizienz des Projektionsbelichtungssystems 1 bei Ausfall eines der FEL maximieren. Der Produktionsverlust lässt sich bestmöglich verringern, das heißt insbesondere minimieren. Zur Aufteilung der Beleuchtungsstrahlung 5 auf die einzelnen Scanner 3 _i, insbesondere zur Steuerung der Verlagerung der Spiegel 29 _i der Strahlführungsvorrichtung 28, ist in diesem Fall insbesondere eine Steuervorrichtung 35 vorgesehen.
Mittels der Steuereinrichtung 35 ist insbesondere die Verteilung der Beleuchtungsstrahlung 5 auf die unterschiedlichen Scanner 3 _i optimierbar.
Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 16 eine weitere Alternative beschrieben. Bei der Ausführungsform gemäß 16 bilden die ersten Spiegel 29 _i Auskoppelspiegel zum Auskoppeln eines Einzelausgabestrahls 10 _i aus dem Sammel-Ausgabestrahl 8. Auf eine separate Auskoppeloptik 9 kann in diesem Fall verzichtet werden. Es ist jedoch auch möglich, zusätzlich zu den ersten Spiegeln 29 _i eine Auskoppeloptik 9 mit weiteren Bestandteilen vorzusehen.
Bei diesem Ausführungsbeispiel sind jedem der Scanner 3 _i jeweils zwei Auskoppelspiegel 29 _i zugeordnet. Mit Hilfe der Auskoppelspiegel 29 _i ist es möglich, Beleuchtungsstrahlung 5 von jedem der beiden FEL 4 ₁, 4 ₂ zu einem bestimmten der Scanner 3 _i zu führen.
Bei diesem Ausführungsbeispiel sind für N Scanner 3 _i lediglich 2N Aktuatoren notwendig. Allerdings weisen die Spiegel 29 _i in diesem Fall mehr als zwei Verlagerungspositionen auf. Die Anzahl der Verlagerungspositionen der Spiegel 29 _i entspricht insbesondere der Anzahl der Scanner 3 _i. Vorteilhafterweise sind die Spiegel 29 _i bei diesem Ausführungsbeispiel kontinuierlich verlagerbar.
Außerdem ist die Steuervorrichtung 35 bei diesem Ausführungsbeispiel komplexer. Dies ist darauf zurückzuführen, dass bei einem Umschalten der Beleuchtungsstrahlung 5 zwischen zwei bestimmten Scannern 3 _i, 3 _j unter Umständen auch Spiegel 29 _k, welche nicht unmittelbar einem dieser beiden Scanner 3 _i, 3 _j zugeordnet sind, verlagert werden müssen.
Im Folgenden werden weitere Aspekte der unterschiedlichen Ausführungsformen stichwortartig beschrieben.
Um die verschiedenen Optionen für den Wartungsmodus bewerten zu können, muss berücksichtigt werden, dass das Projektionsbelichtungssystem 1 zentral gesteuert wird. Sofern absehbar ist, dass einer der FEL, beispielsweise zu Wartungszwecken, heruntergefahren werden muss, das heißt ausgeschaltet werden muss, kann bei der Ausführungsform gemäß 1 versucht werden, den Produktionsprozess so umzusortieren, dass im Wartungszeitraum immer möglichst gleich große Dies auf sämtlichen der Scanner 3 _i belichtet werden. Da das Wechseln der Retikel 22 _i eine nicht-triviale Aktion ist und da möglicherweise gar nicht entsprechend viele Wafer 25 _i mit gleich großen Dies gebraucht werden, kann dieses Ziel gegebenenfalls nur eingeschränkt erreicht werden. In diesem Fall kommt es bei dem Ausführungsbeispiel gemäß 1 zu einem unvermeidbaren Produktionsverlust. Dieser Produktionsverlust ist jedoch geringer als der welcher ohne die Strahlführungsvorrichtung 28 bei Ausfall eines der FEL auftreten würde.
Je größer die Flexibilität der Umverteilung der Beleuchtungsstrahlung 5 zwischen den unterschiedlichen FEL und den Scannern 3 _i ist, desto mehr lässt sich der Produktionsverlust bei Ausfall eines der FEL verringern. Insbesondere lässt sich bei dem nicht in einer Figur dargestellten Ausführungsbeispiel mit N(N – 1) Strahlführungsvorrichtungen 28 beziehungsweise beim Ausführungsbeispiel gemäß 16 auch ohne eine zentrale Produktionsplanung stets mit maximaler Effizienz arbeiten, das heißt der Produktionsverlust, welcher durch Ausfall eines der FEL verursacht wird, minimieren.
Beim Ausführungsbeispiel gemäß 11 lässt sich die maximale Effizienz zwar nicht immer erreichen, jedoch lässt sich der Produktionsverlust, welcher durch Ausfall eines der FEL verursacht wird, in der Regel erheblich reduzieren. Insbesondere sofern die Größenunterschiede der unterschiedlichen Dies nicht zu groß sind und/oder dann, wenn sich wenigstens Paare aus ähnlich großen Dies finden lassen, lässt sich mit der Ausführungsform gemäß 11 die maximale oder zumindest fast die maximale Effizienz des Projektionsbelichtungssystems 1 erreichen. Diese Ausführungsform hat außerdem den Vorteil eines wesentlich weniger komplexen mechanischen Aufbaus.
Bei der Ausführungsform gemäß 11 lässt sich insbesondere durch eine zentrale Produktionsplanung die Effizienz des Projektionsbelichtungssystems 1 steigern. Zur Steigerung der Effizienz, insbesondere zur Verringerung des Produktionsverlustes während eines Wartungszeitraums, ist erfindungsgemäß insbesondere vorgesehen, die Menge der im Wartungszeitraum zu belichtenden Dies gezielt auszuwählen. Es kann insbesondere vorgesehen sein, für den Wartungszeitraum eine Menge von Dies ähnlicher Größe auszuwählen, so dass die auf den unterschiedlichen Scannern zu belichtenden Dies Größen aufweisen, welche sich höchstens um einen vorgegebenen Maximalwert in ihren Größen unterscheiden. Der maximale Größenunterschied zwischen dem größten und dem kleinsten zu belichtenden Die beträgt insbesondere höchstens 25%, insbesondere höchstens 20%, insbesondere höchstens 15%, insbesondere höchstens 10%, insbesondere höchstens 5%, insbesondere höchstens 3%, insbesondere höchstens 2%, insbesondere höchstens 1%. Vorzugsweise weisen sämtliche zu belichtenden Dies dieselbe Größe auf.
Im Falle einer Ausführung gemäß der 11 genügt es, wenn sich jeweils Paare gleichgroßer oder zumindest ähnlich großer Dies finden lassen. In diesem Fall genügt es insbesondere, wenn sich für den Wartungszeitraum zu belichtende Dies finden lassen, so dass sich die beiden Dies jeweils höchstens nur um den vorhergehend genannten Maximalwert in ihrer Größe unterscheiden.
Im Folgenden werden weitere Aspekte der Erfindung beschrieben.
Beim Umschalten zwischen dem Normalbetrieb (Grundzustand) und dem Wartungsbetrieb wird sich die Ausleuchtung an den Eingängen der Scanner 3 _i in aller Regel etwas verändern. Dementsprechend müssen einige Komponenten des Beleuchtungssystems 19, beispielsweise Uniformitätskorrekturblenden, nachkalibriert werden. Ein Die wird typischerweise nicht zur Belichtung eines einzelnen Wafers 25 _i verwendet, sondern zu Belichtung einer Mehrzahl von Wafern, welche als Lot bezeichnet werden. Ein Lot umfasst üblicherweise etwa 25 Wafern 25 _i. Für die Belichtung eines derartigen Lots sind üblicherweise bis zu 10 Minuten vorgesehen. Zwischen Lots findet sowie eine Kalibration einiger Komponenten des Beleuchtungssystems 19 _i statt. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, nicht während der Belichtung eines Lots, sondern zwischen der Belichtung aufeinanderfolgender Lots, zwischen Normalbetrieb und Wartungsbetrieb umzuschalten. Hierdurch wird ein zusätzlicher Kalibrationsaufwand vermieden.
Weiter wurde erkannt, dass die erfindungsgemäße Vorrichtung und das erfindungsgemäße Verfahren zur Versorgung mindestens zweier Gruppen von Scannern 3 _i mittels eines einzigen FEL auch für den allgemeinen Betrieb eines Projektionsbelichtungssystems 1 vorteilhaft sein kann. Mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung 28 ist es insbesondere möglich, Beleuchtungsstrahlung 5 von einem einzigen FEL 4 auf zwei oder mehr Gruppen von Scannern 3 _i zu verteilen, ohne dass dies zu einer erheblichen Reduzierung des Durchsatzes führen würde. Die Vorrichtung 28 ermöglicht insbesondere eine sequentielle, intervallweise Versorgung zweier oder mehrerer Gruppen von Scannern 3 _i mit Beleuchtungsstrahlung 5 von einem einzigen FEL 4.
In diesem Fall ist es ausreichend, wenn die Vorrichtung 28 einen einzigen Eingang für Beleuchtungsstrahlung 5 aufweist.
Selbstverständlich können sämtliche der vorhergehend beschriebenen Ausführungsbeispiele auch mit lediglich einem einzigen FEL verwendet werden, wie dies im vorhergehend beschriebenen Wartungszustand ohnehin der Fall ist.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

DE 102013211830 A1 [0003]
US 2007/0152171 A1 [0074]
DE 10358225 B3 [0074]
EP 1072957 A2 [0079]
US 6198793 B1 [0079]
DE 102013223935 [0083, 0094]
WO 2009/100856 A1 [0106]

Claims

Vorrichtung (28) zur Führung eines Strahlengangs von Beleuchtungsstrahlung (5) in einem Beleuchtungssystem (19) für ein Projektionsbelichtungssystem (1) mit mindestens einer Strahlungsquelle (4 _i) und einer Mehrzahl von Scannern (3 _i) umfassend 1.1. mindestens einen Eingang für Beleuchtungsstrahlung (5), 1.2. mindestens zwei Ausgänge für Beleuchtungsstrahlung (5) und 1.3. mindestens ein Strahlführungs-Element (29 _i, 30 _i), welches jeweils zwischen mindestens zwei Verlagerungspositionen verlagerbar ist, 1.4. wobei die Beleuchtungsstrahlung (5) vom mindestens einen Eingang in Abhängigkeit von der Verlagerungsposition des ersten Strahlführungs-Elements (29 _i) zu unterschiedlichen der mindestens zwei Ausgänge lenkbar ist.
Vorrichtung (28) gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie mindestens zwei Eingänge für Beleuchtungsstrahlung (5) und mindestens zwei Strahlführungs-Elemente (29 _i, 30 _i), welche jeweils zwischen mindestens zwei Verlagerungspositionen verlagerbar sind, aufweist, wobei die Beleuchtungsstrahlung (5) vom zweiten Eingang in Abhängigkeit von der Verlagerungsposition des zweiten Strahlführungs-Elements (29 _i) zu unterschiedlichen der mindestens zwei Ausgänge lenkbar ist.
Vorrichtung (28) gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Strahlführungs-Elemente (29 _i, 30 _i) in einer ersten Verlagerungsposition jeweils außerhalb des Strahlengangs der Beleuchtungsstrahlung (5) angeordnet sind.
Vorrichtung (28) gemäß einem der Ansprüche 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass bei einer Anordnung sämtlicher der Strahlführungs-Elemente (29 _i, 30 _i) in ihrer ersten Verlagerungsposition sämtliche Ausgänge gleichzeitig mit Beleuchtungsstrahlung (5) beaufschlagbar sind.
Vorrichtung (28) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Strahlführungs-Elemente (29 _i, 30 _i) mit einer Frequenz von mindestens 1 Hz zwischen ihren Verlagerungspositionen verlagerbar sind.
Vorrichtung (28) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Strahlführungs-Elemente (29 _i) jeweils mindestens eine rotierbar gelagerte Spiegeleinrichtung umfassen.
Beleuchtungssystem (19) für ein Projektionsbelichtungssystem (1) mit einer Mehrzahl von Scannern (3 _i) umfassend 6.1. mindestens eine Strahlungsquelle (4 _i) und 6.2. mindestens eine Vorrichtung (18) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6.
Beleuchtungssystem (19) gemäß Anspruch 7 für zwei Gruppen von N Scannern (3 _i bis 3 _N, 3 _N+1 bis 3 _2N), dadurch gekennzeichnet, dass jedem Scanner (3 _i...3 _N) der einen Gruppe ein bestimmter Scanner (3 _2N+1...3 _2N) der anderen Gruppe zugeordnet ist, wobei für jeweils zwei einander zugeordnete Scanner (3 _k, 3 _2N+1-k; k = 1...N) unterschiedlicher Gruppen eine Vorrichtung (28) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5 vorgesehen ist.
Beleuchtungssystem (19) gemäß einem der Ansprüche 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung (28) jeweils im Strahlengang der Beleuchtungsstrahlung (5) hinter einer Auskoppeloptik (9) angeordnet ist.
Beleuchtungssystem (19) gemäß Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung (28) im Strahlengang der Beleuchtungsstrahlung (5) vor einer Auskoppeloptik (9) angeordnet ist.
Beleuchtungssystem (19) gemäß Anspruch 7 oder 10 mit zwei Strahlungsquellen (4 _i), dadurch gekennzeichnet, dass jeder der beiden Strahlungsquellen (4 _i) jeweils eine Gruppe von Scannern (3 _i) und eine Vorrichtung (28) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6 zugeordnet ist, wobei die Zuordnung der Scanner (3 _i) einer Gruppe zu einer der beiden Strahlungsquellen (4 _i) mithilfe der Vorrichtung (28) gewechselt werden kann.
Projektionsbelichtungssystem (1) für die Mikrolithographie umfassend 12.1. ein Beleuchtungssystem (19) gemäß einem der Ansprüche 7 bis 11 und 12.2. eine Projektionsoptik (14) zur Projektion eines in einem Objektfeld (11 _i) angeordneten Retikels (22 _i) auf einen in einem Bildfeld (23 _i) angeordneten Wafer (25 _i).
Verfahren zum Betrieb eines Projektionsbelichtungssystems (1) gemäß Anspruch 12 umfassend die folgenden Schritte: 13.1. Bestimmen eines Zeitraums für eine Belichtung von Dies, 13.2. Bestimmen einer Menge von in dem bestimmten Zeitraum zu belichtenden Dies, 13.3. Bestimmen einer Zuordnung der unterschiedlichen zu belichtenden Dies zu den unterschiedlichen Scannern (3 _i) unter Berücksichtigung gegebenenfallsunterschiedlicher Größen der Dies, 13.5. Versorgen sämtlicher Scanner (3 _i) des Projektionsbelichtungssystems (1) mit Beleuchtungsstrahlung (5) von einer einzigen Strahlungsquelle in Form eines FEL (4 _i), 13.6. wobei die Beleuchtungsstrahlung (5) vom diesem FEL (4 _i) mittels der mindestens einen Vorrichtung (28) intervallweise zu unterschiedlichen der Scanner (3 _i) umgelenkt wird.
Verfahren gemäß Anspruch 13, gekennzeichnet durch folgende Schritte: 14.1. Bestimmen von Paaren von Dies, welche sich höchstens um einen vorgegebenen Maximalwert in ihren Größen unterscheiden, 14.2. paarweises einander Zuordnen der Scanner (3 _i) zur Belichtung von Wafern (25 _i) mit Dies der vorhergehend bestimmten Paare, 14.3. abwechselndes Belichten der Dies der vorhergehend bestimmten Paare, 14.4. wobei zum abwechselnden Belichten dieser Dies jeweils eine der Strahlführungs-Elemente (29 _i) zwischen den beiden Verlagerungs-Positionen hin und her verlagert wird.
Verfahren gemäß Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass zum Bestimmen der Menge der im bestimmten Zeitraum zu belichtenden N Dies, aus der Gesamtheit der Dies N ausgewählt werden, derart dass ein Größenunterschied zwischen dem größten dieser Dies und dem kleinsten dieser Dies kleiner ist als ein maximaler Größenunterschied sämtlicher Dies.
Verfahren zur Wartung eines Projektionsbelichtungssystems (1) umfassend sämtliche Schritte gemäß einem der Ansprüche 13 bis 15, dadurch gekennzeichnet, 16.1. dass das Projektionsbelichtungssystem (1) mindestens zwei Strahlungsquellen in Form von FEL (4 _i) aufweist, 16.2. dass es sich beim bestimmten Zeitraum um einen Wartungszeitraum für einen der FEL (4 _i) handelt, und 16.4. dass einer der FEL (4 _i) während des Wartungszeitraums zur Wartung ausgeschaltet wird, wobei sämtliche Scanner (3 _i) des Projektionsbelichtungssystems (1) mit Beleuchtungsstrahlung (5) vom anderen der FEL (4 _i) versorgt werden, und wobei die Beleuchtungsstrahlung (5) vom anderen der FEL (4 _i) mittels der mindestens einen Vorrichtung (28) intervallweise zu unterschiedlichen der Scanner (3 _i) umgelenkt wird.
Verfahren zur Herstellung eines mikro- oder nanostrukturierten Bauelements umfassend die folgenden Schritte: 17.1. Bereitstellen eines Projektionsbelichtungssystems (1) gemäß Anspruch 12, 17.2. Bereitstellen mindestens eines Retikels (22 _i), 17.3. Bereitstellen mindestens eines Wafers (25 _i) mit einer für die Beleuchtungsstrahlung (5) empfindlichen Beschichtung, 17.4. Projizieren mindestens eines Abschnitts des mindestens einen Retikels (22 _i) auf den mindestens einen Wafer (25 _i) mit Hilfe des Projektionsbelichtungssystems (1), 17.5. Entwickeln der mit der Beleuchtungsstrahlung (5) belichteten lichtempfindlichen Schicht auf dem Wafer (25 _i).