JPH07312342A - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
- Publication number
- JPH07312342A JPH07312342A JP7022539A JP2253995A JPH07312342A JP H07312342 A JPH07312342 A JP H07312342A JP 7022539 A JP7022539 A JP 7022539A JP 2253995 A JP2253995 A JP 2253995A JP H07312342 A JPH07312342 A JP H07312342A
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- JP
- Japan
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- laser light
- processing devices
- light source
- light sources
- laser
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 複数台の加工装置を稼働中に、そのうちの何
台かのレーザ光源が停止しても複数台の加工装置全体の
動作（製造ラインの運転）に支障をきたさないようにす
る。 【構成】 稼働すべき複数台の加工装置（露光装置４１
〜４４）に対して、その台数よりも多い数のレーザ光源
（１１〜１５）を用意し、その複数台の加工装置と複数
台のレーザ光源との間に複数の可動ミラー等からなる光
分配器（２０）を設け、その光分配器によって、複数の
レーザ光源のうち加工装置の数に相当したレーザ光源の
各々からのレーザ光を個別に各加工装置に供給するとと
もに、残りのレーザ光源（予備の光源１５）からのレー
ザ光を複数台の加工装置のうちの任意の装置に選択的に
供給する。
台かのレーザ光源が停止しても複数台の加工装置全体の
動作（製造ラインの運転）に支障をきたさないようにす
る。 【構成】 稼働すべき複数台の加工装置（露光装置４１
〜４４）に対して、その台数よりも多い数のレーザ光源
（１１〜１５）を用意し、その複数台の加工装置と複数
台のレーザ光源との間に複数の可動ミラー等からなる光
分配器（２０）を設け、その光分配器によって、複数の
レーザ光源のうち加工装置の数に相当したレーザ光源の
各々からのレーザ光を個別に各加工装置に供給するとと
もに、残りのレーザ光源（予備の光源１５）からのレー
ザ光を複数台の加工装置のうちの任意の装置に選択的に
供給する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光の供給を受け
て稼働する複数の加工装置を含む半導体ＩＣ製造用の装
置に関し、特に半導体ＩＣ製造用の複数の露光装置によ
り製造ラインが構成される半導体製造装置に関する。
て稼働する複数の加工装置を含む半導体ＩＣ製造用の装
置に関し、特に半導体ＩＣ製造用の複数の露光装置によ
り製造ラインが構成される半導体製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の装置は、特定の加工用
（露光用）レーザ光源からのレーザ光を特定の加工装置
（露光装置）本体に対して送光照明する構成、または１
台のレーザ光源を用いて複数台の露光装置に露光照明用
のレーザ光を選択的に供給する構成等が知られている。
この露光用のレーザ光として紫外域に強い発振スペクト
ルを有するエキシマレーザが注目されている。そのエキ
シマレーザはパルス発光するもので、レーザ媒質（気
体）の劣化により発光パルス数には寿命があり、レーザ
媒質の交換を行う必要があり、またレーザ放電チャンバ
ーの窓がハロゲン化物等によって汚れるため、窓の交換
を定期的に行う必要がある。
（露光用）レーザ光源からのレーザ光を特定の加工装置
（露光装置）本体に対して送光照明する構成、または１
台のレーザ光源を用いて複数台の露光装置に露光照明用
のレーザ光を選択的に供給する構成等が知られている。
この露光用のレーザ光として紫外域に強い発振スペクト
ルを有するエキシマレーザが注目されている。そのエキ
シマレーザはパルス発光するもので、レーザ媒質（気
体）の劣化により発光パルス数には寿命があり、レーザ
媒質の交換を行う必要があり、またレーザ放電チャンバ
ーの窓がハロゲン化物等によって汚れるため、窓の交換
を定期的に行う必要がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
に於いては、露光用光源としてのレーザ光源が露光装置
本体に対して１台しかないために、レーザ光源が故障あ
るいは保守のために停止した場合、露光装置全体の動作
が停止してしまうという問題点があった。本発明はこの
様な従来の問題点に鑑みてなされたもので、複数台の加
工装置を稼働中に、そのうちの何台かのレーザ光源が停
止しても複数台の加工装置全体の動作（製造ラインの運
転）に支障をきたさないようにすることを課題とする。
に於いては、露光用光源としてのレーザ光源が露光装置
本体に対して１台しかないために、レーザ光源が故障あ
るいは保守のために停止した場合、露光装置全体の動作
が停止してしまうという問題点があった。本発明はこの
様な従来の問題点に鑑みてなされたもので、複数台の加
工装置を稼働中に、そのうちの何台かのレーザ光源が停
止しても複数台の加工装置全体の動作（製造ラインの運
転）に支障をきたさないようにすることを課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】そこで本発明において
は、稼働すべき複数台の加工装置（露光装置４１〜４
４）に対して、その台数よりも多い数のレーザ光源（１
１〜１５）を用意し、その複数台の加工装置と複数台の
レーザ光源との間に複数の可動ミラー等からなる光分配
手段（２０）を設け、その光分配手段によって、複数の
レーザ光源のうち加工装置の数に相当したレーザ光源の
各々からのレーザ光を個別に各加工装置に供給するとと
もに、残りのレーザ光源（予備の光源１５）からのレー
ザ光を複数の加工装置のうちの任意の装置に選択的に供
給するように構成した。
は、稼働すべき複数台の加工装置（露光装置４１〜４
４）に対して、その台数よりも多い数のレーザ光源（１
１〜１５）を用意し、その複数台の加工装置と複数台の
レーザ光源との間に複数の可動ミラー等からなる光分配
手段（２０）を設け、その光分配手段によって、複数の
レーザ光源のうち加工装置の数に相当したレーザ光源の
各々からのレーザ光を個別に各加工装置に供給するとと
もに、残りのレーザ光源（予備の光源１５）からのレー
ザ光を複数の加工装置のうちの任意の装置に選択的に供
給するように構成した。
【０００５】
【作用】本発明では、ある加工装置にレーザ光を供給し
ているレーザ光源が、故障や保守のために停止させる必
要があるとき、複数のレーザ光源のうち予備として用意
されている１台以上のレーザ光源を、停止させるべきレ
ーザ光源と入れ替えることができる。これによって、停
止させるべきレーザ光源は予備のレーザ光源と交換され
た後、自由に保守、点検が可能になり、加工装置のダウ
ンタイムを最小にすることで製造ラインの稼働に支障を
きたさないようにすることができる。
ているレーザ光源が、故障や保守のために停止させる必
要があるとき、複数のレーザ光源のうち予備として用意
されている１台以上のレーザ光源を、停止させるべきレ
ーザ光源と入れ替えることができる。これによって、停
止させるべきレーザ光源は予備のレーザ光源と交換され
た後、自由に保守、点検が可能になり、加工装置のダウ
ンタイムを最小にすることで製造ラインの稼働に支障を
きたさないようにすることができる。
【０００６】
【実施例】図１は本発明の第１の実施例であって、複数
（ここでは５台）のレーザ光源１１、１２、１３、１
４、１５を含む露光用レーザ光源群１０からの各照明レ
ーザ光は、可動ミラーを含む分配器２０と固定ミラー３
１〜３６を介して複数（ここでは４台）の露光装置４
１、４２、４３、４４を含む露光装置本体群４０に送光
される。
（ここでは５台）のレーザ光源１１、１２、１３、１
４、１５を含む露光用レーザ光源群１０からの各照明レ
ーザ光は、可動ミラーを含む分配器２０と固定ミラー３
１〜３６を介して複数（ここでは４台）の露光装置４
１、４２、４３、４４を含む露光装置本体群４０に送光
される。
【０００７】分配器２０は実線で示した４枚の可動ミラ
ー（２１、２２、２３、２４）を有し、通常は４つのレ
ーザ光源１１、１２、１３、１４の各々からのレーザ光
がミラー２１〜２４の各々で反射されて露光装置本体４
１、４２、４３、４４に送光される。可動ミラー２１、
２２、２３、２４はそれぞれ図中上下（ｙ方向）に移動
可能に構成されている。
ー（２１、２２、２３、２４）を有し、通常は４つのレ
ーザ光源１１、１２、１３、１４の各々からのレーザ光
がミラー２１〜２４の各々で反射されて露光装置本体４
１、４２、４３、４４に送光される。可動ミラー２１、
２２、２３、２４はそれぞれ図中上下（ｙ方向）に移動
可能に構成されている。
【０００８】いま、レーザ光源１４が故障あるいは保守
のために停止しなければならないとする。このとき、分
配器２０のミラー２４を点線で示した２４’の位置、す
なわちレーザ光源１５からのレーザ光を受ける位置に平
行移動し、予備のレーザ光源１５を動作させて、露光装
置本体４４にレーザ光を送光することができる。この場
合ミラー２４の移動のみでよいため、全体の露光装置の
停止時間（ダウンタイム）は最小に押さえることができ
る。
のために停止しなければならないとする。このとき、分
配器２０のミラー２４を点線で示した２４’の位置、す
なわちレーザ光源１５からのレーザ光を受ける位置に平
行移動し、予備のレーザ光源１５を動作させて、露光装
置本体４４にレーザ光を送光することができる。この場
合ミラー２４の移動のみでよいため、全体の露光装置の
停止時間（ダウンタイム）は最小に押さえることができ
る。
【０００９】同様にして、分配器２０のミラー２１、２
２、２３の各々も、図中のｙ方向にレーザ光源１１から
レーザ光源１５までの任意の位置をとるように平行移動
させることができ、レーザ光源群１０のうち任意の１台
を常時停止状態にさせることが可能となっている。ここ
で本実施例では、露光装置群４０とレーザ光源群１０と
はチャンバー又はクリーンルームの壁５０によって空間
的に分離されている。これはレーザ光源を保守（レーザ
放電チャンバーの窓の交換等）する場合の発塵から露光
装置を保護するためである。
２、２３の各々も、図中のｙ方向にレーザ光源１１から
レーザ光源１５までの任意の位置をとるように平行移動
させることができ、レーザ光源群１０のうち任意の１台
を常時停止状態にさせることが可能となっている。ここ
で本実施例では、露光装置群４０とレーザ光源群１０と
はチャンバー又はクリーンルームの壁５０によって空間
的に分離されている。これはレーザ光源を保守（レーザ
放電チャンバーの窓の交換等）する場合の発塵から露光
装置を保護するためである。
【００１０】本実施例では４つのミラー２１〜２４の夫
々が５つのレーザ光源１１〜１５のいずれに対しても配
置できるため、複数台の露光装置はレーザ光源側の事情
によっては実質的にダウンすることなく連続稼働が可能
である。また本実施例の変形例として、ミラー２１〜２
４を固定にするとともに図１の点線に示した位置に別の
ミラー２４’を設け、このミラー２４’を水平方向（ｘ
方向）に平行移動させるような構成としてもよい。この
場合、レーザ光源１１〜１４の夫々が使用可能状態のと
きは、ミラー２４’はいかなるレーザ光路も遮光しない
ような退避した位置に設定される。そして例えばレーザ
光源１１の使用を中止する場合、ミラー２４’はレーザ
光源１５からのレーザ光路とミラー３１へ向かう光路と
の交点に位置決めされる。このような変形例によって
も、ミラー２４’を新たに設けて水平方向に移動させる
だけで、同様の効果が得られる。
々が５つのレーザ光源１１〜１５のいずれに対しても配
置できるため、複数台の露光装置はレーザ光源側の事情
によっては実質的にダウンすることなく連続稼働が可能
である。また本実施例の変形例として、ミラー２１〜２
４を固定にするとともに図１の点線に示した位置に別の
ミラー２４’を設け、このミラー２４’を水平方向（ｘ
方向）に平行移動させるような構成としてもよい。この
場合、レーザ光源１１〜１４の夫々が使用可能状態のと
きは、ミラー２４’はいかなるレーザ光路も遮光しない
ような退避した位置に設定される。そして例えばレーザ
光源１１の使用を中止する場合、ミラー２４’はレーザ
光源１５からのレーザ光路とミラー３１へ向かう光路と
の交点に位置決めされる。このような変形例によって
も、ミラー２４’を新たに設けて水平方向に移動させる
だけで、同様の効果が得られる。
【００１１】さて、図２は本発明の第２の実施例による
装置構成を示し、５台のレーザ光源１１〜１５を含むレ
ーザ光源群１０からの各照明レーザ光が分配器２０とミ
ラー３１〜３８によって露光装置本体群４０に送光され
るような構成となっている。分配器２０は４×５のマト
リックス状に配置された２０枚のミラーＭ11〜Ｍ54で構
成され、各ミラーは適当な指令によって、反射位置と退
避位置とにスイッチすることができる。
装置構成を示し、５台のレーザ光源１１〜１５を含むレ
ーザ光源群１０からの各照明レーザ光が分配器２０とミ
ラー３１〜３８によって露光装置本体群４０に送光され
るような構成となっている。分配器２０は４×５のマト
リックス状に配置された２０枚のミラーＭ11〜Ｍ54で構
成され、各ミラーは適当な指令によって、反射位置と退
避位置とにスイッチすることができる。
【００１２】図２では、実線で表したミラーＭ11、
Ｍ22、Ｍ33、Ｍ44が反射位置にあり、点線で表したミラ
ーＭ12、Ｍ13、Ｍ14、Ｍ21、Ｍ23、Ｍ24、Ｍ31、Ｍ32、
Ｍ34、Ｍ 41〜Ｍ43、Ｍ51〜Ｍ54が退避位置にあって、退
避位置にある場合はレーザ光束を遮ることがない。また
２０枚のミラーＭ11〜Ｍ54の夫々は例えば図２の紙面と
垂直な方向に挿脱可能とされている。
Ｍ22、Ｍ33、Ｍ44が反射位置にあり、点線で表したミラ
ーＭ12、Ｍ13、Ｍ14、Ｍ21、Ｍ23、Ｍ24、Ｍ31、Ｍ32、
Ｍ34、Ｍ 41〜Ｍ43、Ｍ51〜Ｍ54が退避位置にあって、退
避位置にある場合はレーザ光束を遮ることがない。また
２０枚のミラーＭ11〜Ｍ54の夫々は例えば図２の紙面と
垂直な方向に挿脱可能とされている。
【００１３】図から解るように、本実施例の場合も第１
の実施例と同様にミラーの状態を適当に選ぶことによ
り、５台のレーザ光源のうち任意の１台を停止状態にし
ても、４台の露光装置全体の動作には支障がないことが
わかる。以上、本発明の第１、第２の実施例では５台の
レーザ光源に対して４台の露光装置本体を組み合わせた
が、言うまでもなくその数は任意である。ただしレーザ
光源の数が露光装置本体の数よりも多いことが必要とさ
れる。
の実施例と同様にミラーの状態を適当に選ぶことによ
り、５台のレーザ光源のうち任意の１台を停止状態にし
ても、４台の露光装置全体の動作には支障がないことが
わかる。以上、本発明の第１、第２の実施例では５台の
レーザ光源に対して４台の露光装置本体を組み合わせた
が、言うまでもなくその数は任意である。ただしレーザ
光源の数が露光装置本体の数よりも多いことが必要とさ
れる。
【００１４】また以上の各実施例において、分配器２０
内の各可動ミラーの切替えによってレーザ光源と露光装
置との組み合わせが光学的に変えられるが、この時に露
光装置とレーザ光源との間をつなぐ各種信号のインター
フェースも同時に切り替え、選ばれたレーザ光源が特定
の露光装置からの発光指令等を受け取れるようにする必
要がある。
内の各可動ミラーの切替えによってレーザ光源と露光装
置との組み合わせが光学的に変えられるが、この時に露
光装置とレーザ光源との間をつなぐ各種信号のインター
フェースも同時に切り替え、選ばれたレーザ光源が特定
の露光装置からの発光指令等を受け取れるようにする必
要がある。
【００１５】また、予備のレーザ光源１５を設置したと
きは、露光装置と組み合わせる前にレーザ出力光の波長
とは異なる波長のレーザ光（アライメントビーム）を露
光用のレーザ出力ビームと同軸に通して、レーザ光源の
レーザ光軸と露光装置の光軸とのアライメントを事前に
行うとよい。このようにすれば、ミラーの切り替えを行
った後、アライメントの時間的なロスなしに露光を行う
ことができる。
きは、露光装置と組み合わせる前にレーザ出力光の波長
とは異なる波長のレーザ光（アライメントビーム）を露
光用のレーザ出力ビームと同軸に通して、レーザ光源の
レーザ光軸と露光装置の光軸とのアライメントを事前に
行うとよい。このようにすれば、ミラーの切り替えを行
った後、アライメントの時間的なロスなしに露光を行う
ことができる。
【００１６】また、レーザ光源の出力ビームの波長シフ
トが問題となるような狭帯化されたエキシマレーザ光源
の場合には、ミラーを切り替えて露光装置と継ぐ直前に
発光させ、グレーティング分光器等を使って出力ビーム
の波長のチェックと補正とを行えば、継いだ直後からた
だちに所定の波長で発振させて正常な露光動作を行うこ
とができる。
トが問題となるような狭帯化されたエキシマレーザ光源
の場合には、ミラーを切り替えて露光装置と継ぐ直前に
発光させ、グレーティング分光器等を使って出力ビーム
の波長のチェックと補正とを行えば、継いだ直後からた
だちに所定の波長で発振させて正常な露光動作を行うこ
とができる。
【００１７】さらに各実施例で説明した予備のレーザ光
源は、使用する露光装置の台数に応じて２台以上にして
もよく、その場合は稼働中の露光装置のうちの２台のレ
ーザ光源がダウンするようなときにも対応できる。以
上、本発明は露光装置を使う製造ラインに限らず、レー
ザ光を用いた光ＣＶＤ装置、レーザスポットによって表
面を描画加工する装置、又はレーザ光を用いたエッチン
グ装置等を使う製造ラインにも同様に適用可能である。
源は、使用する露光装置の台数に応じて２台以上にして
もよく、その場合は稼働中の露光装置のうちの２台のレ
ーザ光源がダウンするようなときにも対応できる。以
上、本発明は露光装置を使う製造ラインに限らず、レー
ザ光を用いた光ＣＶＤ装置、レーザスポットによって表
面を描画加工する装置、又はレーザ光を用いたエッチン
グ装置等を使う製造ラインにも同様に適用可能である。
【００１８】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、常に１台
あるいはそれ以上の数のレーザ光源が停止状態にあって
も、複数の加工装置全体の動作には変化をきたさないよ
うな構成であるから、レーザ光源が故障したり、あるい
は定期的な保守のためにレーザ光源を停止しなければな
らない場合でも、製造ラインが停止することがなくなる
という効果が得られる。
あるいはそれ以上の数のレーザ光源が停止状態にあって
も、複数の加工装置全体の動作には変化をきたさないよ
うな構成であるから、レーザ光源が故障したり、あるい
は定期的な保守のためにレーザ光源を停止しなければな
らない場合でも、製造ラインが停止することがなくなる
という効果が得られる。
【図１】本発明の第１の実施例による半導体製造装置の
全体構成を示す。
全体構成を示す。
【図２】本発明の第２の実施例による半導体製造装置の
全体構成を示す。
全体構成を示す。
１０…レーザ光源群、２０…光分配器、４０…露光装置
本体群
本体群
Claims (4)
- 【請求項１】 レーザ光を用いて所定の加工を行なう複
数の加工装置に前記レーザ光を供給するための照射装置
を含む半導体製造装置において、前記加工装置の数より
も多い複数のレーザ光源と、該複数のレーザ光源のうち
前記加工装置の数に相当したレーザ光源の各々からのレ
ーザ光を個別に前記加工装置の夫々に供給するととも
に、残りのレーザ光源の少なくとも１つからのレーザ光
を前記複数の加工装置の任意の装置に選択的に供給可能
とした光分配手段とを備えたことを特徴とする半導体製
造装置。 - 【請求項２】 前記複数のレーザ光源は狭帯化されたエ
キシマレーザ光源であり、該エキシマレーザ光源群と前
記加工装置群とを空間的に分離して配置したことを特徴
とする請求項第１項に記載の装置。 - 【請求項３】 前記加工装置は半導体ＩＣ製造用の露光
装置であり、前記残りのレーザ光源からのレーザ光が該
露光装置に必要とされる特性を備えていることを確認し
た後、前記光分配手段を作動させて前記残りのレーザ光
源と使用中のレーザ光源とを入れ替えることを特徴とす
る請求項第２項に記載の装置。 - 【請求項４】 前記光分配手段は複数の可動ミラーを含
むことを特徴とする請求項第１項に記載の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7022539A JP2611682B2 (ja) | 1995-02-10 | 1995-02-10 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7022539A JP2611682B2 (ja) | 1995-02-10 | 1995-02-10 | 半導体製造装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62180479A Division JPH0766903B2 (ja) | 1987-03-03 | 1987-07-20 | 半導体製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07312342A true JPH07312342A (ja) | 1995-11-28 |
| JP2611682B2 JP2611682B2 (ja) | 1997-05-21 |
Family
ID=12085618
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7022539A Expired - Fee Related JP2611682B2 (ja) | 1995-02-10 | 1995-02-10 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2611682B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1095304A1 (en) * | 1998-07-09 | 2001-05-02 | Cymer, Inc. | Multiplexer for laser lithography |
| DE102015212878A1 (de) * | 2015-07-09 | 2017-01-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Strahlführungsvorrichtung |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60154527A (ja) * | 1984-01-24 | 1985-08-14 | Canon Inc | 露光装置 |
-
1995
- 1995-02-10 JP JP7022539A patent/JP2611682B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60154527A (ja) * | 1984-01-24 | 1985-08-14 | Canon Inc | 露光装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1095304A1 (en) * | 1998-07-09 | 2001-05-02 | Cymer, Inc. | Multiplexer for laser lithography |
| EP1095304A4 (en) * | 1998-07-09 | 2005-05-04 | Cymer Inc | MULTIPLEXER FOR LASER LITHOGRAPH |
| DE102015212878A1 (de) * | 2015-07-09 | 2017-01-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Strahlführungsvorrichtung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2611682B2 (ja) | 1997-05-21 |
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