JP2005311378A - デバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板Wの表側FSにパターンを露出した後にこの基板Wを回転軸A周りに裏返して裏側BSにパターンを露出する。この裏側の露出中の基板の移動経路を表側の露出中の移動経路の鏡像であるようにすることによって、移動方向に特有のあらゆる位置決め誤差が裏側露出で表側露出に比べて反転され、それで表側デバイスと裏側デバイスの間の正味オーバレイ誤差がゼロまたはゼロに近くなる。それで、この発明の方法を、ある種の位置決め誤差から生じるオーバレイ誤差を機械改造および/またはスループットの犠牲なしに減少するために使うことができる。
【選択図】図2
Description
放射線(例えば、UV放射線またはDUV放射線)の投影ビームPBを供給するための照明システム(照明器)IL、
パターニング装置(例えば、マスク)MAを支持し、且つこのパターニング装置を部材PLに関して正確に位置決めするために第1位置決め装置PMに結合された第1支持構造体(例えば、マスクテーブル)MT、
基板(例えば、レジストを塗被したウエハ)Wを保持し、且つこの基板を部材PLに関して正確に位置決めするために第2位置決め装置PWに結合された基板テーブル(例えば、ウエハテーブル)WT、および
パターニング装置MAによって投影ビームPBに与えたパターンを基板Wの目標部分C(例えば、一つ以上のダイを含む)上に結像するための投影システム(例えば、屈折性投影レンズ)PLを含む。
1. ステップモードでは、投影ビームに与えた全パターンを目標部分C上に一度に(即ち、単一静的露出で)投影しながら、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを本質的に固定して保持する。次に基板テーブルWTをXおよび/またはY方向に移動して異なる目標部分Cを露出できるようにする。ステップモードでは、露出領域の最大サイズが単一静的露出で結像する目標部分Cのサイズを制限する。
2. 走査モードでは、投影ビームに与えたパターンを目標部分C上に投影(即ち、単一動的露出で)しながら、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを同期して走査する。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPLの(縮)倍率および像反転特性によって決る。走査モードでは、露出領域の最大サイズが単一動的露出での目標部分の(非走査方向の)幅を制限し、一方走査運動の長さが目標部分の(走査方向の)高さを決める。
上に説明した使用モードの組合せおよび/または変形または全く異なった使用モードを使ってよい。
によって示す経路に沿って進み、この基板が各目標部分で露出を行うために停止するようにする。この表側のある層または全ての層を完了したとき、裏側BSの目標部分C’1ないしC’nを露出するために基板Wを矢印で示すように(回転方向は問題でない)、軸Aの周りに回転する(裏返す)。これらの露出を行うために使用する蛇行経路をベクトル
によって図3に示す。ベクトル
は、ベクトル
の基板を回転した軸Aでの鏡像である。
BS 第2側
C 目標部分
C’ 目標部分
FS 第1側
PL 投影システム
W 基板
Claims (20)
- 基板の第1側にある第1系列の目標部分上に少なくとも一つのパターンを投影する工程、
基板をある軸周りに回転する工程、および
基板の第2側にある第2系列の目標部分上に少なくとも一つのパターンを投影し、前記第2系列の目標部分が前記第1系列の目標部分に対応する工程、を含むデバイス製造方法であって、
前記第2系列の目標部分上への少なくとも一つのパターンの投影中の前記基板の相対移動が前記第1系列の目標部分上への少なくとも一つのパターンの投影中の前記基板の相対移動の前記軸周りの鏡像であるデバイス製造方法。 - 複数の層からデバイスを集積するために前記第1系列の目標部分上に複数のパターンを投影し、そして
前記複数のパターンの全ての投影中に同じ移動パターンを使う請求項1に記載されたデバイス製造方法。 - 複数の層からデバイスを集積するために前記第2系列の目標部分上に複数のパターンを投影し、そして
前記複数のパターンの全ての投影中に、この第1系列の目標部分上への投影中に使った移動パターンの鏡像である、同じ移動パターンを使う請求項2に記載されたデバイス製造方法。 - 各目標部分の全てを基板が静止している間に一度に露出する請求項1に記載されたデバイス製造方法。
- 基板の投影システムに対する走査移動中に各目標部分を露出する請求項1に記載されたデバイス製造方法。
- 前記第2系列の目標部分の各露出中の基板の走査移動が前記第1系列の対応する目標部分の露出中の走査移動の鏡像である請求項5に記載されたデバイス製造方法。
- 前記軸が前記走査移動中の前記基板の相対運動の方向と平行である請求項5に記載されたデバイス製造方法。
- 前記軸が基板の直径である請求項1に記載されたデバイス製造方法。
- 前記回転工程が、基板の第1側にある第1系列の目標部分上への少なくとも一つのパターンの前記投影工程と基板の第2側にある第2系列の目標部分上への少なくとも一つのパターンの前記投影工程との間に基板をある軸周りに180度回転する工程を含む請求項1に記載されたデバイス製造方法。
- 基板の第1側にある1からnまで連続するn個の目標部分の各々上にパターンを転写する工程、および
基板の第2側にある1からnまで連続するn個の目標部分の各々上にパターンを転写する工程を含むデバイス製造方法であって、
1からnまでの各iに対して、この第1側のi番目の目標部分がこの第2側のi番目の目標部分と実質的に正反対であるデバイス製造方法。 - 前記第1側にあるn個の目標部分の各々上にパターンを転写する工程および前記第2側にあるn個の目標部分の各々上にパターンを転写するおよび工程の少なくとも一つがn個の目標部分の各々上へパターンを投影する工程を含む請求項10に記載されたデバイス製造方法。
- 基板をこの基板の直径周りに回転する工程を含む請求項10に記載されたデバイス製造方法。
- 基板をこの基板の直径周りに180度回転する工程を含む請求項12に記載されたデバイス製造方法。
- 前記第1側にあるn個の目標部分の各々上にパターンを転写する工程が、n個の目標部分の少なくとも一つに対して、前記転写工程中に基板を直径と平行に動かす工程を含む請求項12に記載されたデバイス製造方法。
- 前記第1側にあるn個の目標部分の各々上にパターンを転写する工程が、n個の目標部分の少なくとも一つに対して、基板が静止している間に前記目標部分上にパターンを露出する工程を含む請求項10に記載されたデバイス製造方法。
- 前記第1側にあるn個の目標部分の各々上にパターンを転写する工程が、n個の目標部分の少なくとも一つに対して、基板が動いている間にこの目標部分上にパターンを露出する工程を含む請求項10に記載されたデバイス製造方法。
- 前記基板の第1側にある1からnまで連続するn個の目標部分の各々上にパターンを転写する工程が基板およびパターンの少なくとも一つを他に対して、前記第1側と実質的に平行な平面で、転写の各連続する対間の順次移動を含む第1経路で動かす工程、および
前記基板の第2側にある1からnまで連続するn個の目標部分の各々上にパターンを転写する工程がこの基板およびこのパターンの少なくとも一つを他に対して、前記第1側と実質的に平行な平面で、転写の各連続する対間の順次移動を含む第2経路で動かす工程、を含み、
前記平面での第2経路がその平面での第1経路と実質的に同じである請求項10に記載されたデバイス製造方法。 - 前記基板の第1側にある1からnまで連続するn個の目標部分の各々上にもう一つのパターンを転写する工程を更に含み、
前記基板の第1側にあるn個の目標部分の各々上にもう一つのパターンを転写する工程が基板およびこのパターンの少なくとも一つを他に対して、前記第1側と実質的に平行な平面で、前記第1経路で動かす工程を含む請求項17に記載されたデバイス製造方法。 - 前記基板の第2側にある1からnまで連続するn個の目標部分の各々上にもう一つのパターンを転写する工程を更に含み、
前記基板の第2側にあるn個の目標部分の各々上にもう一つのパターンを転写する工程が基板およびこのパターンの少なくとも一つを他に対して、前記第1側と実質的に平行な平面で、第2経路で動かす工程を含む請求項18に記載されたデバイス製造方法。 - 機械実行可能命令の集合を記憶する記憶媒体であって、デバイス製造方法を記述する前記集合が、
基板の第1側にある1からnまで連続するn個の目標部分の各々上にパターンを転写する工程、および
基板の第2側にある1からnまで連続するn個の目標部分の各々上にパターンを転写する工程、を含み、
1からnまでの各iに対して、前記第1側のi番目の目標部分が第2側のi番目の目標部分と実質的に正反対である記憶媒体。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/830,408 US7244534B2 (en) | 2004-04-23 | 2004-04-23 | Device manufacturing method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005311378A true JP2005311378A (ja) | 2005-11-04 |
Family
ID=35136866
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005124989A Ceased JP2005311378A (ja) | 2004-04-23 | 2005-04-22 | デバイス製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7244534B2 (ja) |
JP (1) | JP2005311378A (ja) |
CN (1) | CN1690863A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008078648A (ja) * | 2006-09-20 | 2008-04-03 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6096453B2 (ja) * | 2012-09-27 | 2017-03-15 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5361132A (en) * | 1992-11-24 | 1994-11-01 | Massachussetts Institute Of Technology | Back to front alignment of elements on a substrate |
US6768539B2 (en) * | 2001-01-15 | 2004-07-27 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
TW594431B (en) * | 2002-03-01 | 2004-06-21 | Asml Netherlands Bv | Calibration methods, calibration substrates, lithographic apparatus and device manufacturing methods |
-
2004
- 2004-04-23 US US10/830,408 patent/US7244534B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-04-22 CN CNA2005100717570A patent/CN1690863A/zh active Pending
- 2005-04-22 JP JP2005124989A patent/JP2005311378A/ja not_active Ceased
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008078648A (ja) * | 2006-09-20 | 2008-04-03 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2011018915A (ja) * | 2006-09-20 | 2011-01-27 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
US8330936B2 (en) | 2006-09-20 | 2012-12-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7244534B2 (en) | 2007-07-17 |
CN1690863A (zh) | 2005-11-02 |
US20050238970A1 (en) | 2005-10-27 |
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RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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