JP2009124143A - 薄いフィルム状の連続的に空間的に調整された灰色減衰器及び灰色フィルタ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板と、基板上に形成される吸収フィルムと、を備えるリソグラフィ装置で使用されるシステム及び方法である。吸収フィルムの厚さは、基板を透過する放射ビームの強度不均一性を軽減するよう基板の少なくとも一部において空間的に調整されている。
【選択図】図5
Description
ここで、tは時間であり、Itrは透過強度であり、I0は吸収フィルム520上での入射放射強度であり、αは吸収フィルム材料の吸収係数であり、lは吸収長さ(すなわち吸収フィルム520の厚さ)である。吸収長さは等式l≡α−1により吸収係数に関連づけられる。また、吸収放射強度は、次の等式により決定される。
よって、吸収フィルム厚さと透過強度との関係は反比例的となる。逆に、吸収フィルム厚さと吸収強度とは比例的な関係となる。
の虚数部分である。吸収長さ(l)(すなわち吸収フィルム厚さ)の許容範囲は消光係数(k)の許容範囲に基づいて以下の等式から決定される。
同様に、消光係数(k)の許容範囲は吸収長さ(l)の許容範囲に基づいて以下の等式から決定される。
ここで、nabsは吸収フィルム520の屈折率であり、ncompは波面補償部530の屈折率である。よって、波面補償部530の厚さは、吸収フィルム520の厚さに反比例である。一実施例では、図5に示されるように、両側平行平面基板510が使用される場合には、波面補償部530の屈折率(ncomp)と吸収フィルム520の屈折率(nabs)との違いにより、波面補償部530の厚さに吸収フィルム520の厚さが加わって、第2の平面は生成されない。しかし、基板510は、単一の平面でさえ有する必要がない。
本発明の種々の実施例を上に記載したが、それらはあくまでも例示であって、それらに限定されるものではない。本発明の精神と範囲に反することなく種々に変更することができるということは、関連技術の当業者には明らかなことである。本発明の範囲と精神は上記で述べた例示に限定されるものではなく、請求項とその均等物によってのみ定義されるものである。
Claims (24)
- 基板と、
該基板に形成される吸収フィルムと、を備え、
該吸収フィルムの厚さは、前記基板を透過する放射ビーム強度の不均一性を軽減するよう該基板の少なくとも一部の断面において空間的に調整されていることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記吸収フィルムの厚さは前記基板の少なくとも一部の断面において非曲線であることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記吸収フィルムは、消光係数が約10−6乃至約0.23の材料を含むことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記吸収フィルムは、酸化窒化シリコンを含むことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記酸化窒化シリコンは、0パーセント乃至約20パーセントの窒素を含むことを特徴とする請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記吸収フィルムの屈折効果を補償する波面補償部をさらに備え、該波面補償部は前記基板に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記波面補償部は、酸化シリコンを含むことを特徴とする請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記波面補償部の厚さは、前記吸収フィルムの厚さに実質的に相補的に空間的に調整されていることを特徴とする請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板は平面を有することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板は非平面を有することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームを調整する照明系と、
放射ビームにパターンを与えるパターニングデバイスと、
パターンが与えられたビームを加工対象物の目標領域に投影する投影系と、
放射ビームを調整する減衰器であって、基板と、該基板に位置する吸収フィルムと、を含み、該吸収フィルムの厚さは、放射ビームの強度不均一性を軽減するよう該基板の少なくとも一部の断面において空間的に調整されている減衰器と、を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記放射ビームは実質的に193nmの波長を有することを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記吸収フィルムは前記基板の少なくとも一部の断面において非曲線の厚さを有することを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記吸収フィルムは、消光係数が約10−6乃至約0.23の材料を含むことを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記吸収フィルムは、酸化窒化シリコンを含むことを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記酸化窒化シリコンは、0パーセント乃至約20パーセントの窒素を含むことを特徴とする請求項15に記載のリソグラフィ装置。
- 前記減衰器は前記吸収フィルムの屈折効果を補償する波面補償部をさらに備え、該波面補償部は前記基板に形成されていることを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記波面補償部は、酸化シリコンを含むことを特徴とする請求項17に記載のリソグラフィ装置。
- 前記波面補償部の厚さは、前記吸収フィルムの厚さに実質的に相補的に空間的に調整されていることを特徴とする請求項17に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板は平面を有することを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板は非平面を有することを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームを生成し、
基板に位置する吸収フィルムを放射ビームに透過させることを含み、
該吸収フィルムの厚さは、前記放射ビームの強度不均一性を軽減するよう該基板の少なくとも一部の断面において空間的に調整されていることを特徴とする方法。 - 前記放射ビームの波面不均一性を軽減するよう該基板に位置する波面補償部を前記放射ビームに透過させることをさらに含むことを特徴とする請求項22に記載の方法。
- 前記放射ビームでパターニングアレイを照明し、
パターニングアレイを使用して前記放射ビームにパターンを付与し、
パターンが付与されたビームを加工対象物に投影することをさらに含むことを特徴とする請求項22に記載の方法。
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