JP2009105385A - リソグラフィシステム、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィシステムが2つのリソグラフィ装置を含む。第1のリソグラフィ装置が、基板の第1のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影する。第2のリソグラフィ装置が、放射ビームをスプリットし、スプリットビームを再結合して、干渉パターンを生成する干渉アレンジを含む。マスキングアレンジアレンジが、干渉パターンの一部分を選択的に送り、投影システムが、基板の第2のターゲット部分上に干渉パターンの選択的に送られた部分を投影する。
【選択図】図1
Description
基板のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影する第1のリソグラフィ装置、ならびに
第2のリソグラフィ装置であって、
放射ビームを調整する照明システムと、
放射ビームをスプリットビームに分けるビームスプリットアレンジおよびスプリットビームを再結合する再結合アレンジを備え、フィールド面で干渉パターンを生成する干渉アレンジと、
干渉パターンの一部分を選択的に送るマスキングアレンジと、
基板を保持する基板テーブルと、
基板のターゲット部分の選択領域上に干渉パターンの選択的に送られた部分を投影する投影システムと
を備える第2のリソグラフィ装置
を備えるリソグラフィシステムが提供される。
放射ビームを調整する照明システムと、
放射ビームをスプリットし、スプリットビームを再結合して、フィールド面で干渉パターンを生成する干渉アレンジと、
干渉パターンの一部分を選択的に送るマスキングアレンジと、
基板を保持する基板テーブルと、
基板のターゲット部分上に干渉パターンの選択的に送られた部分を投影する投影システムと
を備える装置が提供される。
第1のリソグラフィ装置を使用して、
放射ビームを調整し、
放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成し、
基板の第1のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影するステップと、
第2のリソグラフィ装置を使用して、
放射ビームを調整し、
放射ビームをスプリットし、スプリットビームを再結合して、フィールド面で干渉パターンを生成し、
干渉パターンの一部分を選択的に送り、
基板の第2のターゲット部分上に干渉パターンの選択的に送られた部分を投影するステップと
を含むデバイス製造方法が提供される。
‐ 放射ビームB(例えばUV放射またはDUV放射)を調整するように構成配置される照明システム(イルミネータ)ILと、
‐ パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構築され、いくつかのパラメータにしたがってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成配置される第1のポジショナPMに連結される、支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
‐ 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、いくつかのパラメータにしたがって基板を正確に位置決めするように構成配置される第2のポジショナPWに連結される、基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
‐ 基板Wの(例えば1つまたは複数のダイを含む)ターゲット部分C上に、パターニングデバイスMAにより放射ビームBに与えられたパターンを投影するように構成配置される投影システム(例えば屈折型投影レンズシステム)PLと
を備える。
Claims (14)
- 基板のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影する第1のリソグラフィ装置、ならびに
第2のリソグラフィ装置であって、
放射ビームを調整する照明システムと、
前記放射ビームをスプリットビームに分けるビームスプリットアレンジおよび前記スプリットビームを再結合する再結合アレンジを備え、フィールド面で干渉パターンを生成する干渉アレンジと、
前記干渉パターンの一部分を選択的に送るマスキングアレンジと、
前記基板を保持する基板テーブルと、
前記基板の前記ターゲット部分の選択領域上に前記干渉パターンの前記選択的に送られた部分を投影する投影システムと
を備える第2のリソグラフィ装置
を備えるリソグラフィシステム。 - 前記基板テーブルは、前記フィールド面上の前記干渉パターンの前記送られた部分の移動に対応して移動する、請求項1に記載のリソグラフィシステム。
- 前記再結合アレンジは、0.7から0.95の範囲より選択される開口数で前記スプリットビームを再結合する、請求項1に記載のリソグラフィシステム。
- 前記投影システムは、1.4から1.8の範囲より選択される開口数で前記基板の前記ターゲット部分の選択領域上に前記干渉パターンの前記選択的に送られた部分を投影する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記投影システムは、マイナス2の縮小率を有する、請求項1に記載のリソグラフィシステム。
- 前記照明システムは、0.05以下のσ値を有するビームを生成する、請求項1に記載のリソグラフィシステム。
- 放射ビームを調整する照明システムと、
前記放射ビームをスプリットし、スプリットビームを再結合して、フィールド面で干渉パターンを生成する干渉アレンジと、
前記干渉パターンの一部分を選択的に送るマスキングアレンジと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分上に前記干渉パターンの前記選択的に送られた部分を投影する投影システムと
を備える装置。 - 前記基板テーブルは、前記フィールド面上の前記干渉パターンの前記送られた部分の移動に対応して移動する、請求項7に記載の装置。
- 前記再結合アレンジは、0.7から0.95の範囲より選択される開口数で前記スプリットビームを再結合する、請求項7に記載の装置。
- 前記投影システムは、1.4から1.8の範囲より選択される開口数で前記基板の前記ターゲット部分の選択領域上に前記干渉パターンの前記選択的に送られた部分を投影する、請求項7に記載の装置。
- 前記投影システムは、マイナス2の縮小率を有する、請求項7に記載の装置。
- 前記照明システムは、0.05以下のσ値を有するビームを生成する、請求項7に記載の装置。
- 第1のリソグラフィ装置を使用して、
放射ビームを調整し、
前記放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成し、
基板の第1のターゲット部分上に前記パターン付き放射ビームを投影するステップと、
第2のリソグラフィ装置を使用して、
放射ビームを調整し、
前記放射ビームをスプリットし、スプリットビームを再結合して、フィールド面で干渉パターンを生成し、
前記干渉パターンの一部分を選択的に送り、
前記基板の第2のターゲット部分上に前記干渉パターンの前記選択的に送られた部分を投影するステップと
を含むデバイス製造方法。 - 請求項1に記載の前記システムを使用して製造されるデバイス。
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