JP2006135332A - リソグラフィシステムおよびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】このリソグラフィシステム1は、放射ビームを供給する照明システムILおよび投影システムPSを有しており、この投影システムPSは光学系と、ひとみ面に配置されたパターニングデバイスPDとを含んでおり、このパターニングデバイスPDにより、上記の放射ビームがパターニングされ、このパターニングされた放射ビームが、上記光学系によって基板Wのターゲット分に投影されるようにする。
【選択図】図1
Description
I. 導入および概要
特定の構成および装置について説明するが、これは説明のためにだけにそのようにしたと理解されたい。当業者には、本発明の精神および範囲を逸脱することなく、別の構成および装置を使用できることがわかるはずである。また当業者には本発明が別の多くの応用にも使用できることがわかるはずである。
II.本発明の1実施形態による個別プログラム可能素子のひとみ面アレイの例
上記のように本発明の1実施形態による例示的なリソグラフィシステムには、個別プログラム可能素子のひとみ面アレイ100が含まれている。個別プログラム可能素子のひとみ面アレイ100は、反射形または透過形とすることができるが、図1では透過形として示されている。個別プログラム可能素子のひとみ面アレイ100の例は、上に詳細に述べたように傾斜形のミラー、位相ステップミラー、ピストン式ミラーまたは類似のものを含むことができるが、これに制限されるわけではない。
図6は、本発明の1実施形態にしたがってリソグラフィシステムを使用する例示的な方法を示すフローチャート600である。例えば、このリソグラフィシステムは図1のリソグラフィシステム1と類似のものとすることが可能である。フローチャート600の方法はステップ610ではじまり、ここではリソグラフィシステムのひとみ面に配置される個別プログラム可能素子のアレイまたは投影システムが放射ビームによって照明される。個別プログラム可能素子のアレイは、例えば、例示的なリソグラフィシステム1に関連して上述した個別プログラム可能素子のひとみ面アレイ100とすることができる。このひとみ面は、例えば、投影システムPSのひとみ面とすることが可能である。個別プログラム可能素子のアレイは、リソグラフィ装置の照明システムIL(図1)からの放射ビームによって照明することができるか、または個別プログラム可能素子のアレイは、上述または以下の述べるように択一的な照明システムによって照明することができる。
IV.利点の例
ひとみ面における個別プログラム可能素子のアレイを利用するリソグラフィシステムは、いくつかの利点を有する。例えば、ひとみに個別プログラム可能素子のアレイを配置することによって光学系が簡単になる。上記のようにまた当業者にはよく知られているようにひとみ面におけるフィールド分布は、オブジェクト面におけるフィールド分布のフーリエ変換であり、また画像面におけるフィールド分布は、ひとみ面におけるフィールド分布のフーリエ変換である。言い換えると、オブジェクト面におけるフィールド分布と比べると、ひとみ面におけるフィールド分布は、画像面におけるフィールド分布に一層密に関係しているのである。したがって個別プログラム可能素子のアレイをひとみ面に配置することによって光学系が簡単にすることができるのである。
上では本発明のさまざまな実施形態を説明したが、これらは例として示したのであり、制限のためでないことを了解されたい。また当業者に明らかであるのは、本発明の精神および範囲を逸脱することなく形態および詳細においてさまざまな変更をなし得ることである。したがって本発明の範囲は、上で説明した例示的などの実施形態によっても制限されるべきでなく、添付の請求項およびそれと同等のものだけにしたがって定められるべきである。
Claims (19)
- リソグラフィシステムにおいて、
該リソグラフィシステムは、放射ビームを供給する照明システムおよび投影システムを有しており、
該投影システムは、光学系と、ひとみ面に配置されたパターニングデバイスとを含んでおり、
該パターニングデバイスにより、前記放射ビームがパターニングされ、
当該のパターニングされた放射ビームが、前記光学系によって基板のターゲット部分に投影されることを特徴とする
リソグラフィシステム。 - 前記パターニングデバイスは、個別制御可能素子のアレイを含む、
請求項1に記載のリソグラフィシステム。 - 前記パターニングデバイスによって、前記放射ビームの振幅および位相が共に変化する、
請求項1に記載のリソグラフィシステム。 - 前記の個別制御可能素子のアレイにおける各個別制御可能素子は、ピストン式ミラーに取り付けられた液晶ディスプレイ(LCD)セルを含む、
請求項2に記載のリソグラフィシステム。 - 各個別制御可能素子はピストン式ミラーを含む、
請求項2に記載のリソグラフィシステム。 - さらに中間の画像面に配置されたフィールドストップを含んでおり、
パターニングされた放射ビームの少なくとも一部が該フィールドストップによってブロックされる、
請求項1に記載のリソグラフィシステム。 - 前記照明システムは、
前記の放射ビームを供給する拡張された照明光源と、
当該放射ビームが通過するアパーチャとを有しており、
該アパーチャを通過した前記放射ビームがひとみ面に入射する、
請求項1に記載のリソグラフィシステム。 - さらに、リソグラフィシステムのオブジェクト面に配置されたパターニングデバイスを有しており、
該パターニングデバイスは、前記のひとみ面におけるパターニングデバイスが放射ビームをパターニングする前に放射ビームをパターニングし、
前記のひとみ面におけるパターニングデバイスにより、オブジェクト面におけるパターニングデバイスによってパターニングされた放射ビームに発生した収差または誤差が補正される、
請求項1に記載のリソグラフィシステム。 - デバイス作製方法において、
(a) リソグラフィシステムのひとみ面に配置されたパターニングデバイスを使用して放射ビームを変調し、
(b) 当該のパターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分に投影することを特徴とする
デバイス作製方法。 - 前記のステップ(a)は、
前記のパターニングデバイスを使用して放射ビームの振幅および位相を共に変化させることを含む、
請求項9に記載の方法。 - 前記のステップ(a)はさらに
中間の画像面にフィールドストップを配置し、
前記のパターニングデバイスおよび中間の画像面におけるフィールドストップの両方を使用して前記放射ビームをパターニングすることを含む、
請求項9に記載の方法。 - 前記のステップ(a)はさらに
アパーチャを通して放射ビームの拡張された光源を通過させることにより、前記パターニングデバイスを照明することを含む、
請求項9に記載の方法。 - さらに
(c) 前記のリソグラフィシステムのひとみ面におけるパターニングデバイスによる放射ビームのパターニングの前に当該のリソグラフィシステムのオブジェクト面に配置されたパターニングデバイスを使用して放射ビームをパターニングする、
請求項9に記載の方法。 - さらに、前記のひとみ面におけるパターニングデバイスを使用して、前記のオブジェクト面に配置されたパターニングデバイスによって得られパターニングされたビームにおける収差または誤差を補正する、
請求項13に記載の方法。 - リソグラフィシステムにおいて、
該リソグラフィシステムは、
放射ビームを供給する照明システムと、
該放射ビームをパターニングするオブジェクト面に配置された第1パターニングデバイスと、
さらに前記放射ビームをパターニングするひとみ面に配置された第2パターニングデバイスと、
当該のパターニングされた放射ビームを基板のターゲット面に投影する投影システムとを有することを特徴とする
リソグラフィシステム。 - 前記第2パターニングデバイスは、ピストン式ミラーに取り付けられた液晶ディスプレイ(LCD)セルを含む、
請求項15に記載のリソグラフィシステム。 - 前記第2パターニングデバイスにより、前記放射ビームの振幅および位相がともに変更される、
請求項15に記載のリソグラフィシステム。 - さらに中間の画像面に配置されたフィールドストップを含んでおり、
前記第2パターニングデバイスによってパターニングされた放射ビームの少なくとも一部が該フィールドストップによってブロックされる、
請求項15に記載のリソグラフィシステム。 - 前記照明システムは、
前記放射ビームを供給する拡張された照明光源と、
当該放射ビームが通過するアパーチャとを有しており、
該アパーチャを通過する前記放射ビームがひとみ面に入射する、
請求項15に記載のリソグラフィシステム。
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