JP4848229B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
−放射ビームB(たとえば波長が248nm又は193nmのエキシマ・レーザ放射などのUV放射)を条件付けるようになされた照明システム(イルミネータ)IL
−パターニング・デバイス(たとえばマスク)MAを支持するように構築された、該パターニング・デバイスを特定のパラメータに従って正確に位置決めするようになされた第1のポジショナPMに接続された支持構造(たとえばマスク・テーブル)MT
−基板(たとえばレジスト被覆ウェハ)Wを保持するように構築された、該基板を特定のパラメータに従って正確に位置決めするようになされた第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(たとえばウェハ・テーブル)WT
−パターニング・デバイスMAによって放射ビームBに付与されたパターンを基板Wの目標部分C(たとえば1つ又は複数のダイが含まれている)に投影するようになされた投影システム(たとえば屈折投影レンズ系)PL
を備えている。
1.ステップ・モード:マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体が目標部分Cに1回で投影される(即ち単一静止露光)。次に、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Cのサイズが制限される。
2.走査モード:放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが同期走査される(即ち単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの倍率(縮小率)及び画像反転特性によって決まる。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の幅(非走査方向の幅)が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ(走査方向の高さ)が決まる。
3.その他のモード:プログラム可能パターニング・デバイスを保持するべくマスク・テーブルMTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、基板テーブルWTが移動又は走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルWTが移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターニング・デバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターニング・デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
B 放射ビーム(放射のビーム)
BD ビーム引渡しシステム
C 基板の目標部分
CO コンデンサ
IF 位置センサ
IL 照明システム(イルミネータ)
IN インテグレータ
MA パターニング・デバイス(マスク)
MT 支持構造(マスク・テーブル)
M1、M2 マスク・アライメント・マーク
PL 投影システム
PM 第1のポジショナ
PW 第2のポジショナ
P1、P2 基板アライメント・マーク
SO 放射源
W 基板
WT 基板テーブル
10 コントローラ
11 強度コントローラ
15 記憶装置
Claims (15)
- 放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、
パターン化された放射ビームを形成するべく前記放射ビームの断面にパターンを付与することができるパターニング・デバイスを支持するように構築された支持構造と、
基板を支持するように構築された基板テーブルと、
パターン化された放射ビームを前記基板の目標部分に投射するようになされた投影システムと、
少なくとも1つのシステム・パラメータを制御するようになされたコントローラとを備えたリソグラフィ装置であって、
前記コントローラが、前記基板上の比較的パターン・フィーチャ密度が大きい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法と、前記基板上の比較的パターン・フィーチャ密度が小さい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法の差が、前記目標部分が配置されている前記基板上のある領域で最小化されるよう、前記少なくとも1つのシステム・パラメータを設定するようになされ、且つ、
前記コントローラが、基板の2つの領域への前記パターン化された放射ビームの投射と投射の間に、前記少なくとも1つのシステム・パラメータを再設定するようになされたリソグラフィ装置。 - 前記少なくとも1つのシステム・パラメータが、前記投影システムの開口数、前記放射のビームの偏光度、前記照明システムのひとみ平面における前記放射のビームの強度分布、前記放射のビーム中の放射の波長のスペクトル分布、露光中における前記基板に対する前記パターン化された放射ビームの移動、及び前記基板に投影される画像のコントラストのうちの少なくとも1つを含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板上の比較的パターン・フィーチャ密度が大きい領域及び前記基板上の比較的パターン・フィーチャ密度が小さい領域のうちの少なくともいずれか一方に形成されるパターン・フィーチャの所望の臨界寸法を提供するために、前記放射のビームの強度を設定するようになされた強度コントローラをさらに備え、
前記強度コントローラが、前記基板の2つの領域への前記パターン化された放射ビームの投射と投射の間に、前記放射ビームの強度を再設定するようになされた、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記リソグラフィ装置が、前記基板に複数のデバイスを形成するように構築され、前記コントローラが、前記複数のデバイスのうちの第1のデバイスに対応する第1の領域への前記パターン化されたビームの投射と、前記複数のデバイスのうちの第2のデバイスに対応する第2の領域への前記パターン化されたビームの投射との間に、前記少なくとも1つのシステム・パラメータを再設定するようになされた、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置が、前記基板に複数のデバイスを形成するように構築され、前記コントローラが、前記複数のデバイスのうちの1つの第1の部分に対応する第1の領域への前記パターン化されたビームの投射と、前記デバイスの第2の部分に対応する第2の領域への前記パターン化されたビームの投射との間に、前記少なくとも1つのシステム・パラメータを再設定するようになされた、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記支持構造が、前記パターニング・デバイスによって提供されるパターンの異なる部分を連続的に露光するために、露光中、前記パターニング・デバイスを前記放射のビームに対して移動させるように構築され、
前記コントローラが、前記露光中、前記パターニング・デバイスが前記放射のビームに対して移動している間に前記少なくとも1つのシステム・パラメータを再設定するように構築された、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記コントローラが、前記基板上の比較的パターン・フィーチャ密度が大きい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法と、前記基板上の比較的パターン・フィーチャ密度が小さい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法の差に対する前記少なくとも1つのシステム・パラメータの効果が、前記パターン化された放射のビームによって同時に露光される基板の第1の部分と第2の部分とでそれぞれ異なるように前記少なくとも1つのシステム・パラメータを設定するように構築された、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板上の比較的パターン・フィーチャ密度が大きい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法と、前記基板上の比較的パターン・フィーチャ密度が小さい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法の前記差を最小化するために、前記基板の複数の領域に対する前記少なくとも1つのシステム・パラメータに必要な設定値に対応するデータを記憶するように構築された記憶装置をさらに備え、
前記コントローラが、前記記憶装置に記憶されているデータを使用して前記少なくとも1つのシステム・パラメータを設定する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記少なくとも1つのシステム・パラメータの複数の異なる設定値に対する、前記基板上の比較的パターン・フィーチャ密度が大きい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法と、前記基板上の比較的パターン・フィーチャ密度が小さい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法の差に対応するデータを前記基板の複数の領域毎に記憶するように構築された記憶装置をさらに備え、
前記コントローラが、前記記憶装置に記憶されているデータを使用して前記少なくとも1つのシステム・パラメータを設定する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 基板にパターンを露光するように構築されたリソグラフィ装置のためのコントローラであって、前記基板上の比較的パターン・フィーチャ密度が大きい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法と、前記基板上の比較的パターン・フィーチャ密度が小さい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法の差が、前記リソグラフィ装置によって露光される前記基板上のある領域で最小化されるよう、前記リソグラフィ装置の少なくとも1つのシステム・パラメータを設定するようになされ、且つ、
前記基板上の2つの領域の露光と露光の間に、前記少なくとも1つのシステム・パラメータを再設定するようになされたコントローラ。 - 基板上の比較的パターン密度が大きい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法と、基板上の比較的パターン密度が小さい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法の差が、前記基板上のある領域で最小化されるよう、少なくとも1つのシステム・パラメータを設定するステップと、
パターン化された放射のビームを前記基板上の前記領域に投射するステップと、
基板上の比較的パターン・フィーチャ密度が大きい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法と、基板上の比較的パターン・フィーチャ密度が小さい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法の差を前記基板上の第2の領域で最小化するために、前記少なくとも1つのシステム・パラメータを再設定するステップと、
パターン化された放射のビームを前記基板上の前記第2の領域に投射するステップとを含むデバイス製造方法。 - 前記領域及び前記第2の領域が、1つのダイの2つの異なる領域、1つの目標部分の2つの異なる領域、前記基板上の2つの異なるダイ、及び前記基板上の2つの異なる目標部分からなる領域の対のグループのうちの1つに対応する、請求項11に記載の方法。
- 前記設定ステップ及び前記再設定ステップによって、露光前リソグラフィ・プロセス又は露光後リソグラフィ・プロセスによる臨界寸法の孤立−稠密バイアスが補償される、請求項11に記載の方法。
- コンピュータ・システム上で実行されると、請求項11に記載の方法を実行するようリソグラフィ装置に命令するコンピュータ・プログラム。
- 第1の基板上の比較的パターン密度が大きい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法と、第1の基板上の比較的パターン密度が小さい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法の差が、前記基板上のある領域で最小化されるよう、少なくとも1つのシステム・パラメータを設定するステップと、
パターン化された放射のビームを前記第1の基板上の前記領域に投射するステップと、
第2の基板上の比較的パターン・フィーチャ密度が大きい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法と、第2の基板上の比較的パターン・フィーチャ密度が小さい領域に形成されるパターン・フィーチャの臨界寸法の差を前記基板上の第2の領域で最小化するために、前記少なくとも1つのシステム・パラメータを再設定するステップと、
パターン化された放射のビームを前記第2の基板上の前記第2の領域に投射するステップとを含むデバイス製造方法。
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