JP2005108892A - 調節フィルタ、露光装置、及び、露光方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 露光において、露光装置における露光光を透過する基板と、基板に設けられ、かつ、基板の露光光の透過率よりも透過率が低い低透過率部とを有する調節フィルタを用いる。この調節フィルタの低透過率部は、露光光の照度の高い部分に、その高さの度合いに合せて、露光光の透過率を低くするように設けられ、照度の高さを相殺して露光光の照度を概ね一律にする。露光の際には、露光光から発振した光を、マスクに照射する前に、この調節フィルタに通過させ、これにより、照度むらを抑えた露光光が照射されるようにする。
【選択図】 図1
Description
図5に示すように、マスクステージにマスクを介さない状態で、単に、露光光をレジストに照射した場合にも、レジストに照射される露光光には、照度むらが存在する。照度むらについては、さまざまな要因に起因するものであるが、大きな要因として、照明光学系の光学レンズの不均一性が考えられる。
前記基板に設けられ、かつ、前記基板の前記露光光の透過率よりも透過率が低い低透過率部と、
を備え、
前記低透過率部は、前記露光光の照度の高い部分に、その高さの度合いに合せて、前記露光光の透過率を低くするように設けられ、前記照度の高さを相殺して前記露光光の照度を概ね一律にするものである。
露光光源と、
前記露光光源からの露光光が入射される位置に配置された照明光学系と、
前記光学系を通過した光が照射される位置に配置されたマスクステージと
前記マスクステージに配置されたマスクを透過した光が入射される位置に配置された投影光学系と、
前記露光光源と、前記マスクステージとの間の、露光光の光路のいずれかの位置に配置された、この発明の調節フィルタと、
を備えるものである。
前記露光光源と、前記マスクとの間に、前記露光光の照度の強さの度合いに合せて、その照度の強さを相殺するように低透過率部を設けた調節フィルタを配置して、
前記露光光の照度を調節した後、
前記マスクに、前記調節フィルタにより概ね一律の照度に調節された露光光を、照射して露光するものでる。
図1は、この発明の実施の形態1における調節フィルタ100を説明するための模式図である。
調節フィルタ100は、露光光の照度むらを調節するフィルタである。調節フィルタ100においては、クォーツ基板2の中央部付近に、クロムドットパターン部4が設けられている。また、クォーツ基板2の外周部には、クォーツ基板を支持するため、フレーム6が設けられている。
フレーム6は、メタルフレームであり、表面には低反射防止膜が設けられている。
露光装置200は、従来の露光装置と類似するものである。露光装置200において、露光光源10としては、F2エキシマレーザ等が用いられる。露光光源10から発振した露光光が入射する位置に、照明光学系12、14が配置されている。また、照明光学系14を通過した露光光が入射する位置に、レチクルステージ16が設けられている。また、レチクルステージ16を透過した露光光が入射する位置に、投影光学系18が設けられている。投影光学系18を通過した光が入射する位置には、ウェーハステージ20が設けられている。
図4は、この発明の実施の形態2における調節フィルタ300を説明するための模式図であり、図4(a)は、透過率の異なる二つのフィルタを組み合わせた状態を表し、図4(b)は、透過率の低い中央部のフィルタのみを取り外した状態を表す。
図4(a)、4(b)に示すように、調節フィルタ300は、第1のフィルタ30と、第2のフィルタ32とが組み合わされて構成されている。
その他の部分は、実施の形態1と同様であるから説明を省略する。
200 露光装置
300 調節フィルタ
2 クォーツ基板
4 クロムドットパターン部
6 フレーム
10 露光光源
12 照明光学系
14 照明光学系
16 レチクルステージ
18 投影光学系
20 ウェーハステージ
24 ウェーハ
30 第1のフィルタ
32 第2のフィルタ
34 クォーツ基板
36 フレーム
38 クォーツ基板
40 ドットパターン
42 フレーム
Claims (7)
- 露光装置における露光光を透過する基板と、
前記基板に設けられ、かつ、前記基板の前記露光光の透過率よりも透過率が低い低透過率部と、
を備え、
前記低透過率部は、前記露光光の照度の高い部分に、その高さの度合いに合せて、前記露光光の透過率を低くするように設けられ、前記照度の高さを相殺して前記露光光の照度を概ね一律にすることを特徴とする調節フィルタ。 - 前記低透過率部は、前記露光光を遮断する材料からなるドットパターンを含み、
前記遮断材料のドット数により、前記露光光の透過率を調節することを特徴とする請求項1に記載の調節フィルタ。 - 前記ドットパターンの材料は、クロムであることを特徴とする請求項2に記載の調節フィルタ。
- 前記低透過率部は、
前記基板と同程度の透過率を有する材料で形成され、かつ、前記基板に、取り外し可能な状態で取りつけられる支持部を備えることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の調節フィルタ。 - 前記基板は、石英、合成石英ガラス、あるいは、弗化カリウムのいずれかであること特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の調節フィルタ。
- 露光光源と、
前記露光光源からの露光光が入射される位置に配置された照明光学系と、
前記光学系を通過した光が照射される位置に配置されたマスクステージと
前記マスクステージに配置されたマスクを透過した光が入射される位置に配置された投影光学系と、
前記露光光源と、前記マスクステージとの間の、露光光の光路のいずれかの位置に配置された、請求項1から5のいずれに記載の調節フィルタと、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 露光光源から発射した光を、照明光学系を介してマスクに照射し、前記マスクに形成されたパターンを、基板に転写する露光方法であって、
前記露光光源と、前記マスクとの間に、前記露光光の照度の強さの度合いに合せて、その照度の強さを相殺するように低透過率部を設けた調節フィルタを配置して、
前記露光光の照度を調節した後、
前記マスクに、前記調節フィルタにより概ね一律の照度に調節された露光光を、照射して露光することを特徴とする露光方法。
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